充电构件、其生产方法、处理盒和电子照相设备技术

提供相对介电常数高和表面自由能小并且能够长期保持高的特定介电常数的充电构件。还提供有效地增加电子照相设备的打印速度和寿命的处理盒以及电子照相设备。充电构件具有支承体、弹性层和表面层，其中所述表面层为固化的涂布剂层，所述涂布剂包含水解性硅烷化合物和在表面上具有0.7质量%至35质量%的羟基的氧化钛颗粒的反应产物。所述电子照相设备和所述处理盒各自包括所述充电构件。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于电子照相设备的充电构件和处理盒等。
技术介绍
从充分确保电子照相感光构件和充电构件之间的抵接辊隙的观点，用于使电子照相感光构件的表面带电的充电构件通常具有支承体、设置于支承体上的弹性层(导电性弹性层)和设置于弹性层上的表面层。专利文献I公开了设置有通过将例如金属氧化物如氧化锆和氧化钛或复合氧化物如钛酸钡分散于粘结剂中获得的表面层的充电构件作为能够防止低温、低湿环境下发生带电不良的充电构件。另外，专利文献2公开了设置有包含具有氟化烷基和氧化烯基的聚硅氧烷的表面层的充电构件作为能够抑制污物粘着到充电构件表面并能够长期保持稳定的带电性能的充电构件。如上所述，已将各种功能如充电构件的带电性能的改善和其表面特性的改善赋予到充电构件的表面层。另外，从最近电子照相设备在从高温、高湿环境至低温、低湿环境范围内多种环境下使用的实事的观点，已开始需要在该环境下发挥稳定的高的带电性能的充电构件。引文列表专利文献专利文献1:日本专利申请特开H06-159349号公报专利文献2 :日本专利申请特开第2007-004102号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题在该情况下，考虑到改善充电构件的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.08.09 JP 2010-1787351.一种充电构件，其包括:支承体、弹性层和表面层； 所述表面层包括涂布剂的固化产物层，所述涂布剂包含水解性硅烷化合物和氧化钛颗粒的反应产物，所述氧化钛颗粒的表面上具有含量为0.7质量％至35质量％的羟基。2.根据权利要求1所述的充电构件，其中所述水解性硅烷化合物的Si原子数与所述氧化钛颗粒的Ti原子数之比Si/Ti为0.5至10。3.根据权利要求1或2所述的充电构件，其中将所述氧化钛颗粒进行碱处理和酸处理或进行酸处理。4.根据权利要求1至3任一项所述的充电构件，其中 所述水解性硅烷化合物包括选自由下式(I)和(2)表示的化合物的一种或多种，并且其至少一种为由式(I)表示的化合物:式(I)R1-Z-S1-(OR2)3式(2) R3-S1-(...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃村典子，黑田纪明，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：
国别省市：