抗静电层用固化性树脂组合物、光学薄膜、偏振片以及显示面板制造技术

本发明专利技术提供一种可形成抗静电性充分、且与邻接的HC层的密接性优异的抗静电层的抗静电层用固化性树脂组合物及具有该抗静电层的光学薄膜。本发明专利技术公开一种抗静电层用固化性树脂组合物，其特征在于包含(A)抗静电剂；(B)在1个分子中具有2个以上的光固化性基，且分子量为900以下的多官能单体；以及(C)在1个分子中具有6个以上的(甲基)丙烯酰基，且重均分子量为1000～11000的聚氨酯丙烯酸酯；所述(A)相对于该(A)、(B)及(C)的总量的比例为1～30质量％，且所述(C)相对于该(B)及(C)的总量的比例为1～40质量％。另外，本发明专利技术公开一种光学薄膜，其在TAC基材的一侧，从TAC基材侧开始设置由该抗静电层用固化性树脂组合物的固化物形成的膜厚为1～5μm的抗静电层及硬涂层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种设置于液晶显示器(LCD，Liquid CrystalDisplay)、阴极管显示设备(CRT，Cathode-ray Tube)或等离子体显示器(PDP，Plasma Display Panel)等显示器(图像显示设备)的前面的具有抗静电层的光学薄膜及该抗静电层用的组合物，以及使用该光学薄膜的偏振片及显示面板。
技术介绍
在上述的显示器中，通常在最外表面设置有包含具有抗反射性、硬涂性或抗静电性等各种功能的层的光学薄膜。另外，在本说明书中，有时将硬涂简单称为“HC”。作为此种光学薄膜的功能层之一，已知有用于赋予抗静电性的抗静电层。该抗静电层通过添加掺杂有锑的氧化锡(ATO，AntimonyTin Oxide)或掺杂有锡的氧化铟(ITO，Indium Tin Oxide)等金属氧化物系的导电性超微粒、高分子型导电性组合物或季铵盐系导电材料等抗静电剂而形成(例如专利文献1)。在使用这些抗静电剂的情况下，为了同时兼具所需的抗静电性与光学特性(低雾值或高全光线透射率)，要通过形成含有抗静电剂的0.1～1μm左右的薄膜层来赋予所需的功能。另外，在上述的显示器中，要求对显示器的图像显示面赋予硬度，以使其在处理时不受损伤。对此，在专利文献1中公开有如下的光学薄膜的构成：在三乙酰纤维素(以下，有时仅称为“TAC(Triacetyl Cellulose)”基材上设置薄膜的防静电层，并在该<br>抗静电层上设置HC层。然而，由于抗静电层为薄膜，因此存在如下的问题：层中所包含的季戊四醇三丙烯酸酯(以下，有时简单称为“PETA(Pentaerythritol triacrylate)”或二季戊四醇六丙烯酸酯(以下，有时简单称为“DPHA(Di-Pentaerythritol hexaacrylate)”之类的粘合剂成分及抗静电剂的量有限，进而容易造成与邻接于该抗静电层的HC层的密接性不足。在以基材/抗静电层/HC层为基本构成的光学薄膜中，有抗静电层与HC层之间的界面及抗静电层与基材之间的界面，而在各个界面存在密接性的问题。在抗静电层与HC层之间的界面，抗静电层与HC层的各个反应性基进行交联键合而密接，但同时要求抗静电层发挥抗静电性能。在抗静电剂为金属氧化物的情况下，为了使抗静电层发挥抗静电性能，抗静电剂的微粒彼此必需密接，因此要添加大量的抗静电剂，但存在雾值增加、或全光线透射率恶化的情况。然而，若重视光学特性而减少金属氧化物的量，则难以发挥抗静电性能。另外，若增加抗静电剂的量，则存在于抗静电层与邻接层的界面的粘合剂成分的量不足，从而抗静电层与邻接层的密接性变差的可能性。然而，若重视密接性而减少金属氧化物的量，则难以发挥抗静电性能。在抗静电剂为季铵盐的情况下，为了使抗静电层发挥抗静电性能，层内必需存在含量比粘合剂更多的季铵盐。或者，季铵盐必需集中存在于抗静电层的与HC层邻接的界面附近。然而，在此种情况下，存在如下的可能性：存在于界面附近的季铵盐阻碍抗静电层与HC层的密接，存在于抗静电层与邻接的HC层的界面的粘合剂成分(具有提高与HC层的交联密度的反应性基的成分)的量不足，从而抗静电层与邻接的HC层的密接性变差。然而，若重视密接性而减少季铵盐的量，则抗静电性能会恶化。