一种改善平面靶镀膜均匀性的屏蔽罩制造技术

本发明专利技术涉及一种磁控溅射镀膜机平面靶的屏蔽罩带气流挡板，用来改善镀膜均匀性，属于薄膜太阳能电池技术领域。本发明专利技术目的是提供一种PVD镀膜机用的能够改善镀膜均匀性的屏蔽罩装置和屏蔽方法，以求改善镀膜均匀性提高薄膜太阳能电池的转换效率。本发明专利技术的技术特征屏蔽罩（10）有保护气管（9）上气流小孔气的气流挡板（11）使气流充分混合的的疏流装置。方法是用屏蔽罩（10）上带有气流挡板（11），其间有一小长狭缝，用气流挡板（11）合围气管（9）保护其上的小孔不被轰击。本发明专利技术显著的改善了膜层的均匀性和镀膜质量。提高了镀膜机的镀膜质量。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种改善平面靶镀膜均匀性的屏蔽罩，包括真空腔体，平面靶及基片，其特征在于屏蔽罩（10）上有一个气流疏流装置，该装置保护气管（9）上出气的小气孔,所说的屏蔽罩（10）与气流疏流装置之间有一条狭长的朝向靶材（12）的缝隙（R）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李毅，
申请(专利权)人：深圳市创益科技发展有限公司，
类型：发明
国别省市：