电子照相用构件、处理盒和电子照相设备制造技术

本发明专利技术涉及电子照相用构件、处理盒和电子照相设备。电子照相用构件具有导电性基体和至少一层导电性树脂层，其中最外层的所述导电性树脂层包含聚氨酯树脂，并且所述聚氨酯树脂具有有机硅接枝氟树脂的结构和由式(1)表示的结构。

【技术实现步骤摘要】
电子照相用构件、处理盒和电子照相设备
本专利技术涉及用于电子照相设备中的电子照相用构件、以及具有所述电子照相用构件的处理盒和电子照相设备。
技术介绍
电子照相用构件是欲用于各种用途的构件，如显影剂承载构件、转印构件、充电构件、显影剂供给构件、清洁构件和显影剂层厚度调节构件。从高的图像品质和高的耐久性的观点，电子照相用构件有时在表面上设置有表面层。例如，在显影剂承载构件或显影剂层厚度调节构件的情况下，包含聚氨酯树脂的表面层由于优异的耐磨耗性和优异的对显影剂的带电赋予性能而广泛使用。然而，在具有这样的表面层的电子照相用构件中，显影剂对表面的附着尚未充分地控制。当使用具有该电子照相用构件作为显影剂承载构件的电子照相设备形成大量的电子照相图像时，例如，调色剂附着至电子照相用构件的表面，以致在一些情况下形成调色剂薄膜。下文中，其中形成调色剂薄膜的现象在一些情况下可以称为调色剂成膜(tonerfilming)。于是，为了防止调色剂成膜，提出了在聚氨酯树脂中包含具有高脱模性的氟原子和硅原子。日本专利特开No.2014-146010提出了一种显影辊，其包含形成异氰脲酸酯的多异氰酸酯预聚物和具有含氟原子的官能团或有机硅系官能团(silicone-basedfunctionalgroup)的化合物的反应物作为树脂成分。日本专利特开No.2014-146010记载了，在这样的显影辊中，具有低表面能的具有含氟原子的官能团或有机硅系官能团的化合物在显影辊的表面附近偏析，因此可以使对调色剂的附着力降低，从而可以防止调色剂的经时成膜。此外，日本专利特开No.2009-151141提出了一种显影辊，其具有通过用多异氰酸酯使具有羟基的有机硅接枝氟树脂固化而形成的表面树脂层。然而，通过本专利技术人的检查证实了，日本专利特开No.2014-146010和No.2009-151141中记载的显影辊具有耐调色剂成膜性(tonerfilmingresistance)，但是，同样当使显影辊在高温高湿环境下、在其中从其它构件向其施加负荷的状态下、长时间静置时，在显影辊表面的与其它构件的接触部位发生了塑性变形。显影辊上发生塑性变形的部分在调色剂输送性能方面与没有塑性变形的其它部分不同。因此，由塑性变形导致的不均一的浓度有时在使用其中已发生塑性变形的显影辊而形成的电子照相图像中出现。
技术实现思路
本专利技术的一个方面旨在于，提供一种电子照相用构件，其具有耐调色剂成膜性，并且甚至当在高温高湿环境下长时间向其施加负荷时也难以发生塑性变形。本专利技术的另一个方面旨在于，提供甚至在高温高湿环境下也能够稳定地输出高等级的电子照相图像的处理盒和电子照相图像形成设备。根据本专利技术的一个方面，提供一种电子照相用构件，其具有导电性基体和至少一层导电性树脂层，其中最外层的导电性树脂层包含聚氨酯树脂，并且聚氨酯树脂具有有机硅接枝氟树脂的结构和由式(1)表示的结构：式(1)中，A1表示选自由(A101)、(A102)、(A103)和(A104)组成的组的至少一种结构。(A101)是包含由式(A101a)表示的结构、并且包含由式(A101b)和式(A101c)之一或二者表示的结构的结构：(A102)是包含由式(A102a)表示的构成单元、并且包含由式(A102b)和式(A102c)之一或二者表示的构成单元的结构：式(A102a)至(A102c)中，R1和R2各自独立地表示氢原子或碳原子数为1以上且4以下的烷基。(A103)是由式(A103a)表示的结构：式(A103a)中，R3和R4各自独立地表示氢原子或碳原子数为1以上且4以下的烷基，和m表示7以上的整数。(A104)是由式(A104a)表示的结构：式(A104a)中，R5和R6各自独立地表示氢原子或碳原子数为1以上且4以下的烷基，和p表示6以上的整数。根据本专利技术的另一方面，提供一种处理盒，其构成为可拆卸地安装至电子照相设备的主体，并且所述处理盒具有上述电子照相用构件。根据本专利技术的另一方面，提供一种电子照相设备，其具有上述电子照相用构件。参考附图，从以下示例性实施方案的说明，本专利技术的进一步特征将变得明显。附图说明图1A至1C是根据一个实施方案的导电性辊的实例的截面图。图2是根据一个实施方案的导电性刮板的实例的截面图。图3是根据一个实施方案的电子照相设备的实例的示意性构造图。图4是根据一个实施方案的处理盒的实例的示意性构造图。图5是导电性树脂层中的聚氨酯树脂实例的结构的一部分的结构式。图6是导电性刮板的变形量的测量设备的示意图。具体实施方式根据一个实施方案的电子照相用构件是具有导电性基体和至少一层导电性树脂层的电子照相用构件，其中最外层的导电性树脂层包含聚氨酯树脂，并且聚氨酯树脂具有有机硅接枝氟树脂的结构和由以下示出的式(1)表示的结构。式(1)中，A1表示选自由下述的结构(A101)至(A104)组成的组的至少一种结构。(A101)是包含由以下示出的式(A101a)表示的结构、并且包含由以下示出的式(A101b)和式(A101c)之一或二者表示的结构的结构：(A102)是包含由以下示出的式(A102a)表示的构成单元、并且包含由以下示出的式(A102b)和式(A102c)之一或二者表示的构成单元的结构：式(A102a)至(A102c)中，R1和R2各自独立地表示氢原子或碳原子数为1以上且4以下的烷基。(A103)是由以下示出的式(A103a)表示的结构：式(A103a)中，R3和R4各自独立地表示氢原子或碳原子数为1以上且4以下的烷基，和m表示7以上的整数。(A104)是由以下示出的式(A104a)表示的结构：式(A104a)中，R5和R6各自独立地表示氢原子或碳原子数为1以上且4以下的烷基，和p表示6以上的整数。本专利技术人推测当在高温高湿环境下长时间向电子照相用构件施加负荷时这样的电子照相用构件也难以发生塑性变形的原因如下。据认为，在日本专利特开No.2009-151141中记载的通过用多异氰酸酯使有机硅接枝氟树脂固化而形成的表面树脂层中，将具有低极性的有机硅接枝氟树脂的结构和具有高极性的氨基甲酸酯键混合。因此，使具有相互接近的极性的物质聚集的力起作用，以致该力沿着其中具有低极性的有机硅接枝氟树脂和氨基甲酸酯键彼此分离的方向起作用。此外，源自异氰酸酯的结构还具有高的结晶性。因此，有机硅接枝氟树脂的硅氧烷结构很可能会被推出到晶体结构的外部而聚集。结果，推测的是，具有高的自由度的有机硅接枝氟树脂的硅氧烷结构聚集从而在表面树脂层中形成域。这样的域通过相对弱的分子间相互作用而保持。因此，当电子照相用构件接受来自其它构件的负荷，以致树脂变形时，域容易崩塌(collapse)。于是，在那以前不相互接近的表面树脂层中的氨基甲酸酯键相互接近从而形成新的氢键。氢键是相对的强键。因此，表面树脂层容易固定为从原始状态变形的状态。结果，据认为，当使具有有机硅接枝氟树脂的结构的树脂层在从其它构件向其施加负荷的状态下长时间静置时，塑性变形容易发生。作为由本专利技术人基于该考虑进一步检查的结果，发现了塑性变形的发生可以通过将特定的结构，即由式(1)表示的结构，引入至聚氨酯树脂中来防止。据认为，由式(1)表示的结构是具有比根据日本专利特开No.2009-151141的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子照相用构件，其特征在于，其包括：导电性基体；和至少一层导电性树脂层，其中最外层的所述导电性树脂层包含聚氨酯树脂，并且所述聚氨酯树脂具有有机硅接枝氟树脂的结构和由式(1)表示的结构：