为了同时实现抗静电性与密接性，可考虑单纯地增多PETA(季戊四醇三丙烯酸酯)或DPHA(二季戊四醇六丙烯酸酯)之类的粘合剂成分的量的方法，但若增多此种粘合剂成分的量，则抗静电层的膜厚增厚，伴随于此，存在抗静电层的卷曲(翘曲)变大的问题，以及分散于抗静电层中的昂贵的抗静电剂的使用量也增加，而导致成本增加的问题。另外，为了提高密接性，可考虑增加粘合剂中的具有反应性基的成分的方法，但如上所述，为了显现抗静电性能而有必要的抗静电剂的量，粘合剂的量有限制，因此难以采用该方法。另外，如上所述，因作为薄膜的抗静电层的层中所包含的粘合剂成分与抗静电剂的总量有限，故若要通过减少抗静电剂的使用量，并相应量地增加粘合剂成分的使用量来提高抗静电层与HC层的密接性，则存在抗静电剂的使用量减少而导致抗静电性能降低的问题。另一方面，在抗静电层与基材之间的界面上，为了使抗静电层密接于基材，需要使抗静电层的组合物的粘合剂成分渗透至基材内，且在基材与抗静电层的界面上，渗透至基材内的粘合剂成分与形成抗静电层的粘合剂成分固化结合。在抗静电剂为季铵盐的情况下，已知现有技术为了提高耐久性或抗静电性而使用分子量较大的季铵盐。然而，若季铵盐的分子量较大，则抗静电层的组合物的粘合剂成分难以渗透至基材内，因此为了获得抗静电层与基材的密接性，必需使用大量的渗透性溶剂、或使用可渗透至基材内的分子量较小的粘合剂。然而，在该情况下，存在抗静电层与HC层的界面的密接性变差的问题。另外，目前已知有通过使用渗透性溶剂而可防止干扰条纹、且可使外观变得良好的技术，但若使用渗透性溶剂，则有时于基材内也会形成新的界面，除上述的密接性恶化以外，也有产生干扰条纹且外观变差的问题。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2009-086660号公报
技术实现思路
(专利技术所要解决的问题)本专利技术是为了解决上述问题而完成的专利技术，其第一目的在于提供一种抗静电层用固化性树脂组合物，该抗静电层用固化性树脂组合物可形成光学特性及外观良好、抗静电性充分、且与邻接的HC层及TAC基材的密接性优异的抗静电层。另外，本专利技术的第二目的在于提供一种光学薄膜，其具有使用上述组合物所形成的抗静电层，且灰尘附着防止性优异。另外，本专利技术的第三目的在于提供一种偏振片，其具有上述光学薄膜。另外，本专利技术的第四目的在于提供一种显示面板，其具有上述光学薄膜。(解决问题的手段)本专利技术人等进行了努力研究，结果得知，若作为抗静电层的组合物中所包含的粘合剂成分、且用于提高与邻接的HC层的交联密度并获得密接性的PETA或DPHA之类的分子量为900以下的分子量比较小的粘合剂成分，大体上全部渗透至TAC基材中时，或者根据粘合剂成分从TAC基材的属于与HC层的界面的表面向TAC基材的不为HC层的背面的深度方向的渗透程度的不同，粘合剂成分偏存于基材中时，基材上的抗静电层中所包含的粘合剂成分减少，在HC层与抗静电层的界面进行反应的成分不足，因此有时无法充分获得抗本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.07.12 JP 2010-1578081.一种抗静电层用固化性树脂组合物，其特征在于，
包含
A：抗静电剂；
B：在1个分子中具有2个以上的光固化性基，且分子量为900
以下的多官能单体；以及
C：在1个分子中具有6个以上的丙烯酰基及/或甲基丙烯酰基，
且重均分子量为1000～11000的聚氨酯丙烯酸酯，
所述A相对于所述A、B及C的总量的比例为1～30质量％，
且所述C相对于所述B及C的总量的比例为1～40质量％。
2.如权利要求1所述的抗静电层用固化性树脂组合物，其中，
所述A是重均分子量为1000～50000的季铵盐。
3.如权利要求1或2所述的抗静电层用固化性树脂组合物，其
中，
还包括
D：渗透性溶剂；及
E：非渗透性溶剂。
4.如权利要求1～3中任一项所述的抗静电层用固化性树脂组
合物，其中，
所述抗静电层用固化性树脂组合物的膜厚为1～5μm的固化物
的表面电阻率小于1×1012Ω/□。
5.一种光学薄膜，其特征在于，是在三乙酰纤维素基材的一侧，
从所述三乙酰纤维素基材侧开始邻接地设置有膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：山本佳奈，堀尾智之，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：
国别省市：