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本发明涉及Y2O3陶瓷涂层制造技术领域，具体涉及一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法。所述方法，包括如下步骤：步骤(1)，选择纯度大于99.95％的Y2O3粉末；步骤(2)，对待喷涂的基材表面进行预处理；步骤(3)，通过等离子体喷...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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