【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种电弧离子镀膜装置。
技术介绍
电弧离子镀是物理气相沉积技术的一种，其是将真空弧光放电用于蒸发源的一种真空离子镀膜技术。在电弧离子镀技术中，靶材既是阴极材料的蒸发源，又是发射等离子体的离子源。由于电弧离子镀具有离化率高，所制备的薄膜与基材的结合力好等优点而被广泛地应用。目前应用较多的电弧离子镀装置，靶材通常为圆柱状，且通常悬挂于反应室的腔壁上。但由于靶面较小(通常是直径100_，高度为40_)，沉积范围有限，难以镀制大面积工件，在大工件上沉积薄膜时，会导致薄膜厚度和颜色不均匀。为提高镀膜均匀性，通常会采用多个靶材交叉错配的方式悬挂于反应室的腔壁上，但这同时会使镀膜设备反应室的结构变得复杂，且不利于靶材的拆卸与维护。
技术实现思路
有鉴于此，提供一种有效解决上述问题的电弧离子镀膜装置。一种电弧离子镀膜装置，其包括一反应室及可拆卸地设置于反应室中央的多个靶材和多个分隔板；该多个分隔板为相交设置，每一分隔板包括一侧面，该多个分隔板的所述侧面邻接设置；所述每一靶材位于相邻的二分隔板所围成的区域内。本专利技术电弧离子镀膜装置的设计节省了反应室的配置空间，可实现...
【技术保护点】
一种电弧离子镀膜装置，其包括一反应室，其特征在于：该电弧离子镀膜装置还包括可拆卸地设置于反应室中央的多个靶材和多个分隔板；该多个分隔板为相交设置，每一分隔板包括一侧面，该多个分隔板的所述侧面邻接设置；所述每一靶材位于相邻的二分隔板所围成的区域内。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张新倍，黄登聪，彭立全，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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