本发明专利技术提供搭载有相互特性不同的第1碳纳米管和第2碳纳米管的新型碳纳米管设备。碳纳米管设备具备：具有第1碳纳米管形成面（11）和第2碳纳米管形成面（12）的物体（1）、形成在第1碳纳米管形成面（11)的第1碳纳米管（101）以及形成于第2碳纳米管形成面（12）并相对于第1碳纳米管特性不同的第2碳纳米管（102）。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及碳纳米管设备、碳纳米管制造方法及碳纳米管制造装置。
技术介绍
在专利文献I中公开了一种电容器，其具有如下构造在基板内相互反向的上表面和下表面分别形成有碳纳米管。根据该电容器，形成在基板上表面的碳纳米管的长度与形成在基板下表面的碳纳米管的长度相同。在专利文献2中公开了一种碳纳米管制造装置，其设有在反应室设定基板的设置部和与设置在设置部的基板在上方隔着间隔相对的管状的I根气体供给管。根据该碳纳米管制造装置，气体供给管弯曲地形成。在气体供给管的周壁上形成有多个吹出口。根据其，在从气体供给管的多个吹出口向基板吹出反应气体时，将从各吹出口到基板的碳纳米管形成面的距离设定为100毫米以下。在专利文献3中公开了一种碳纳米管制造装置，其沿着与设置在反应室的平板状基板的上表面和下表面基本平行的方向供给反应气体，在基板的上表面和下表面形成碳纳米管。 专利文献1:日本特开2007-48907公报专利文献2 :日本特开2008-137831号公报专利文献3 日本特开2004-332093公报
技术实现思路
根据专利文献1，在基板上第I碳纳米管和第2碳纳米管以相互朝向相反方向反向的方式形成。对于第I碳纳米管和第2碳纳米管，长度等特性基本上是相互相同的。本专利技术是鉴于上述实际情况进行的，其课题在于提供一种新型碳纳米管设备，其搭载有相互特性不同的第I碳纳米管和第2碳纳米管，对使特性混合化有利。并且，以提供一种新型碳纳米管制造方法和碳纳米管制造装置为课题，其在对象物上的相同的碳纳米管形成面中，能够抑制形成在该相同的碳纳米管形成面的碳纳米管的差异。本专利技术的形态I所涉及的碳纳米管设备具备碳纳米管元件，所述碳纳米管元件具备具有第I碳纳米管形成面和第2碳纳米管形成面的物体、形成在物体的第I碳纳米管形成面上的第I碳纳米管以及形成在物体的第2碳纳米管形成面上并相对于第I碳纳米管特性不同的第2碳纳米管。在此，所谓特性是指物理方面特性和/或化学方面的特性。可以是碳纳米管(CNT)的长度、直径、根数、层数、结晶性、缺陷量、官能团种类、官能团量、密度、重量、分布等中的至少I个。本专利技术所涉及的碳纳米管设备可以兼有由第I碳纳米管带来的性能和由第2碳纳米管带来的性能。有利于使设备的特性混合化。本专利技术所涉及的碳纳米管设备可以应用于电双层电容器、锂离子电容器、燃料电池、锂电池、太阳能电池等能量设备。(2)本专利技术的形态2所涉及的碳纳米管制造方法是实施(i)准备工序和(ii )碳纳米管形成工序，其中，(i )准备工序(ia)准备具有用于形成碳纳米管的碳纳米管形成面的对象物，并且，准备(ib)具有反应室、气体供给室以及多个吹气口的气体通路形成构件，所述反应室用于容纳对象物，所述气体供给室隔着间隔与容纳于反应室中的对象物的碳纳米管形成面相对峙且沿着延设碳纳米管形成面的面方向延设，所述多个吹气口使气体供给室与反应室连通并且向反应室吹出气体供给室的反应气体，以及，(ic)加热源，其使对象物的碳纳米管形成面、气体通路形成构件、反应气体中的至少一个加热到碳纳米管形成温度；(ii )碳纳米管形成工序通过在使对象物的碳纳米管形成面、气体通路形成构件、反应气体中的至少一个加热到碳纳米管形成温度的状态下，将反应气体供给到气体供给室，沿着与反应室内的延设对象物碳纳米管形成面的面方向相交的方向，从吹出口向对象物的碳纳米管形成面吹出气体供给室的反应气体，在对象物的碳纳米管形成面形成碳纳米管。