【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空镀膜设备领域，尤其是涉及通过电子束蒸发镀膜的一种用于真空镀膜膜厚测试的支架。
技术介绍
在真空镀膜领域，为了形成一定厚度规格的镀层薄膜，在批量镀膜之前，需要通过对镀膜的膜厚测试来对真空镀膜工艺参数进行测试调整，为此，必须使用镀膜测试样品进行测试薄膜样品制作，并且测量镀膜测试样品的实际膜厚，进而调整镀膜工艺。特别是在等离子电视机适用的等离子显示屏测试和制造过程中，必须对等离子显示屏的金属氧化物如氧化镁导电薄膜的膜厚进行精确测试，以调整真空镀膜设备的镀膜工艺参数，减少镀膜成品的不良率，提闻广品质量。目前，真空镀膜领域中常用的是电子束蒸发镀膜，该方法是依靠皮尔斯电子枪发射的高能电子束流轰击靶材，使靶材受热瞬间蒸发，最终沉积到相对位置的基片上，从而在基片上形成一层镀膜。对于薄膜厚度控制中的膜厚测试项目，传统的膜厚测试方法分为两种:第一种，直接使用玻璃基板(母板)进行镀膜，然后切割成样片，再用扫面电子显微镜进行截面表征，测量出膜层厚度。该测试方法所需的样品制作复杂，测试成本高，并且玻璃母板容易发生破碎，不宜量产应用。第二种，使用高温胶带将载玻片贴附在玻璃基板...
【技术保护点】
一种用于真空镀膜膜厚测试的支架，其特征在于：所述的支架包括支架加强板（1）、样品托板（2）和样品放置口（3），所述的支架加强板（1）与样品托板（2）之间紧固连接，所述的样品放置口（3）设置在样品托板（2）上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李凯，段冰，彭开烨，
申请(专利权)人：四川虹欧显示器件有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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