单体沉积设备和该单体沉积设备的单体排出方法技术

技术编号:8703608 阅读:208 留言:0更新日期:2013-05-16 17:03
本发明专利技术涉及一种单体沉积设备和利用该单体沉积设备的单体排出方法。根据本发明专利技术的该单体沉积设备包括:主腔室,该主腔室用于将单体沉积在基板上;单体腔室,该单体腔室用于收纳处于蒸气状态的单体;闸门,该闸门用于将所述单体腔室打开,从而将单体从所述单体腔室放出到所述主腔室;单体回收单元,该单体回收单元用于从自所述单体腔室排放到外部的气体回收单体;第一真空泵,该第一真空泵连接至所述主腔室或所述单体回收单元,并且抽吸所述主腔室或所述单体腔室中的气体;第一阀,该第一阀用于打开或关闭所述主腔室和所述第一真空泵之间的流动路径;以及第二阀,该第二阀用于打开或关闭所述单体回收单元和所述第一真空泵之间的流动路径。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种单体沉积设备和单体沉积设备的单体排出方法。更具体地说,本专利技术涉及一种用于将残余气体有效地排到在其上沉积单体的主腔室和接收单体的单体腔室的外部的单体沉积设备、以及该单体沉积设备的单体排放方法。
技术介绍
有机发光二极管(OLED)显示装置是表征为其本身发光的下一代显示装置,并且就视角、对比度、反应速率和功耗来说都优于液晶显示装置(IXD)。OLED显示装置包括以矩阵方式连接在扫描线和数据线之间的0LED,以构成像素。OLED包括阳极电极、阴极电极以及形成在阳极电极和阴极电极之间的有机薄膜,该有机薄膜包括空穴传输层、有机发光层和电子传输层。当向阳极电极和阴极电极施加预定电压时,通过阳极电极注入的空穴与通过阴极电极注入的电子在发射层重新组合,并且在该过程中产生的能量差导致发出光。然而,OLED包括有机材料,因而易受氢或氧的影响,并且阴极电极由金属形成,因而容易由于空气中的潮气而氧化,从而导致电气特性和发射特性下降。因此,为了克服这些缺点,将呈罐或杯状的由金属形成的容器或由玻璃或塑料形成的包封基板布置成面对形成OLED的基板,以利用诸如环氧树脂之类的密封剂密封。使用容器或包封基板的技术不容易应用于薄或柔性的OELD显示装置。结果,为了密封薄或柔性的OLED显示器,已经提出了薄膜包封技术。如图1所示,作为薄膜包封技术的示例,一种在0LED2上交替地堆叠有机层3和无机层4以形成包封层的方法符合OLED显示装置所要求的大约IOE - 6/g/m2/天的水蒸气传输率(WVTR)的要求,因而获得广泛使用。参照图2,被转化为处于蒸气状态的单体m从收纳呈液体状态的单体的单体箱21供应至单体腔室20。当基板I在主腔室10中被输送到单体腔室20的上方时,闸门30打开,单体m被放出到基板I以被沉积在基板I上。之后,单体m通过UV射线固化而变成聚合物,从而形成有机层3。这里,为了均匀地维持有机层3的特征,例如,密度、厚度等,将单体腔室20中的不必要的残余气体排出十分必要。这里,残余气体是指除了形成薄膜材料的单体m的蒸气(或单体m蒸气和源气体)之外的气体。也就是说,该气体包括了从单体腔室20的表面排出的气体、从单体m材料生成的不必要的气体或用于净化供应单体m的流动路径的氩气。为了将这些气体排出,通常将真空泵41连接至单体腔室20以将不必要的残余气体排放到外部。此外,主腔室10维持其中的真空状态,即大约IOE 一4到IOE 一7托(torr)的真空。用于维持真空状态的真空泵42被安装成连接至主腔室10。然而,安装在排放单体腔室20中的残余气体的流动路径上的真空泵41除了将残余气体排出之外还导致形成薄膜的单体m排出,从而真空泵41短时间内就已经被污染。真空泵的严重污染已经致使沉积设备的操作停止,并且执行维护的次数增加,从而设备的生产率降低。另外,连接至单体腔室20的真空泵41仅仅用来将单体腔室20中的残余气体排放到外部,但是尚未用来将主腔室20中的真空状态保持为相对于高于单体腔室20。
技术实现思路
