固态成像装置及其制作方法、成像设备以及防反射结构的制作方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了固态成像装置及其制作方法，成像设备以及防反射结构的制作方法。一种防反射结构的制作方法，所述方法包括以下步骤：在衬底的表面上形成其中散布有微细粒子的树脂膜；通过在逐渐地蚀刻微细粒子的同时，使用在树脂膜中的微细粒子作为掩膜来对树脂膜进行蚀刻，来在树脂膜上形成突起假图案；通过对衬底的表面与其上形成有突起假图案的树脂膜一同进行回蚀，并且将形成在树脂膜的表面上的突起假图案的表面形状转移到衬底的表面上，来在衬底的表面上形成突起图案。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
在固态成像装置中，光电转换部分有必要在防止入射光反射的同时将入射光转换为电信号，以便于增加对于入射光执行光电转换的光电转换部分的转换效率。因此，期望尽可能地减小从界面反射的光成分。在固态图像传感器中，形成光聚集堆叠结构，以有效地聚集光。在这种情况下，因为不同材料的堆叠层产生折射率差较大的界面，所以发生由于界面反射而引起的光损失，如果不采取对策，有可能导致灵敏度的降低。此外，从界面反射的光可能变为诸如眩光或鬼影的噪音源。在这点上，已经提出了在折射率差较大的界面上形成防反射膜以减小界面反射的方法(例如，见 JP-A-2007-242697 和 JP-A-6-292206)。作为高性能防反射结构，已经提出了在片上透镜上形成例如浮雕结构，以减小界面反射的方法(例如，见 JP-A-2004-47682，JP-A-2006-147991 以及 WO 2005/109042)。减小的界面反射导致在经过一次反射的光从另一个构件(诸如保护镜片)再次反射时产生并且之后进入镜头的噪音光(诸如眩光或鬼影的)减少。根据在折射率差较大的界面上形成防反射膜以减小界面反射的方法(例如，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防反射结构的制作方法，所述方法包括以下步骤：将微细粒子设置在衬底的表面上；以及通过执行对于所述衬底的蚀刻速率比对于所述微细粒子的蚀刻速率更高的各向异性蚀刻，来在所述衬底的表面上形成突起图案。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：前田兼作，小池薰，佐佐木徹，辰巳哲也，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：