一种用于真空镀膜设备的双层密封结构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于真空镀膜设备的双层密封结构，包括真空泵，真空泵通过真空管道与法兰上泄气孔8连接，其特征在于：它由内层密封圈3、外层密封圈4以及密封法兰1和光面法兰2组成，密封法兰1密封面上开有密封槽6，内层密封圈3和外层密封圈4嵌于密封槽6内；两密封圈间开有泄气槽7，法兰体上开有一泄气孔8，泄气槽7通过泄气孔8以及真空管道与真空泵相连，通过真空泵可以把两密封圈间的气体排出，形成真空，提高密封效果。两密封圈在螺栓力或者重力和压差力的作用下压紧光面法兰2，形成双层密封。本实用新型专利技术能够实现真空腔体的可靠的密封；同时，本实用新型专利技术具有结构简单，使用寿命长，易于安装、拆卸的优点。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

—种用于真空镀膜设备的双层密封结构本技术涉及真空镀膜设备
，具体涉及一种用于真空镀膜设备的双层密封结构。真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。真空镀膜的先决条件是要确保真空腔室具有良好稳定的真空度。目前，真空镀膜设备密封形式多采用单根橡胶圈密封，这种密封形式适用于较小密封面的密封，对于较大密封面采用该种密封方式容易出现密封效果不佳的问题。尤其对于经常开闭的盖板，橡胶圈受反复作用力以及温度和其他环境因素的影响下，很容易产生异常变形和老化，缩短橡胶圈的使用寿命。橡胶圈一旦在局部某处产生异常变形和老化，就会影响镀膜设备真空度的获得；而且因需经常更换密封件，极大的影响着生产连续、正常的进行。·本技术就是为了解决现有技术中的不足，提供一种结构新颖，密封性能更可靠，稳定性好的一种用于真空镀膜设备的双层密封结构。为实现上述目的，提供一种用于真空镀膜设备的双层密封结构，包括密封法兰I、光面法兰2、内层密封圈3、外层密封圈4、支架5、密封槽6、泄气槽7、泄气孔8和真空泵，其特征在于所述密封法兰I的密封面上开设有密封槽6，密封槽6内设有内本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于真空镀膜设备的双层密封结构，包括密封法兰(1)、光面法兰(2)、？内层密封圈(3)、外层密封圈(4)、支架(5)、密封槽(6)、泄气槽(7)、泄气孔(8)和真空泵，其特征在于所述密封法兰(1)的密封面上开设有密封槽(6)，密封槽(6)内设有内层密封圈(3)和外层密封圈(4)，内层密封圈(3)和外层密封圈(4)之间开设有泄气槽(7)，泄气槽(7)上设有泄气孔(8)？，泄气槽(7)通过泄气孔(8)连接真空管道一端，真空管道另一端连接真空泵。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：罗松松，葛治亮，李险峰，
申请(专利权)人：中国建材国际工程集团有限公司，
类型：实用新型
国别省市：