一种用于电镀工艺中的吸收装置制造方法及图纸

技术编号:8374295 阅读:181 留言:0更新日期:2013-03-01 04:06
本实用新型专利技术公开了一种用于电镀工艺中的吸收装置,其包括依次设置钯水缸和水洗缸,所述吸收装置还包括设置水洗缸外侧的支撑框架和设置在支撑框架上的水管,位于支撑框架的上端且横向设置的水管上设有若干横向排列的喷嘴或者喷嘴下方再连接一帘子,该吸收装置还设有供水进入水管的进水口,这样可以避免铬雾对泡过钯水的产品产生影响,提高了产品上镍的良率。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种吸收装置,更具体地说,尤其涉及一种用于电镀工艺中的吸收装置
技术介绍
电镀(Electroplating)就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程,是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止腐蚀,提高耐磨性、导电性、反光性及增进美观等作用。在电镀行业中,电镀的前处理中的活化工序常用的是钯水,而电镀生产线上难免 会有少量的铬雾,铬雾中的六价铬和一些杂质会使钯水失去活性,导致产品在钯水工序出来后会受到空气中铬雾的影响,使得部分的钯失去活性,从而在化学镍工序中出现漏镀的产品率会提高。业界常使用胶帘或布帘设在钯水缸后水洗缸的内侧遮挡,该方法的安装和操作都比较复杂,帘子也需要经常更换,而且帘子本身还会带来杂质,这样效果不明显,仍然会使产品出现漏镀。
技术实现思路
本技术的目的在于针对上述现有技术的不足,提供一种可以避免产品出现漏镀且结构简单的用于电镀工艺中的吸收装置。本技术的技术方案是这样实现的一种用于电镀工艺中的吸收装置,其包括依次设置钯水缸和水洗缸,所述吸收装置还包括设置水洗缸外侧的支撑框架和设置在支撑框架上的水管,位于支撑框架本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于电镀工艺中的吸收装置,其包括依次设置钯水缸和水洗缸,其特征在于:所述吸收装置还包括设置水洗缸外侧的支撑框架和设置在支撑框架上的水管,位于支撑框架的上端且横向设置的水管上设有若干横向排列的喷嘴或者喷嘴下方再连接一帘子,该吸收装置还设有供水进入水管的进水口。

【技术特征摘要】
1.一种用于电镀工艺中的吸收装置,其包括依次设置钯水缸和水洗缸,其特征在于所述吸收装置还包括设置水洗缸外侧的支撑框架和设置在支撑框架上的水管,位于支撑框架的上端且横向设置的水管上设有若干横向排列的喷嘴或者喷嘴下方再连接一帘子,该吸收装置还设有供水进入水管的进水口。2.根据权利要求I所述的用于电镀工艺中的吸收装置,其特征在于所述装置还包括设置喷嘴或帘子下方且与水洗缸相连的接水槽、连接...

【专利技术属性】
技术研发人员:马晓明
申请(专利权)人:惠州建邦精密塑胶有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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