一种新型薄膜太阳电池激光刻蚀装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种新型薄膜太阳电池激光刻蚀装置，包括激光器、扩束镜、聚焦镜和光束整形装置，所述扩束镜安装于激光器和聚焦镜之间，所述光束整形装置安装于激光器和所述扩束镜之间。本实用新型专利技术使用近似平顶的激光光斑对太阳电池的膜层进行刻划，相比高斯光斑，使用均匀光斑对激光能量利用的更加充分，便于激光功率的有效调整，降低边缘能量的损失；光斑内能量分布均匀，可以有效、准确的调节激光能量，刻蚀效果好，不损伤底层薄膜、残留物少，对要刻蚀薄膜以外的电池损伤小，改善刻蚀效果，对于衬底不透明，刻蚀难度较大的薄膜电池，使用均匀光斑可以从膜层正面刻蚀，提高激光刻蚀效果，更适宜工业应用。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种太阳电池激光刻蚀装置，特别是涉及一种新型薄膜太阳电池激光刻蚀装置。
技术介绍
激光刻蚀是薄膜太阳电池制造过程中的环节。为获得大面积的薄膜太阳电池组件，通常采用多个单元电池串联集成的工作模式，通过三道激光刻蚀工艺，分别刻蚀电池的不同膜层，把大面积电池分割成若干独立单元电池，并形成集成结构把单元电池串联起来，工业生产中通常使用激光刻蚀工艺实现。在目前的薄膜太阳电池激光刻蚀中，通常采用高斯光斑透过玻璃衬底刻蚀，激光器输出的激光光斑呈圆形，能量为高斯分布，中心高边缘低，在中心能量集中的部位，容易在刻蚀半导体层(非晶硅、碲化镉、铜铟镓硒等)时损伤到透明导电薄膜，严重时影响电流收集，造成电池效率下降，并且刻蚀效果不稳定，工艺窗口较窄，容易出现不良产品。对于使用不透明衬底(如不锈钢)的薄膜太阳电池，需要从薄膜正面刻蚀，对激光能量分布的均匀性要求更高，高斯能量分布的激光光斑很难达到良好的效果。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决上述问题而提供一种能够对激光的能量分布进行调整，将中心部位过高的能量略向外分散，将边缘过于分散的能量略向内汇聚，对膜层进行均匀的刻蚀，达到减小中心部位膜层损伤、减小本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型薄膜太阳电池激光刻蚀装置，包括激光器、扩束镜和聚焦镜，所述扩束镜安装于所述激光器和所述聚焦镜之间，其特征在于：还包括光束整形装置，所述光束整形装置安装于所述激光器和所述扩束镜之间。

【技术特征摘要】
1.一种新型薄膜太阳电池激光刻蚀装置，包括激光器、扩束镜和聚焦镜，所述扩束镜安装于所述激光器和所述聚焦镜之间，其特征在于还包括光束整形装置，所述光束整形装置安装于所述激光器和所述扩束镜之间。2.根据权利要求1所述的一种新型薄膜太阳电池激光刻蚀装置，其特征在于所述光束整形...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏菁，董德庆，庄春泉，汪涛，马海文，敬雪碧，
申请(专利权)人：四川汉能光伏有限公司，
类型：实用新型
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