放射线敏感性树脂组合物、聚合物及化合物制造技术

本发明专利技术涉及一种放射线敏感性树脂组合物，其含有［A］具有来自下述式（1）表示的化合物的结构单元（I）和来自下述式（2）表示的化合物的结构单元（II）的聚合物、［B］产酸体和［C］有机溶剂。式（1）中，R1与构成内酯环的碳原子一起形成碳原子数3～8的环结构。R2为氟原子、羟基或碳原子数1～20的有机基团。a为0～6的整数。a为2以上时，多个R2可以相同或不同，也可以互相结合而形成环结构。其中，R1和R2中的至少1个基团具有杂原子或卤素原子。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及放射线敏感性树脂组合物、聚合物及化合物。
技术介绍
化学增幅型的放射线敏感性树脂组合物通过以KrF准分子激光、ArF准分子激光为代表的远紫外线、电子束的照射在曝光部生成酸，通过将该酸作为催化剂的化学反应而使曝光部和未曝光部对于显影液的溶解速度产生差异，在基板上形成抗蚀剂图案。作为将能够以更短波长进行微细加工的ArF准分子激光作为光源的光刻材料，例如可以使用含有在骨架中具有在193nm区域没有大吸收的脂环式烃的聚合物的组合物。作为上述聚合物，提出了含有来自具有螺内酯结构的单体的结构单元的聚合物(参照日本特开2002-82441号公报、日本特开2002-308937号公报)。放射线敏感性树脂组合物通过含有这种利用具有螺内酯结构的单体而得到的聚合物，能够提高显影对比度。其中，抗蚀剂图案的进一步微细化不断发展的现今，对抗蚀剂被膜所要求的性能水平进一步提高，要求更优异的分辨性能(例如，灵敏度高、能够得到良好的图案形状)，以往的放射线敏感性树脂组合物有改善的余地。专利文献1:日本特开2002-82441号公报专利文献2:日本特开2002-308937号公报
技术实现思路
本专利技术是基于上述情况而进行的，目的在于提供分辨性能优异的放射线敏感性树脂组合物、适合作为该放射线敏感性树脂组合物的树脂成分的聚合物以及能够形成该聚合物的化合物。为了解决上述课题而进行的专利技术是一种放射线敏感性树脂组合物，其中，含有:[A]具有来自下述式(1)表示的化合物的结构单元(I)和来自下述式(2)表示的化合物的结构单元(II)的聚合物(以下也称为“[A]聚合物”)，[B]产酸剂，和[C]有机溶剂。

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.09.30 JP 2010-220482;2010.10.07 JP 2010-227871.一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有:[A]具有结构单元I和结构单元II的聚合物,所述结构单元I来自下述式(I)表示的化合物，所述结构单元II来自下述式(2)表示的化合物，[B]产酸剂，和[C]有机溶剂，2.根据权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，所述式(I)中的R1和R2中的至少I个基团具有氧原子。3.根据权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，所述式(I)中的R1为在骨架链中含有选自-CO-、-coo-, -0C0-, -O-、-NR-, -S-、-SO-和-SO2-中的至少 I 种的(a+2) 价的链状烃基，其中，R为氢原子或碳原子数I 20的有机基团。4.根据权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：池田宪彦，中村真一，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：
国别省市：