大气辉光放电低温等离子体镀膜装置制造方法及图纸

技术编号:8653346 阅读:274 留言:0更新日期:2013-05-01 20:36
本发明专利技术提供了一种大气辉光放电低温等离子体镀膜装置,属于材料制备领域,该装置可降低设备复杂程度、易操作,而且可节约整体镀膜工艺的成本,其结构包括放电管,所述的放电管上端设有管塞,管塞上设有通孔;所述的管塞的底部通过盲孔插置有棒状电极;所述的放电管的下端设有中空倒置截头的圆锥体,在圆锥体的底部水平设有环状电极,在环状电极的上方设有环状电介质;所述的圆锥体的侧壁上还设有粉体输送口;所述的环状电极通过导线与电源一端相连接,同时接地,棒状电极上端通过导线穿过管塞与电源另一端相连接。它结构简单,操作方便,降低了镀膜成本,扩大了使用范围,因而具有很好的推广利用价值。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及材料制备领域,尤其涉及镀膜
,具体地说是一种大气辉光放电低温等离子体镀膜装置
技术介绍
目前,低温等离子体广泛的应用于材料表面改性、生物灭菌、表面清洁和污水清洁等领域,而在镀膜领域中,主要利用的是基于真空等离子体和非真空热等离子体的技术。其中真空等离子体镀膜具有薄膜生长致密、制备速度快、易于控制薄膜成分等优点,但由于其设备复杂、成本较高,且不易操作,因此该技术不利于降低镀膜成本。而热等离子体镀膜,其镀膜温度较高,不适合在纸张等耐热性差的基底材料上镀膜,而且该技术能量消耗大,不利于扩大其使用范围。
技术实现思路
本专利技术的技术任务是针对上述现有技术中的不足提供一种大气辉光放电低温等离子体镀膜装置,该装置可降低设备复杂程度、易操作,而且可节约整体镀膜工艺的成本。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:提供一种大气辉光放电低温等离子体镀膜装置,包括放电管,所述的放电管上端设有管塞,管塞上设有通孔;所述的管塞的底部通过盲孔插置有棒状电极;所述的放电管的下端设有中空倒置截头的圆锥体,在圆锥体的底部水平设有环状电极,在环状电极的上`方设有环状电介质;所述的圆锥体的侧壁上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种大气辉光放电低温等离子体镀膜装置,其特征在于:包括放电管,所述的放电管上端设有管塞,管塞上设有通孔;所述的管塞的底部通过盲孔插置有棒状电极;所述的放电管的下端设有中空倒置截头的圆锥体,在圆锥体的底部水平设有环状电极,在环状电极的上方设有环状电介质;所述的圆锥体的侧壁上还设有粉体输送口;所述的环状电极通过导线与电源一端相连接,同时接地,棒状电极上端通过导线穿过管塞与电源另一端相连接。

【技术特征摘要】
1.一种大气辉光放电低温等离子体镀膜装置,其特征在于:包括放电管,所述的放电管上端设有管塞,管塞上设有通孔;所述的管塞的底部通过盲孔插置有棒状电极;所述的放电管的下端设有中空倒置截头的圆锥体,在圆锥体的底部水平设有环状电极,在环状电极的上方设有环状电介质;...

【专利技术属性】
技术研发人员:向勇闫宗楷常小幻
申请(专利权)人:电子科技大学
类型:发明
国别省市:

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