一种单晶硅副炉室清理器制造技术

本实用新型专利技术属于清理器，特别涉及一种单晶硅副炉室清理器。本实用新型专利技术特征在于在一个略小于副炉室内径的圆环（1）上垂直固定一根长于副炉室的直杆（3），在直杆（3）的另一端安装手柄保护套（4），在圆环（1）上缠绕清洁布（2）。本实用新型专利技术的优点是：清洁布（2）紧贴副炉室内壁，可充分清理副炉室内壁上的杂物，清理速度快，效率高，操作方便，实用简单，副炉室清理彻底，提高拉晶的环境纯度、单晶硅产品质量和生产效率。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于清理器，特别涉及一种单晶硅副炉室清理器。二、技术背景制备单晶硅的时候，清理副炉室是很重要的一环，在生产过程中，炉内都会产生挥发物和一些杂质附着到副炉室内壁上，在高温下易形成二次挥发，使拉晶的环境纯度不高，容易造成拉晶环节效率低下。因此仔细清理副炉室是很重要的一环，不能小觑。单晶炉副炉室为①320mmX 2500mm的细长筒体，清理副炉室的老办法是用一根约2.8m长的长杆，一端缠毛巾和无尘擦炉纸，然后喷无水乙醇，由人员握另一端，伸入副炉室后上下、旋转擦拭清理，这样的清理方式耽误时间，影响效率，且此种方法为点式操作，从而使副炉室清理不彻底，影响产品质量和生产效率。三、
技术实现思路
本技术的目的是要解决现有技术存在的问题，提供一种能够彻底清理单晶炉副炉室内杂物的工具。本技术是这样实现的:一种单晶硅副炉室清理器，其特征在于在一个略小于副炉室内径的圆环(I)上垂直固定一根长于副炉室的直杆(3),在直杆(3)的另一端安装手柄保护套(4)，在圆环(I)上缠绕清洁布(2)。本技术是这样工作的:在本技术清洁布(2)表面喷洒擦洗溶剂，手握手柄保护套(4)，使圆环(I)上的清洁布(2)紧贴副炉室内壁，进行往复擦拭即可。本技术的优点是:清洁布(2)紧贴副炉室内壁，可充分清理副炉室内壁上的杂物，清理速度快，效率高，操作方便，实用简单，副炉室清理彻底，提闻拉晶的环境纯度、单晶娃广品质量和生广效率。四附图说明图1为本技术结构示意图。图2为图1右视图图中:1、圆环 2、清洁布3、直杆4、手柄保护套。五具体实施方式实施例1:一种单晶硅副炉室清理器，在一个略小于副炉室内径的圆环(I)上垂直固定一根长于副炉室的直杆(3)，在直杆(3)的另一端安装手柄保护套(4)，在圆环(I)上缠绕清洁布(2)。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种单晶硅副炉室清理器，其特征在于在一个略小于副炉室内径的圆环（1）上垂直固定一根长于副炉室的直杆（3），在直杆（3）的另一端安装手柄保护套（4），在圆环（1）上缠绕清洁布（2）。

【技术特征摘要】
1.一种单晶硅副炉室清理器，其特征在于在一个略小于副炉室内径的圆环(I)上垂直固定一根长于副...

【专利技术属性】
技术研发人员：闫卫东，李栎，
申请(专利权)人：阳光能源青海有限公司，
类型：实用新型
国别省市：