一种纯氧气氛退火装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种纯氧气氛退火装置，包括：石英管、供氧单元、压力控制仪、加热单元、温控仪、温度采集仪和电源；所述石英管，包括一可放置待退火原料的空腔；所述供氧单元，向石英管的空腔中供氧；所述压力控制仪，安装在供氧管上，控制所述供氧源向所述石英管的内腔提供预设压力的氧气；所述加热单元，向所述石英管的空腔提供热能；所述温度采集仪，采集加热单元的温度信号传输给温控仪；所述温控仪，根据所述温度采集仪输入的信号调节所述电阻丝的发热功率；所述电源，向所述加热单元供电。本实用新型专利技术纯氧气氛退火装置，适用于激光晶体和闪烁晶体等材料的纯氧气氛退火，退火效率高，温场稳定，简单可靠，通用性好，能耗低，降低了退火成本。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及退火设备领域，特别是涉及一种适用于激光晶体和闪烁晶体等的后期退火处理的纯氧气氛退火装置。
技术介绍
当今，提拉法(丘克拉斯基法)是生长晶体最常用的方法，用这种方法生长高品质高温氧化物晶体(宝石、钇铝石榴石、硅酸钇镥、钒酸钇、钆镓石榴石、尖晶石等)通常需要在铱金坩埚中进行，以减少生长环境对熔体和晶体的污染。由于提拉法生长晶体时固液界面的温度梯度较大，所生长的晶体热应力较大，在晶体加工之前一般需要退火处理；另一方面，由于铱金坩埚在高温环境下容易氧化，晶体生长时的炉膛必须保持高真空或充入中性保护气体(Ar或N2)，大部分生长出的晶体由于缺氧会产生氧空位点缺陷和色心，氧空位缺陷对氧化物晶体的光学性能产生重要影响，在光子与晶体的相互作用过程中，氧空位成为电子陷阱或通过附加通道导致激发能损耗，从而产生的无福射跃迁是抑制晶体发光效率的主要原因{Journal of Applied Physics 99,113518 (2006)}，因此大部分无氧环境下生长的氧化物晶体，为提高其性能，都需要后期有氧退火处理。除此之外，还有一些晶体由于晶体内部激活离子变价的需要，必须在氧化气氛中退火后才能本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纯氧气氛退火装置，其特征在于，包括：石英管、供氧单元、压力控制仪、加热单元、温控仪、温度采集仪和电源；其中：?所述石英管，包括一可放置待退火原料的空腔、和所述空腔连通的进气口和出气口；?所述供氧单元，向所述石英管的空腔中供氧，包括供氧源、一端和所述供氧源连通且另一端和所述石英管的进气口连通的供氧管和安装在所述供氧管上控制供氧管开闭的阀门；?所述压力控制仪，安装在所述供氧管上，控制所述供氧源向所述石英管的内腔提供预设压力的氧气；?所述加热单元，向所述石英管的空腔提供热能，包括包围在所述石英管的空腔外的陶瓷管、缠绕在所述陶瓷管上的电阻丝；?所述温控仪，与所述电阻丝和温度采集仪电性连接，根据所述...

【技术特征摘要】
1.一种纯氧气氛退火装置，其特征在于，包括:石英管、供氧单元、压力控制仪、加热单元、温控仪、温度采集仪和电源；其中: 所述石英管，包括一可放置待退火原料的空腔、和所述空腔连通的进气口和出气口 ； 所述供氧单元，向所述石英管的空腔中供氧，包括供氧源、一端和所述供氧源连通且另一端和所述石英管的进气口连通的供氧管和安装在所述供氧管上控制供氧管开闭的阀门； 所述压力控制仪，安装在所述供氧管上，控制所述供氧源向所述石英管的内腔提供预设压力的氧气； 所述加热单元，向所述石英管的空腔提供热能，包括包围在所述石英管的空腔外的陶瓷管、缠绕在所述陶瓷管上的电阻丝； 所述温控仪，与所述电阻丝和温度采集仪电性连接，根据所述温度采集仪输入的信号调节所述电阻丝的发热功率； 所述温度采集仪，放置在加热单元中，采集加热单元的温度信号传输给温控仪；所述电源，向所述加热单元供电，和电阻丝通过导线连接。2.根据权利要求1所述的纯氧气氛退火装置，其特征在于，所述压力控制仪为减压阀。3.根据权利要求1所述的纯氧气氛退火装置，其特征在于，所述温控仪为PID控温仪，所述温度采集仪为热电偶，所述PID控温仪通过补偿导线和所述热电偶连接，所述PID控温仪安装在连接电阻丝和电源的导线上，所述热电偶采集温度信号传输给...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈建玉，
申请(专利权)人：苏州四海常晶光电材料有限公司，
类型：实用新型
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