一种薄膜电容器制造技术

本实用新型专利技术涉及一种薄膜电容器，其主要运用于电容器制造领域，尤其是涉及一种薄膜电容器，其包括蒸镀电极、电极箔、引线、介质、芯子，芯采用了芯子后，薄膜电容器的频率特性优异，介质损失很小，能确保信号在传送时，避免了有太大的失真，并且具有一种自我复原功能，即当电极的微小部分因为电界质脆弱而引起短路时，引起短路部分周围的电极金属，会因当时电容器所带的静电能量或短路电流，而引发更大面积的溶融和蒸发而恢复绝缘，使电容器再度回复电容器的作用。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及ー种薄膜电容器，尤其是涉及电极箔式薄膜电容器。
技术介绍
有感箔式薄膜电容器(以下称有感箔式构造)因本身不具备自我复原功能，须根据介质的耐压性能来设计膜的厚度。绝大多数的设计的耐压能力为额压电压/膜厚=耐压能力20￥/^111，设计时的耐压能カ都超过50￥/^111。有感箔式构造エ艺虽然很简单，并且形状小，具有一定的价格竟争优势，但是耐压能力不够强、并且不能容纳高电压以及大能量、也 没有自我复原功能的问题。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供ー种薄膜电容器，解决传统薄膜电容器耐压能力不够强、不能容纳高电压以及大能量、并且没有自我复原功能的问题。本技术解决上述技术问题的技术方案如下ー种薄膜电容器，其包括蒸镀电扱、电极箔、引线、点介质、芯子，所述引线焊在所述电极箔上，所述引线的一端与芯子相连，所述电极箔焊接在所述蒸镀电极长边的ー侧上，所述蒸镀电极焊在所述点介质上。所述电极箔接触面的蒸镀膜电阻小于等于I. 5Q/nm，接触面以外的电阻值范围为1.5Q/nm 10Q/nm。所述引线通过所述引线上的两处点焊焊接在所述电极箔上，在所述电极箔与所述蒸镀电极之间的焊接材料为导电材料。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜电容器，其特征在于：其包括蒸镀电极、电极箔、引线、点介质、芯子，所述引线焊在所述电极箔上，所述引线的一端与芯子相连，所述电极箔焊接在所述蒸镀电极长边的一侧上，所述蒸镀电极焊在所述点介质上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈重生，
申请(专利权)人：扬州日精电子有限公司，
类型：实用新型
国别省市：