一种制备Y2O3陶瓷涂层的改进方法技术

本发明专利技术涉及Y2O3陶瓷涂层制造技术领域，具体涉及一种制备Y2O3陶瓷涂层的改进方法。所述制备Y2O3陶瓷涂层的改进方法，包括如下步骤：步骤(1)，选择纯度大于99.95％的Y2O3粉末；步骤(2)，对待喷涂的基材表面进行预处理；步骤(3)，选择Ar和H2气体为离子气体，通过等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂，并且在所述等离子喷涂时向等离子焰流中通入O2，制备出Y2O3涂层。本发明专利技术以Ar/H2为喷涂气体并在等离子焰流中加入O2，以避免Y2O3的缺氧，以本发明专利技术方法制备的Y2O3涂层为纯正白色，色泽均匀，不再出现杂色斑点，并且具有优异的耐刻蚀性能。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种制备Y2O3陶瓷涂层的改进方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤(1)，选择纯度大于99.95％的Y2O3粉末；步骤(2)，对待喷涂的基材表面进行预处理；步骤(3)，选择Ar和H2气体为离子气体，通过等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂，并且在所述等离子喷涂时向等离子焰流中通入O2，制备出Y2O3涂层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：邵花，王文东，刘邦武，夏洋，李勇滔，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：