通过电弧涂布基材的方法技术

本发明专利技术涉及一种在低压电弧蒸发的情况下用于在真空室（10）中通过电弧涂布基材的方法和蒸发器（12，14，62，64，66，68），其中，所述真空室（10）具有至少一个含有标靶材料（20）的蒸发器（12，14，62，64，66，68）、用于供应反应性气体的反应性气体供应管线（53，54）和真空泵，其中，含有标靶材料（20）的所述蒸发器（12，14，62，64，66，68）用作阴极，而真空室（10）的内壁（36）用作阳极，在所述蒸发器（12，14，62，64，66，68）和所述真空室（10）的内壁（36）之间产生电弧。根据本发明专利技术，高熔融金属用作标靶材料（20），用于催化，并且在涂布期间真空室（20）中的压力为至少0.5Pa，特别是至少3Pa，优选5Pa。在基材上形成具有高氧含量的催化活性金属层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种在权利要求1的前序部分中指定的类型的以及用于在低压下在真空室中进行的真空室的蒸发器。
技术介绍
在低压电弧蒸发下在真空室中已经公知很长时间了。电弧蒸发或电弧-PVD为离子电镀PVD方法。在该方法中，在室和为负电位的标靶材料之间触发电弧，所述电弧引起标靶材料熔融和蒸发。标靶材料因此构成阴极。在该方法中，已熔融和蒸发的标靶材料与引入室中的反应性气体反应，并且随后在基材(即，在真空室中被涂布的工件)上沉积。在电弧蒸发期间，蒸发的材料的主要部分被电离。由标靶材料开始，材料蒸气随后铺展。由于将负电位另外施用于基材，(负偏压)，已电离的材料蒸气首先朝向基材加速。材料蒸气随后在基材表面冷凝。鉴于高电离剪切，通过分别在基材上和在标靶上的应力，可将巨大量的动能引入材料蒸气中。这使得或多或少的显著的应力效应在基材中实现。其中，这用于影响沉积的层的性质，例如层的粘附性、密度、组成等。需要这样的层作为耐磨保护，用于产生抗粘合表面或用于防腐蚀工具和部件。 从切割工具的涂布来说通过电弧涂布的方法基本上是已知的。由此得到的涂层旨在使得底层的高度硬化的载体材料耐磨。电弧蒸发在真空室中在降低的总压本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.07.12 DE 102010036332.41.一种在低压电弧蒸发下在真空室(10)中通过电弧涂布基材的方法，所述真空室(10)具有至少一个含有标靶材料(20)的蒸发器(12，14，62，64，66，68)、用于供应反应性气体的反应性气体供应装置(53，54)和真空泵，其中，含有所述标靶材料(20)的所述蒸发器(12，14，62，64，66，68)用作阴极，而所述真空室(10)的内壁(36)用作阳极，在所述蒸发器(12，14，62，64，66，68)和所述真空室(10)的内壁(36)之间产生电弧，其特征在于，高熔点金属用作标靶材料(20)，用于电活性表面和/或用于催化，并且在涂布期间真空室(10)中的压力为至少O. 5Pa，特别是至少3Pa，优选5Pa，并且在基材上形成具有高氧含量的电活性金属层和/或具有高氧含量的催化活性金属层。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，氧气或具有高氧含量的气体用作反应性气体。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，钌、铱、钛、钼或它们的混合物用作标靶材料(20)。4.根据前述权利要求中任意一项所述的方法，其特征在于，电弧电流为至少65安培，优选75安培。5.根据前述权利要求中任意一项所述的方法，其特征在于，电弧电流不超过100安培。6.根据前述权利要求中任意一项所述的方法，其特征在于，将所述反应性气体供应于所述蒸发器(12，14,62,64,66,68)中的标祀材料(20)。7.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述反应性气体以环形方式供应于所述标靶材料(20)。8.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：O·凯赛，
申请(专利权)人：三斯特根股份有限公司，洪埃德科股份有限公司，
类型：
国别省市：