真空镀膜设备的夹钳及溅镀载台制造技术

本实用新型专利技术提供一种真空镀膜设备的夹钳，包括：一安装部，呈条形；以及，一夹持部，衔接于该安装部并且弯曲延伸；该夹持部端面是一承载面，且该承载面具有至少一个竖向设置的沟槽。另外还提供一种溅镀载台，具有一承放座和一底座，所述底座还分别配置有多个上述夹钳，用以夹持一待加工工件进行一镀膜工艺。使沉积膜较多的沉积在沟槽内，且使头部沉积膜更加均匀。减少单点沉积膜较厚现象，从而减少破片发生。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术提供一种真空镀膜设备的夹钳，包括：一安装部，呈条形；以及，一夹持部，衔接于该安装部并且弯曲延伸；该夹持部端面是一承载面，且该承载面具有至少一个竖向设置的沟槽。另外还提供一种溅镀载台，具有一承放座和一底座，所述底座还分别配置有多个上述夹钳，用以夹持一待加工工件进行一镀膜工艺。使沉积膜较多的沉积在沟槽内，且使头部沉积膜更加均匀。减少单点沉积膜较厚现象，从而减少破片发生。【专利说明】真空镀膜设备的夹钳及溅镀载台
本技术涉及一种工件夹钳，特别涉及一种在真空镀膜工艺中用于夹持待加工工件的真空镀膜设备的夹钳及溅镀载台。
技术介绍
现有液晶或OLED显示器的制造流程中，均包含有在玻璃基板上形成导电膜的处理步骤，此步骤中包括通过物理气相沉积(Physical Vapor Deposition, PVD)的技术所制作而成，例如使用派镀(sputtering)技术于玻璃基板上形成导电膜。溅镀工艺一般在真空镀膜设备进行，现有真空镀膜设备包括一反应室(chamber)、一溅镀载台、一遮罩以及一溅镀靶(target)。溅镀载台位于反应室内，以承载玻璃基板。遮罩用于定义溅镀区域，并可避免在溅镀载台内，玻璃基板以外的其他区域形成金属沉积物。溅镀靶设置于反应室的开口处，且溅镀靶配置有靶材，以供溅镀使用。其原理为，于反应室中产生等离子体，再利用磁场或电场等加速方式，使等离子体中的离子对溅镀靶进行离子轰击，以造成溅镀靶表面的靶材原子溅出而飞向玻璃基板，并在玻璃基板表面形成一层金属薄膜。其中，溅镀载台具有一承放座和一底座。底座的外围具有多个槽孔，承放座上具有多个与槽孔相对应的开孔，底座的槽孔内还分别配置有可活动地工件夹钳，如图1所示为工件夹钳10的结构示意图，其具有一安装部110、一延伸段120及一夹持部130，安装部具有两个固定孔111，用于锁合于底座的槽孔内，且夹持部130上具有一承载面131，可通过开孔露出于承放座上。底座下方还具有一支撑销(supporting pin),支撑销于玻璃基板进入底座上方时用以支撑玻璃基板，并使玻璃基板平稳地落于承放座上，接着工件夹钳10便以夹持部130的承载面131扣合于玻璃基板的边缘，以将玻璃基板固持于承放座上以进行后续溅镀的程序。值得注意的是，进行溅镀程序时，工件夹钳直接暴露于反应室内，因此溅镀完成后，工件夹钳的承载面上未被玻璃基板边缘遮敝的区域，同时将沉积部分的溅镀物质。如此一来，现有镀膜设备内的夹钳在使用周期末期时，会因膜层长期不定向沉积在表面，发生夹钳单点沉积膜较厚，容易在玻璃基板松开或夹紧时，因单点受力而夹破玻璃。进而影响玻璃基板的真空镀膜的合格率，也严重影响显示面板的产能及造成生产成本的上升。
技术实现思路
鉴于以上的问题，本技术提供一种夹钳结构，用以改良液晶显示器的玻璃基板在溅镀程序中，因夹钳的承载面与累积于承载面上的溅镀物质之间的附着力不佳，而容易剥离并掉落于玻璃基板，所导致玻璃基板的真空镀膜合格率不佳的问题。本技术所揭露的一种真空镀膜设备的新型夹钳，包括:一安装部，呈条形；以及，一夹持部，衔接于该安装部并且弯曲延伸；该夹持部端面是一承载面，且该承载面具有至少一个竖向设置的沟槽。本技术所揭露的一种溅镀载台，装设于一真空镀膜设备中，所述溅镀载台具有一承放座和一底座，所述底座还分别配置有多个夹钳，用以夹持一待加工工件进行一镀膜工艺，其特征在于，该夹钳包括:一安装部，呈条形；以及，一夹持部，衔接于该安装部并且弯曲延伸；该夹持部端面是一承载面，且该承载面具有至少一个竖向设置的沟槽。