一种三阴极等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法技术

本发明专利技术涉及等离子喷涂技术领域，具体涉及一种三阴极等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法。所述方法，包括如下步骤：步骤(1)，选择纯度大于99.95％的Y2O3粉末；步骤(2)，对被喷涂的基材表面进行预处理；步骤(3)，通过三阴极等离子喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂，制备出Y2O3涂层。本发明专利技术采用三阴极等离子喷涂技术，从三个阴极到同一的阳极产生三个独立的电弧，形成稳定的等离子喷射，使用本发明专利技术制备的Y2O3陶瓷涂层十分致密，孔隙率低，涂层应力小，与基体的结合强度高，且具有优异的耐刻蚀性能。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种三阴极等离子喷涂技术制备Y2O3涂层的方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤(1)，选择纯度大于99.95％的Y2O3粉末；步骤(2)，对被喷涂的基材表面进行预处理；步骤(3)，通过三阴极等离子喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂，制备出Y2O3涂层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王文东，刘邦武，夏洋，李勇滔，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：