一种纳米氧化镓及其应用制造技术

本发明专利技术的目的是提供一种对全氟羧酸类物质有高催化活性的纳米氧化镓及其应用，纳米氧化镓的制备包括以下步骤：（1）将硝酸镓水合物溶解在水中，加入表面调控剂；（2）将步骤（1）所得溶液水浴加热；（3）将步骤（2）所得产物置于水热釜中，恒温加热；（4）将步骤（3）水热釜中产物煅烧，最后得到纳米氧化镓产物。将所得产物与185nm/254nm紫外线结合，可提高不同水质中降解全氟羧酸类物质的效率，有效去除水中全氟羧酸类物质。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光催化技术，属于环境持久性有机污染物控制
，具体涉及一种纳米氧化镓的合成以及将该纳米氧化镓作为催化剂，以真空紫外光作光源，光催化分解水和废水中的微量全氟羧酸类物质。
技术介绍
全氟羧酸类物质是一类新的在环境中普遍存在，具有持久性、生物累积性和生物毒性的有机污染物。国内外许多研究表明，全氟羧酸类物质广泛存在于自然界，可以通过呼吸和食物链形式被生物体摄取，最终富集于生物体中的血、肝、肾、脑，具有包括遗传毒性、雄性生殖毒性、神经毒性、发育毒性、内分泌干扰作用等多种毒性，被认为是一类具有全身多器脏毒性的环境污染物。全氟羧酸类物质主要通过氟聚物的加工和使用释放到环境中，主要污染途径之一是通过工厂废水排放。而降解全氟羧酸类物质的方法有高温燃烧法、超声热解法、光化学法。高温燃烧法在分解全氟羧酸类物质的同时需要同时焚烧掉用来吸附的活性碳，因而成本高；超声热解法借助于超声产生的气泡壁处超过800 K的高温进行热解反应，具有电耗大的缺点。光化学法降解速度慢，反应时间长。光催化法利用紫外光源(如发射185/254nm紫外线的低压汞灯)辐照具有光催化活性的半导体催化剂，紫外光激发半导体本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纳米氧化镓，其特征在于，该纳米氧化镓的制备包括以下步骤：（1）将硝酸镓水合物溶解在水中，加入表面调控剂；（2）将步骤（1）所得溶液水浴加热；（3）将步骤（2）所得产物置于水热釜中，恒温加热；（4）将步骤（3）水热釜中产物煅烧，最终得到纳米氧化镓产物。

【技术特征摘要】
1.种纳米氧化镓，其特征在于，该纳米氧化镓的制备包括以下步骤: (1)将硝酸镓水合物溶解在水中，加入表面调控剂； (2)将步骤(1)所得溶液水浴加热； (3)将步骤(2)所得产物置于水热釜中，恒温加热； (4)将步骤(3)水热釜中产物煅烧，最终得到纳米氧化镓产物。2.据权利要求1所述纳米氧化镓，其特征在于，其中加入的表面调控剂是聚乙烯醇。3.据权利要求1所述纳米氧化镓，其特征在于，所述水浴加热的温度是60-90°C，时间是0.5-10分钟。4.据权利要求 1所述纳米氧化镓，其特征在于，所述恒温加热温度是140-220°C。5.据权利要求1所述纳米氧化镓，其特征在于，步骤(I)中pH控制在1.0-7.0,所述硝酸镓水合物和表面调控剂的质量比是1:0.01—1:1，硝酸镓水合物和水的质量比是...

【专利技术属性】
技术研发人员：张彭义，邵田，金玲，李振民，张博，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：发明
国别省市：