【技术特征摘要】
2015.12.04 JP 2015-2379921.一种电子照相用构件，其特征在于，其包括：导电性基体；和至少一层导电性树脂层，其中最外层的所述导电性树脂层包含聚氨酯树脂，并且所述聚氨酯树脂具有有机硅接枝氟树脂的结构和由式(1)表示的结构：其中，式(1)中，A1表示选自由(A101)、(A102)、(A103)和(A104)组成的组的至少一种结构；(A101)结构包含由以下示出的式(A101a)表示的结构，并且包含由式(A101b)和式(A101c)之一或二者表示的结构：(A102)结构包含由式(A102a)表示的构成单元，并且包含由式(A102b)和(A102c)之一或二者表示的构成单元：其中，式(A102a)至(A102c)中，R1和R2各自独立地表示氢原子或碳原子数为1以上且4以下的烷基；(A103)结构由式(A103a)表示：其中，式(A103a)中，R3和R4各自独立地表示氢原子或碳原子数为1以上且4以下的烷基，和m表示7以上的整数；和(A104)结构由式(A104a)表示：其中，式(A104a)中，R5和R6各自独立地表示氢原子或碳原子数为1以上且4以下的烷基，和p表示6以上的整数。2.根据权利要求1所述的电子照相用构件，其中所述有机硅接枝氟树脂的结构具有由式(2)和式(3)表示的结构：其中，式(2)中，R7表示选自由以下组成的组的任一个：氢原子、卤素原子、碳原子数为1以上且10以下的烷基、以及碳原子数为6以上且10以下的取代或未取代的芳基，R8和R9各自独立地表示选自由以下组成的组的任一个：氢原子、卤素原子、碳原子数为1以上且10以下的烷基、以及碳原子数为6以上且10以下的取代或未取代的芳基，和其中，式(3)中，R10表示选自由以下组成的组的任一个：氢原子、卤...

【专利技术属性】
技术研发人员：有村秀哉，漆原圣平，山田真树，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP