一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法技术

本发明专利技术涉及Y2O3陶瓷涂层制造技术领域，具体涉及一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法。所述方法，包括如下步骤：步骤(1)，选择纯度大于99.95％的Y2O3粉末；步骤(2)，对待喷涂的基材表面进行预处理；步骤(3)，通过等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂，制备出Y2O3涂层；步骤(4)，将步骤(4)中制备出的Y2O3涂层进行等离子体氢处理，即可得到黑色的Y2O3涂层。本发明专利技术利用等离子体氢还原法制备的黑色Y2O3涂层，具有耐刻蚀、耐脏的性能，且成本较低。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤(1)，选择纯度大于99.95％的Y2O3粉末；步骤(2)，对待喷涂的基材表面进行预处理；步骤(3)，通过等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂，制备出Y2O3涂层；步骤(4)，将步骤(4)中制备出的Y2O3涂层放置于等离子体氢处理设备，进行等离子体氢处理，即可得到黑色的Y2O3涂层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：邵花，王文东，刘邦武，夏洋，李勇滔，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：