根据一实施方式，该安装部具有一个贯通的固定孔。根据一实施方式，所述固定孔是椭圆形孔，所述安装部面向夹持部的一面为正面，背向夹持部的一面为背面，所述固定孔贯通所述安装部正面及背面。根据一实施方式所述安装部的背面上具有至少两个横向溅镀沟槽，所述两个溅镀沟槽间隔地平行设置，所述横向溅镀沟槽的位置高于所述固定孔。根据一实施方式，所述沟槽的深度范围为0.3毫米至1.3毫米。根据一实施方式，所述沟槽为椭圆状结构、矩形状结构或V形结构。根据一实施方式，所述沟槽倾斜一角度设置于该夹持部上。本技术相较于现有技术的有益技术效果在于:本技术 的真空镀膜设备的夹钳于夹持部的承载面上设置一沟槽，当此夹钳应用于真空镀膜时，用以夹持一待加工工件于溅镀机台上，以进行待加工工件的溅镀程序，在此溅镀程序中，待加工工件的表面形成一镀膜，并于夹钳的承载面上与沟槽内形成镀膜结构，此镀膜结构受到沟槽所具有的结构形状影响，而得以增加与承载面之间的附着力，使得镀膜不会从承载面上剥离并掉落于待加工工件上，令待加工工件在溅镀程序中受污染的风险降低，并增加真空镀膜中待加工工件的合格率。并且，使沉积膜较多的沉积在沟槽内，且使头部沉积膜更加均匀。减少单点沉积膜较厚现象，从而减少破片发生。【专利附图】【附图说明】图1是现有空镀膜设备的工件夹钳的结构示意图；图2是本技术真空镀膜设备的夹钳结构示意图；图3是本技术真空镀膜设备的夹钳另一视角的结构示意图。附图标记说明夹钳10、延伸段120、 夹持部130固定孔111、 承载面131夹钳I安装部2夹持部3固定孔21 溅镀沟槽22承载面31 沟槽32挡片33【具体实施方式】体现本技术特征与优点的实施方式将在以下的说明中详细叙述。应理解的是本技术能够在不同的实施方式上具有各种的变化，其皆不脱离本技术的范围，且其中的说明及附图在本质上是当作说明之用，而非用以限制本技术。如图2所示为本技术所提供的真空镀膜设备的夹钳的结构示意图。本技术所揭露的夹钳I包括有一安装部2及一夹持部3。夹持部3形成于安装部2与顶端，由该安装部顶端向一侧弯曲延伸形成。如图2所示，安装部2呈长条形，可为长方体形状，以便于装入并固定于溅镀载台底座上的方筒形摆臂中，受摆臂控制进行张开或闭合动作，以夹持一待加工工件进行一镀膜工艺。本实施例中安装部2上仅具有一个固定孔21，固定孔21可呈非圆形孔，具体可为椭圆形孔。安装部2面向夹持部3的一面为正面，背向夹持部3的一面为背面，固定孔21贯通安装部2正面及背面。这样，能以一个截面为椭圆形的杆件穿过安装部2，以此非圆形的杆件，利用螺母来将安装部2与溅镀载台底座上的筒形摆臂进行定位。即可防止二者的相对转动，还能对二者进行压紧固定，减少了固定螺丝的数量，从而节省了安装高度。安装部2的背面上具有两个横向溅镀沟槽22，两个横向溅镀沟槽22间隔地平行设置，横向溅镀沟槽22的位置都高于固定孔21。这样，可减少安装部2的背面上沉积膜的产生，并且，沉积膜形成后也便于进行清洁，以提高安装部2与筒形摆臂的组装精度，避免因各安装部2与筒形摆臂之间由沉积膜造成的安装差异，造成夹持部3位置不一而发生破片，当然在需要时，也可将横向溅镀沟槽22设于正面或侧面。如图2、图3所示，夹持部3自安装部2顶端向外侧延伸并呈一弯曲形态。夹持部3 一端一体衔接于安装部2的顶端，夹持部3另一端向外凸出，凸出的竖向端面上形成一承载面31及一挡片33，挡片33设置于承载面31上方。承载面31是用于夹持待加工工件的竖面，且承载面31上具有两个竖向沟槽32，用以使承载面31的表面积增加。各本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空镀膜设备的夹钳，包括： 一安装部；以及 一夹持部，由该安装部一端向一侧弯曲延伸形成；该夹持部外端面具有一承载面，且该承载面具有至少一个竖向设置的沟槽。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王云靖，刘滔滔，郭世佳，
申请(专利权)人：上海和辉光电有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31