采用电磁加热的PVD设备制造技术

本发明专利技术适用于材料镀膜设备领域，提供了一种采用电磁加热的PVD设备，包括壳体，壳体具有密封的腔体，壳体内设置有将腔体分隔为上腔和下腔的密封装置，用于容放靶材并将靶材蒸发形成镀膜的蒸发舟设置于下腔内，壳体两相对的侧面分别开设有供待镀材料进入的进料口、供待镀材料离开的出料口，下腔体内还设置有用于加热靶材的电磁加热组件，电磁加热组件套设于蒸发舟的外周。本发明专利技术提供的一种采用电磁加热的PVD设备，密封的腔体内设置有用于加热的电磁加热组件，其套设在蒸发舟外周，对蒸发舟内的靶材加热，采用电磁对靶材进行加热，其加热速度快、控温准确，提高了生产效率，并且，形成的镀膜均匀平整，达到了使用的要求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于材料镀膜设备领域，尤其涉及一种采用电磁加热的PVD设备。
技术介绍
PVD是英文Physical Vapor Deposition(物理气相沉积)的缩写,指利用物理过程实现物质转移，将靶材蒸发源的原子或分子转移到基材表面上的过程。它的作用是可以是某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能。PVD基本方法为:在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。现有技术中，加热方式一般都是使用电热圈发热，通过传导的方式把热量传到料筒上，而这样只有内侧的热量传导到料筒上，外侧的热量大部分失散到空气中，存在热传导损失，并导致环境温度上升，另外电阻丝加热还有一个缺点就是功率密度低，有一些需要温度较高的场合就无法实现加热靶材，将靶材激发形成镀膜粒子。使用电热圈发热来加热靶材的方式效率低，所镀出来的膜厚也不均匀，镀膜表面粗糙。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述现有技术的不足，提供了一种采用电磁加热的PVD设备，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种采用电磁加热的PVD设备，包括壳体，所述壳体具有密封的腔体，所述壳体内设置有将所述腔体分隔为上腔和下腔的密封装置，用于容放靶材并将所述靶材蒸发形成镀膜的蒸发舟设置于所述下腔内，所述壳体两相对的侧面分别开设有供待镀材料进入的进料口、供所述待镀材料离开的出料口，其特征在于，所述下腔体内还设置有用于加热所述靶材的电磁加热组件，所述电磁加热组件套设于所述蒸发舟的外周。

【技术特征摘要】
1.一种米用电磁加热的PVD设备,包括壳体,所述壳体具有密封的腔体，所述壳体内设置有将所述腔体分隔为上腔和下腔的密封装置，用于容放靶材并将所述靶材蒸发形成镀膜的蒸发舟设置于所述下腔内，所述壳体两相对的侧面分别开设有供待镀材料进入的进料口、供所述待镀材料离开的出料口，其特征在于，所述下腔体内还设置有用于加热所述靶材的电磁加热组件，所述电磁加热组件套设于所述蒸发舟的外周。2.如权利要求1所述的采用电磁加热的PVD设备，其特征在于，所述电磁加热组件包括基架和缠绕于所述基架的线圈，所述线圈电连接有导线，所述导线的一端电连接于所述线圈，另一端延伸至壳体外且与外部电源电连接。3.如权利要求2所述的采用电磁加热的PVD设备，其特征在于，所述基架开设有用于容纳所述蒸发舟的安装孔，所述安装孔的形状与所述蒸发舟的外形相匹配，所述蒸发舟设置于所述安装孔内，所述蒸发舟上设置有容纳所述靶材的容纳腔。4.如权利要求3所述的采用电磁加热的PVD设备，其特征在于，所述下腔内于所述待镀材料的两侧设置有用于改变所述靶材受热后形成的镀膜粒子的运动轨迹的磁极，所述磁极相对设置且设置有两个。5.如权利要求1所述的采用电磁加热的PVD设备，其特征在于，所述基架和所述蒸发舟均连接有用于驱动所述基架和所述蒸发舟相对所述待镀材料移动的驱动装置，所述驱动装置包括具有螺纹的丝杆及驱动所述丝杆转动的第一电机，所述基架和所述蒸发舟均开设有与所述丝杆相匹配的螺纹孔，所述丝杆穿设于所述螺纹孔内。6.如权利要求1所述的采用电磁加热的PVD设备，其特征在于，所述进料口处和所述出料口处均设置有所述密封装置，所述密封装置包括弹性按压于所述待镀材料一面的第一滚...

【专利技术属性】
技术研发人员：王奉瑾，
申请(专利权)人：王奉瑾，
类型：发明
国别省市：