【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种硅片清洗机，特别涉及一种多槽循环硅片清洗机。
技术介绍
在硅片的生产工艺中，为了获得良好品质的硅片，要求附着在硅片表面的杂质量极少，因此，切割后的硅片需要进行清洗。目前，采用的清洗设备是7槽清洗机，7槽清洗机包括机壳、设置在机壳内的清洗槽、超声装置、提供纯水的给水管路及排出清洗液的排水管路，清洗槽一般为7个且其功能均固定不变。7槽清洗机在运作时，移载机械手会把装有硅片的清洗篮依次放入7个清洗槽内进行处理，硅片顺次通过漂洗、碱洗（用药水进行清洗）、漂洗、烘干工序而清洗完毕。现有的7槽清洗机存在以下缺陷：清洗方式非常有限，7个清洗槽顺次排列，其中，3、4槽一般为固定不变的药槽（对硅片采用药水进行碱洗），顺次排列的7个清洗槽中排列后方的槽体中的水会比前方槽体中的水更为干净，但是，因为3-4槽配置药水进行阻隔的缘故，导致了药液的污染率大大提高，从而使得换药频率也随之提高，因此现有的7槽清洗机对清洗药水的工艺配置有很大的限制；另外，若清洗槽水满溢流，只能通过开启7槽清洗机的溢流装置将其排出机体外，如此，溢流液无法进行循环利用，导致了清洗槽需要频繁换水，对水资源造成了极大地浪费，变相地增加了硅片的生产成本。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种方便硅片清洗工序调整和配置、可灵活改变药槽、节约水资源、能够保证产品清洗质量且环保的多槽循环硅片清洗机。本技术的目的通过以下的技术措施来实现：一种多槽循...
【技术保护点】
一种多槽循环硅片清洗机，包括机壳、设置在机壳内的清洗槽、用于为清洗槽提供纯水的给水管路及用于将清洗槽内清洗液排出的排水管路，其特征在于：所述清洗槽为至少6个顺次排列的槽体，依次主要由至少两个用于纯水清洗或药水碱洗的双功能清洗槽、至少两个用于药水碱洗的药洗清洗槽及至少两个用于纯水清洗的水洗清洗槽组成，其中，排序末位的水洗清洗槽为慢提预洗脱水槽，所述双功能清洗槽中相邻两个槽体之间设有连通该槽体而形成双功能清洗槽逆向顺次溢流的溢流管，所述排水管路通过三通阀门与溢流管相连以使溢流液流入下级槽体或者通过排水管路排出实现双功能清洗槽的纯水清洗或者药水碱洗双功能。
【技术特征摘要】
1.一种多槽循环硅片清洗机，包括机壳、设置在机壳内的清洗槽、用于为清
洗槽提供纯水的给水管路及用于将清洗槽内清洗液排出的排水管路，其特征在于：
所述清洗槽为至少6个顺次排列的槽体，依次主要由至少两个用于纯水清洗或药
水碱洗的双功能清洗槽、至少两个用于药水碱洗的药洗清洗槽及至少两个用于纯
水清洗的水洗清洗槽组成，其中，排序末位的水洗清洗槽为慢提预洗脱水槽，所
述双功能清洗槽中相邻两个槽体之间设有连通该槽体而形成双功能清洗槽逆向顺
次溢流的溢流管，所述排水管路通过三通阀门与溢流管相连以使溢流液流入下级
槽体或者通过排水管路排出实现双功能清洗槽的纯水清洗或者药水碱洗双功能。
2.根据权利要求1所述的多槽循环硅片清洗机，其特征在于：所述清洗槽为
9个，其中，所述双功能清洗槽是4个，即为第1-4清洗槽，所述药洗清洗槽是2
个，即为第5、6清洗槽，所述水洗清洗槽是3个，即为第7-9清洗槽，所述慢提
预洗脱水槽为第9清洗槽。
3.根据权利要求2所述的多槽循环硅片清洗机，其特征在于：位于所述第1、
2清洗槽之间的溢流管为第一溢流管，位于所述第2、3清洗槽之间的溢流管为第
二溢流管，位于所述第3、4清洗槽之间的溢流管为第三溢流管，所述第一、二、
三溢流管分别具有用于接收溢流液的进水端与用于将溢流液送至下级槽体的出水
端，所述进水端连接在上级清洗槽的槽口位置，所述出水端连接在下级清洗槽的
槽壁下部，所述第1-4清洗槽的槽口顺次增高以实现第1-4清洗槽逆向顺次溢流。
4.根据权利要求3所述的多槽循环硅片清洗机，其特征在于：所述第7-9清
洗槽逆向顺次溢流，所述多槽循环硅片清洗机还包括用于将第7-9清洗槽内的溢流
液输送至第1-4清洗槽的副槽溢流系统，所述副槽溢流系统主要由连接管路、副槽、
进水阀门和泵组成，其中，所述连接管路包括用于引入溢流液的溢流进水管、用
于将溢流液排出至排水管路的排水管及用于将溢流液供给所述第1-4清洗槽的出
水管，所述溢流进水管连接在所述第7清洗槽与所述副槽之间，所述出水管的进
水端连接在副槽槽壁的下部，所述出水管的出水端安装有出水阀门且分别位于所
述第1-4清洗槽的槽口上方，所述进水阀门安装在所述出水管上并靠近出水管的进
水端，所述泵位于所述进水阀门后方的出水管管路上。
5.根据权利要求4所述的多槽循环硅片清洗机，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：颜颉颃，贾永前，张欣，
申请(专利权)人：晶海洋半导体材料东海有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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