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本发明涉及一种磁控溅射镀膜机平面靶的屏蔽罩带气流挡板，用来改善镀膜均匀性，属于薄膜太阳能电池技术领域。本发明目的是提供一种PVD镀膜机用的能够改善镀膜均匀性的屏蔽罩装置和屏蔽方法，以求改善镀膜均匀性提高薄膜太阳能电池的转换效率。本发明的技术...
该专利属于深圳市创益科技发展有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市创益科技发展有限公司授权不得商用。

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