气体供给室隔着间隔与容纳于反应室的对象物的碳纳米管形成面相对峙且沿着延设碳纳米管形成面的面方向延设。多个吹出口使气体供给室与反应室连通且向反应室内的对象物吹出气体供给室的反应气体。因此，在吹出反应气体时，对于从各吹出口到对象物的碳纳米管形成面的最短距离L，使从各吹出口到对象物的碳纳米管形成面的最短距离L尽可能地均衡化。因此，在对象物上的相同的碳纳米管形成面中，减少在其碳纳米管形成面的各部位形成的碳纳米管的特性差异。(3)本专利技术的形态3所涉及的碳纳米管制造装置是在具有用于形成碳纳米管的碳纳米管形成面的对象物上制造碳纳米管的碳纳米管制造装置，具备(i)基体，(ii)气体通路形成构件，其设于基体，具有·隔着间隔与对象物的碳纳米管形成面相对峙且沿着延设对象物的碳纳米具有管形成面的面方向延设的对面壁；在对面壁以贯通其的方式形成的多个吹出口 ；以及，利用对面壁沿着延设对象物的碳纳米管形成面的面方向延设且与吹出口连通的气体供给室和与反应室连通的气体排出通路，(iii)加热源，其设于基体，使对象物的碳纳米管形成面、气体通路形成构件、反应气体中的至少一个加热到碳纳米管形成温度。气体供给室隔着间隔与容纳于反应室中的对象物的碳纳米管形成面相对峙且沿着延设碳纳米管形成面的面方向延设。多个吹出口使气体供给室与反应室连通且向反应室内的对象物吹出气体供给室的反应气体。因此，在吹出反应气体时，对于从各吹出口到对象物的碳纳米管形成面的最短距离L，使从各吹出口到对象物的碳纳米管形成面的最短距离L尽可能地均衡化。因此，在相同的碳纳米管形成面中，减少在其相同的碳纳米管形成面上形成的碳纳米管的差异。根据本专利技术所涉及的碳纳米管设备，搭载相互特性(例如碳纳米管的长度、直径、每单位面积的根数、层数、结晶性、缺陷量、官能团种类、官能团量、密度、重量、分布等中的至少一个)不同的第I碳纳米管和第2碳纳米管，有利于设备的特性混合化。根据本专利技术所涉及的碳纳米管制造方法和碳纳米管制造装置，气体供给室隔着间隔与容纳在反应室中的对象物的碳纳米管形成面相对峙且沿着延设碳纳米管形成面的面方向延设。多个吹出口使气体供给室与反应室连通且向反应室内的对象物吹出气体供给室的反应气体。因此，在吹出反应气体时，对于从各吹出口到对象物的碳纳米管形成面的最短距离L，使从各吹出口到对象物的碳纳米管形成面的最短距离L尽可能地均衡化。因此，在相同的碳纳米管形成面中，减少在其相同碳纳米管形成面形成的碳纳米管的差异。附图说明图1涉及制造方式1，表示碳纳米管制造装置概念的截面图。图2涉及制造方式I，是碳纳米管制造装置沿不同方向的截面图。图3涉及制造方式1，是碳纳米管制造装置要部的平面图。图4涉及制造方式1，表示第I吹出口和第2吹出口与物体的关系的截面图。图5涉及比较例1，表示形成在物体上的碳纳米管特性的电子显微镜照片图。图6涉及实施例1，是表示形成在物体上的碳纳米管特性的电子显微镜照片图。图7涉及实施例2，是表示形成在物体上的碳纳米管特性的电子显微镜照片图。图8涉及制造方式3，是表示碳纳米管制造装置概念的截面图。图9涉及制造方式4，是表示碳纳米管制造装置概念的截面图。