本实用新型公开了一种还原气氛双感应钼坩埚提拉法晶体生长装置，坩埚底部分别放氧化锆坩埚托和锆托的坩埚托，氧化锆坩埚托上放置钼坩埚，钼坩埚周围套一个同心的钼保温环作为主要的感应发热体；钼桶外放置同心的下氧化锆保温桶，上保温采用硬质上碳毡保温...

本发明公开了一种还原气氛双感应钼坩埚提拉法晶体生长方法，其特点是：将需要生长的晶体原料放入钼坩埚中，钼坩埚外放置一个比钼坩埚长约20％的钼桶，下保温采用氧化锆，上保温采用硬质碳毡保温，用扩散泵抽高真空，冲入Ar(N2)+H2的混合气体，...

本发明公开了一种采用布儒斯特角加工Nd:YAP激光晶体的方法，包括：晶体的选料、定向、切割和抛光；所述选料，采用He‑Ne激光照射肉眼可见散射点；所述定向，采用X‑射线定向仪；所述晶体切割，采用X‑射线定向仪；所述抛光，采用钻石微粉用四...

本发明一种钙镁离子与铈离子共掺钇铝石榴石晶体及其制备方法，该晶体的化学式为：Ca3xMg3yCe3zY3(1‑x‑y‑z)Al5O12，生长工艺步骤如下：采用中频感应加热提拉法生长该晶体，发热体为铱金坩埚，原料经焙烧后按比例称量：原料经...

本发明公开了一种ABO3晶体及其生长方法，晶体化学式：Y0.5La0.5Al0.5B0.5O3(YLABP)，生长工艺步骤如下：采用中频感应加热提拉法生长该晶体，发热体为铱金坩埚，原料经焙烧后按比例称量：原料经称配，研混均匀后经等静压机...

本发明公开了一种钕铒共掺GYAG激光晶体及其制备方法，该晶体的化学式为：NdxErxGd2xY3‑4xAl5O12，生长工艺步骤如下：采用中频感应加热提拉法生长该晶体，发热体为铱金坩埚，原料经焙烧后按比例称量：原料经称配，研混均匀后经等...

本发明公开了一种采用布儒斯特角加工Cr4+:YAG激光晶体的方法，包括：晶体的选料、定向、切割和抛光；所述选料，采用He‑Ne激光照射肉眼可见散射点；所述定向，采用X‑射线定向仪；所述晶体切割，采用X‑射线定向仪；所述抛光，采用钻石微粉...

本发明公开了一种采用布儒斯特角加工Nd:YAG激光晶体的方法，包括：晶体的选料、定向、切割和抛光；所述选料，采用He‑Ne激光照射肉眼可见散射点；所述定向，采用X‑射线定向仪；所述晶体切割，采用X‑射线定向仪；所述抛光，采用钻石微粉用四...

本发明公开了一种钠钙镱离子共掺YAG超快闪烁晶体及其制备方法，化学式为：Na3xCa3yYb3zY3(1‑x‑y‑z)Al5O12，式中x＝0.0001～0.01,y＝0.0001～0.01，z＝0.05～0.3,x为Na离子的掺杂量，...

本发明公开了一种二价金属阳离子与铈共掺镥铝石榴石晶体及其制备方法，化学式为：M3xCe3yLu3(1‑x‑y)Al5O12，骤如下：采用中频感应加热提拉法生长该晶体，发热体为铱金坩埚，原料经焙烧后按比例称量：原料经称配，研混均匀后经等静...

本发明公开了一种掺铈铝酸钆镥石榴石晶体及其制备方法，化学式为：Ce3xLu3(1‑x‑y)Gd3yAl5O12其生长工艺步骤如下：采用中频感应加热提拉法生长该晶体，发热体为铱金坩埚，原料经焙烧后按比例称量：原料经称配，研混均匀后经等静压...

本发明公开了一种钠镁镱离子共掺YAG超快闪烁晶体及其制备方法，化学式为：Na3xMg3yYb3zY3(1‑x‑y‑z)Al5O12，式中x＝0.0001～0.01,y＝0.0001～0.01，z＝0.05～0.3,x为Na离子的掺杂量，...

本发明公开了一种镁镱离子共掺YAG超快闪烁晶体及其制备方法，化学式为：Mg3xYb3yY3(1‑x‑y)Al5O12，式中x＝0.0001～0.01，y＝0.05～0.3，x为Mg离子的掺杂量，y为基质Yb离子的掺杂量，Mg离子和Yb离...

一种掺铈铝酸钆钇石榴石高温闪烁晶体及其制备方法，该晶体的化学式为：Ce3xGy3(1-x-y)Y3yAl5O12，工艺步骤如下：采用中频感应加热提拉法生长Ce3xGy3(1-x-y)Y3yAl5O12晶体，发热体为铱金坩埚，原料经焙烧后...

本实用新型公开了一种功能晶体生长用铱金坩埚的新型铱金圆环盖板，所述铱金盖板，是一个有一定弧度的纯铱金盖板；所述铱金圆环盖板，空心顶部2r范围：40mm≤2r≤200mm，外圆环直径2R范围：60mm≤2R≤300mm；所述铱金圆环盖板水...

本实用新型公开了一种纯氧气氛退火装置，包括：石英管、供氧单元、压力控制仪、加热单元、温控仪、温度采集仪和电源；所述石英管，包括一可放置待退火原料的空腔；所述供氧单元，向石英管的空腔中供氧；所述压力控制仪，安装在供氧管上，控制所述供氧源向...

本发明公开了一种纯氧气氛退火的装置及退火方法，将需要退火的材料装入石英管中，石英管放置于均匀缠绕镍铬丝的氧化铝陶瓷套管中，石英管通入稳定流量的氧气，炉内温度均匀缓慢升高，发热体的热量以辐射的形式传给待退火晶体，控温仪控制升温速率、恒温温...