表面轮廓侦测装置、其对位方法及量测数据撷取方法制造方法及图纸

一种表面轮廓侦测装置，侦测一目标物的表面轮廓，目标物具有一目标物对称轴，表面轮廓侦测装置包括波前侦测单元、驱动单元以及旋转单元。波前侦测单元具有影像传感器且发射侦测光束。驱动单元具有多个平台移动目标物或波前侦测单元。旋转单元具有旋转轴，且设置于驱动单元的其中一个平台上，目标物固持于旋转单元。在量测目标物时，旋转单元旋转目标物且影像传感器同时曝光并撷取从目标物反射的侦测光束所形成的量测数据。本发明专利技术还揭露一种表面轮廓侦测装置的对位方法以及全口径量测数据的撷取方法。本发明专利技术可以连续性的侦测目标物并曝光同时撷取多个干涉图案，在短时间内撷取目标物完整的表面轮廓，大幅缩短侦测所需的时间。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术关于一种表面轮廓侦测装置及其对位方法以及全口径量测数据的撷取方法。
技术介绍
随着工业的进步，光学组件已日趋精密，举凡信息工业、通讯工业、自动控制工业、医疗工业、或航天工业等，甚至是日常生活皆与光学组件产生密不可分的关系。在这些众多光学组件中，光学透镜更是其中的主要产品之一,而如何在如此精密的组件中进行准确的量测，以了解是否符合产品的规格需求，一直是业界的深切期望。非接触式的干涉量测光学技术(interferometric optical technique)已广 泛应用在精密光学透镜的表面轮廓(surface profile)的量测。举例而言，当进行表面轮廓的量测时，测试表面所反射的一测试波前(tested wavefront)与一参考表面所反射的一参考波前(reference wavefront)会进行结合而形成一光学干涉图案(opticalinterferograms),而干涉仪即是侦测此光学干涉图案。于光学干涉图案的密度轮廓(intensity profile)中的空间变化(spatial variations),是相对于经结合测试前导波与参考前导波之间的相位差，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表面轮廓侦测装置，侦测一目标物的表面轮廓，其特征在于，所述表面轮廓侦测装置包括：波前侦测单元，具有影像传感器且发射侦测光束；驱动单元，具有多个平台移动所述目标物或所述波前侦测单元；以及旋转单元，具有旋转轴，且设置于所述驱动单元的其中一个平台上，所述目标物固持于所述旋转单元，其中在量测所述目标物时，所述旋转单元旋转所述目标物且所述影像传感器同时曝光并撷取从所述目标物反射的所述侦测光束所形成的量测数据。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：梁肇文，
申请(专利权)人：东大光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：