图10涉及制造方式5，是碳纳米管制造装置沿不同方向的截面图。图11涉及制造方式6，是表示碳纳米管制造装置概念的截面图。图12涉及制造方式7 ，是表示碳纳米管制造装置概念的截面图。图13涉及实施方式2，是表示碳纳米管设备概念的截面图。图14涉及实施方式2，是表示碳纳米管设备概念的截面图。图15A涉及实施方式3，是表示碳纳米管设备概念的截面图。图15B涉及实施方式3，是表示碳纳米管设备概念的截面图。图16涉及实施方式4，是表示碳纳米管设备概念的截面图。图17涉及实施方式5，是表示碳纳米管设备概念的截面图。符号说明I表示物本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.08.04 JP 2010-175448;2010.08.04 JP 2010-175431.一种碳纳米管设备，具备碳纳米管元件，所述碳纳米管元件具备 具有第I碳纳米管形成面和第2碳纳米管形成面的物体， 形成在所述物体的所述第I碳纳米管形成面的第I碳纳米管，和 形成在所述物体的所述第2碳纳米管形成面且相对于所述第I碳纳米管特性不同的第2碳纳米管。2.根据权利要求1所述的碳纳米管设备，其中，所述特性是所述碳纳米管的长度、直径、每单位面积的根数、层数、结晶性、缺陷量、官能团种类、官能团量、密度、重量、分布等中的至少I个。3.根据权利要求1或2所述的碳纳米管设备，其中，并列设置有多个所述碳纳米管元件，并以如下方式配置邻接的所述碳纳米管元件的所述第I碳纳米管彼此互相对峙，并且邻接的所述碳纳米管元件的所述第2碳纳米管彼此互相对峙。4.根据权利要求1或2所述的碳纳米管设备，其中，并列设置有多个所述碳纳米管元件，并以如下方式配置互相邻接的所述碳纳米管元件的所述第I碳纳米管和所述第2碳纳米管相互对峙。5.一种碳纳米管制造方法，其特征在于，实施如下的(i )准备工序和(ii )碳纳米管形成工序， (i)准备工序准备具有用于形成碳纳米管的碳纳米管形成面的对象物， 并且准备具有反应室、气体供给室和多个吹出口的气体通路形成构件以及加热源，所述反应室用于容纳所述对象物，所述气体供给室隔着间隔与容纳于所述反应室中的所述对象物的所述碳纳米管形成面相对峙且沿着延设所述碳纳米管形成面的面方向延设，所述多个吹出口使所述气体供给室与所述反应室连通并且向所述反应室吹出所述气体供给室的反应气体，所述加热源使所述对象物的所述碳纳米管形成面、所述气体通路形成构件、所述反应气体中的至少一个加热到碳纳米管形成温度， (ii)碳纳米管形成工序在使所述对象物的所述碳纳米管形成面、所述气体通路形成构件、所述反应气体中的至少一个加热到碳纳米管形成温度的状态下，将所述反应气体供给到所述气体供给室，从而沿着与所述反应室内的延设所述对象物的所述碳纳米管形成面的面方向相交的方向，从所述吹出口向所述对象物的所述碳纳米管形成面吹出所述气体供给室的所述反应气体，在所述对象物的所述碳纳米管形成面上形成所述碳纳米管。6.根据权利要求5所述的碳纳米管制造方法，其中，在吹出所述反应气体时，将从所述吹出口到所述对象物的所述碳纳米管形成面的最短距离L相对表示为100时，对于各所述吹出口而言，最短距离L设定为75 125的范围内，...
【专利技术属性】
技术研发人员：古池阳祐，
申请(专利权)人：爱信精机株式会社，
类型：
国别省市：
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