一种低压等离子喷涂技术制备Y2O3陶瓷涂层的方法技术

本发明专利技术涉及Y2O3陶瓷涂层制造技术领域，具体涉及一种低压等离子喷涂技术制备Y2O3陶瓷涂层的方法。所述制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法，包括如下步骤：步骤(1)，选择纯度大于99.95％的Y2O3粉末；步骤(2)，对待喷涂的基材表面进行预处理；步骤(3)，在所述等离子喷涂开始时先将所述真空等离子喷涂设备的真空喷涂室抽真空至1-10Pa，再充入惰性气体Ar，此时使所述真空喷涂室内压力达1.3×103Pa；继续充入H2，使其压力达到103～104Pa后进行喷涂作业；制备出Y2O3涂层。本发明专利技术是在低压条件下制备Y2O3涂层，使用本发明专利技术制备的Y2O3涂层为黑色，具有优异的耐刻蚀、耐脏等性能，且成本较低。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种低压等离子喷涂技术制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤(1)，选择纯度大于99.95％的Y2O3粉末；步骤(2)，对待喷涂的基材表面进行预处理；步骤(3)，选择Ar和H2为离子气体，通过真空等离子喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂，在所述等离子喷涂开始时先将所述真空等离子喷涂设备的真空喷涂室抽真空至1?10Pa，再充入惰性气体Ar，此时使所述真空喷涂室内压力达1.3×103Pa；继续充入H2，使其压力达到103～104Pa后进行喷涂作业；制备出黑色Y2O3涂层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：邵花，王文东，刘邦武，夏洋，李勇滔，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：