技术问题因此,为了解决这些缺陷,提供了单体沉积设备和该单体沉积设备的单体排放方法,以选择性地将真空泵连接至主腔室或单体腔室,从而增强真空泵的利用率,并且以安装能够回收单体腔室和真空泵之间的单体的单元,从而改进真空泵的维护,并且降低更换真空泵所带来的成本。技术方案在一个总体方面中,提供了一种单体沉积设备,该单体沉积设备包括:主腔室,在该主腔室中将单体沉积在基板上;单体腔室,该单体腔室被构造成收纳处于蒸气状态的单体;闸门,该闸门被构造成将所述单体腔室打开,从而将单体从所述单体腔室放出到所述主腔室;单体回收单元,该单体回收单元被构造成从自所述单体腔室排放到外部的气体回收单体;第一真空泵,该第一真空泵连接至所述主腔室或所述单体回收单元,并且被构造成抽吸所述主腔室或所述单体腔室中的单体或气体;第一阀,该第一阀被构造成打开或关闭所述主腔室和所述第一真空泵之间的流动路径;以及第二阀,该第二阀被构造成打开或关闭所述单体回收单元和所述第一真空泵之间的流动路径。所述单体回收单元可以为单体冷捕集器,该单体冷捕集器被构造成利用从外部提供的制冷剂将处于蒸气状态的单体凝结并回收。所述单体沉积设备可进一步包括第二真空泵,该第二真空泵连接至所述主腔室并被构造成抽吸所述主腔室中的单体或气体。在另一个总体方面中,提供了一种使用以上的单体沉积设备排放单体的方法,该方法包括:第一排放操作,在该第一排放操作中,当单体正被从所述单体腔室放出到所述主腔室并且正在执行沉积过程时,所述主腔室和所述第一真空泵之间的流动路径被所述第一阀打开,而所述单体回收单元和所述第一真空泵之间的流动路径被所述第二阀关闭,从而通过所述第一阀和所述第一真空泵将所述主腔室中的单体或气体排出;和第二排放操作,在该第二排放操作中,当停止向所述单体腔室供应单体而供应用于净化将所述单体腔室连接至外部的流动路径的净化气体时,所述主腔室和所述第一真空泵之间的所述流动路径被所述第一阀关闭,而所述单体回收单元和所述第一真空泵之间的所述流动路径被所述第二阀打开,从而通过所述单体回收单元、所述第二阀和所述第一真空泵将所述单体腔室中的气体排出。该单体排放方法还包括第三排放操作,在该第三排放操作中,抽吸所述主腔室中的单体或气体的所述第二真空泵连接至所述主腔室,并且所述主腔室中的单体或气体被第二真空泵排出到外部,所述第三排出操作与所述第一排放操作和所述第二排放操作一起执行。有益效果根据单体沉积设备和该单体沉积设备的单体排放方法,真空泵选择性地连接至主腔室或者单体腔室,从而提高真空泵的利用率。另外,根据单体沉积设备和该单体沉积设备的单体排放方法,在单体腔室和真空泵之间安装了能够回收单体的单元,从而改善了真空泵的维护,并降低了更换真空泵所带来的成本。此外,根据单体沉积设备和该单体沉积设备的单体排放方法,利用了其中使用制冷剂将处于蒸气状态的单体凝结以回收的单体回收单元,从而能够提高单体回收率。附图说明图1是示出了采用了薄膜包封技术的有机发光二极管(OLED)显示装置的示例的图。图2是示意性示出了传统的单体沉积设备的示例的图。图3是示意性示出了单体沉积设备的示例的图。图4是示出了图3的单体沉积设备中的单体冷捕集器的示例的立体图。图5是示出了图4的单体冷捕集器的图,冷却板被从该单体冷捕集器移除。图6是示出了图3的单体沉积设备的示例的图,其中主腔室连接至第一真空泵。图7是示出了图3的单体沉积设备的示例的图,其中单体腔室连接至第一真空泵。具体实施方式将参照附图详细描述单体沉积设备和单体沉积设备的单体排放方法的示例性实施方式。图3是示意性示出了单体沉积设备的示例的图,图4是示出了图3的单体沉积设备中的单体冷捕集器的示例的立体图,图5是示出了图4的单体冷捕集器的示例的图,冷却板被从该单体冷捕集器移除。参照图3至图5,单体沉积设备选择性地将真空腔室连接至主腔室或单体腔室,并且包括主腔室110、单体腔室120、闸门130、单体回收单元、第一真空泵151、第一阀161和第二阀162。主腔室110是用来放置形成有有机发光二极管(OLED )2并沉积用于密封0LED2的薄膜的空间。在主腔室110中,设置有支撑基板I的基板支撑器(未示出)和使本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种单体沉积设备,该单体沉积设备包括:主腔室,在该主腔室中将单体沉积在基板上;单体腔室,该单体腔室被构造成收纳处于蒸气状态的单体;闸门,该闸门被构造成将所述单体腔室打开,从而将单体从所述单体腔室放出到所述主腔室;单体回收单元,该单体回收单元被构造成从自所述单体腔室排放到外部的气体回收单体;第一真空泵,该第一真空泵连接至所述主腔室或所述单体回收单元,并且被构造成抽吸所述主腔室或所述单体腔室中的单体或气体;第一阀,该第一阀被构造成打开或关闭所述主腔室和所述第一真空泵之间的流动路径;以及第二阀,该第二阀被构造成打开或关闭所述单体回收单元和所述第一真空泵之间的流动路径。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:尹亨硕南宫晟泰李泰成朴一濬
申请(专利权)人:SNU精密股份有限公司
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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