双腔室真空制膜设备制造技术

技术编号:9543312 阅读:81 留言:0更新日期:2014-01-08 20:03
本发明专利技术提供了一种双腔室真空制膜设备,它包括送料腔室、活动密封机构、工艺腔室、送料装置,其中送料腔室上设置进出料口,送料腔室与工艺腔室连接,送料腔室与工艺腔室之间设置活动密封机构,送料装置位于送料腔室和工艺腔室内,送料腔室及工艺腔室上均设置真空机构;其优点在于本发明专利技术所述双腔室真空制膜设备可以避免产品进出料发生交叉污染、可提高产品质量、减少对大气污染及操作人员健康危害的双腔室真空制膜设备。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供了一种双腔室真空制膜设备,它包括送料腔室、活动密封机构、工艺腔室、送料装置,其中送料腔室上设置进出料口,送料腔室与工艺腔室连接,送料腔室与工艺腔室之间设置活动密封机构,送料装置位于送料腔室和工艺腔室内,送料腔室及工艺腔室上均设置真空机构;其优点在于本专利技术所述双腔室真空制膜设备可以避免产品进出料发生交叉污染、可提高产品质量、减少对大气污染及操作人员健康危害的双腔室真空制膜设备。【专利说明】双腔室真空制膜设备
本专利技术涉及半导体、碳纳米行业的一种新型制膜设备,具体涉及一种生长石墨烯工艺的新型制膜设备。
技术介绍
石墨烯目前是世上最薄却也是最坚硬的纳米材料,石墨烯在物理学、化学、信息、能源以及器件制造等领域,都具有巨大的研究价值和应用前景。石墨烯生长环境是在真空环境下完成,不能受到空气氧化的影响。同时,石墨烯的生长衍生物能够污染空气。现有石墨烯电池的生产设备,产品从真空工艺腔室出炉时,会直接出料暴漏在空气中,不仅影响产品质量,而且会携带大量污染物到空气中。此外,对于工艺腔室内的污染气体只是通过在一定空间内使用轴流风机排出,对操作人员的健康造成危害。
技术实现思路
为了解决以上技术问题,本专利技术提供了一种可以避免产品进出料发生交叉污染、可提高产品质量、减少对大气污染及操作人员健康危害的双腔室真空制膜设备。本专利技术所述双腔室真空制膜设备,主要包括送料腔室、活动密封机构、工艺腔室、送料装置,其中送料腔室上设置进出料口,送料腔室与工艺腔室连接,送料腔室与工艺腔室之间设置活动密封机构,送料装置位于送料腔室和工艺腔室内,送料腔室及工艺腔室上均设置真空机构。`工作时,产品放置在专门的容器上,容器通过送料腔室的进出料口,平稳的放置在送料腔室内的送料装置上,然后由送料装置将产品送至工艺腔室,此时活动密封机构将送料腔室及工艺腔室隔断,送料腔室及工艺腔室各自形成一个密封空间,然后真空机构对送料腔室和工艺腔室分别抽真空,以达到工艺进行所需的环境,待工艺完成后,对工艺腔室抽真空,衍生物会通过真空管道排出,此时松开活动密封机构,送料腔室和工艺腔室连通,由送料装置将工艺完成后的产品退到送料腔室,再由活动密封机构将送料腔室及工艺腔室隔断;产品将在送料腔室内进行冷却,在冷却过程中,产品会产生污染衍生物,在打开料口之前,衍生物会通过送料腔室的真空管道排出,然后在送料腔室内充入惰性气体,以便取出产品时避免对人体造成危害及空气对产品质量会产生影响。本专利技术所述双腔室真空制膜设备,为了最大程度降低污染,提高工艺腔室的清洁度,在产品从工艺腔室退到送料腔室,以及在送料腔室未进入工艺腔室时,这两个腔室是隔开的,其优点在于:1、送料与工艺腔室的隔开,避免了取放料时的交叉污染;2、对操作人员起到了保护,工艺进行时的污染物不会返到送料腔室,而是通过真空直接排出;3、同时也保护工艺腔室免受空气的污染,提高了产品性能;4、产品性能的提高,使得其在行业内的国际竞争力得到了质的提升。为了达到更好的效果,本专利技术所述双腔室真空制膜设备还可以采取以下措施: 1、所述活动密封机构包括门板与密封圈,其中门板固定在送料装置上,门板所在平面与送料腔室截面平行,密封圈固定在送料腔室与工艺腔室结合处。当送料装置运行至送料腔室与工艺腔室结合处时,门板与密封圈结合,送料腔室与工艺腔室隔断;当送料装置离开送料腔室与工艺腔室结合处时,门板与密封圈结合分离,送料腔室与工艺腔室连通。通过送料装置的运行来控制送料腔室与工艺腔室的密封状态。2、所述送料装置包括主传动轴与送料平台。产品置于送料平台上,通过主转动轴的旋转,送料平台在水平方向上发生位移,从而完成产品在送料腔室及工艺腔室之间的传送。本专利技术不但解决了衍生物对操作人员造成的危害,也优化了工艺条件,为更高精度的产品的生成提供了必要的条件。不仅用于石墨烯生长的制膜工艺,而且用于任何真空条件下产生污染衍生物或外界空气对真空下产品制造产生影响的任何工艺生产中。【专利附图】【附图说明】图1为本专利技术所述结构断面图。图中编号说明: 1-送料腔室;2_料口 ;3_送料装置;4_密封机构;5_工艺腔室;6_产品;7_真空口。【具体实施方式】结合图1对本专利技术双腔室真空制膜设备进行详细说明。如图1所示,为本专利技术所述完整的双腔室真空制模设备。图1反应双真空腔室的结构,与送料腔室I左端配合的是送料装置3的主传动轴,送料装置3通过主传动轴使得产品在送料腔室I与工艺腔室5之间穿梭。密封机构4实现了两个真空腔室的隔断以及密封,使得通过料口 2取放产品时,工艺腔室5能够完全与外界隔开,真正实现零污染。当产品进入工艺腔室5后,密封机构4通过真空专用密封圈将两个真空腔室分开,不但可以减少实现真空的时间,而且可以减少工艺过程中气体的浪费,降低生产成本。产品工艺完成后,产品在送料腔室I中冷却,产生的污染物通过真空管道排走,当操作人员取出产品时,才不会产生危害。【权利要求】1.一种双腔室真空制膜设备,其特征在于它包括送料腔室、活动密封机构、工艺腔室、送料装置,其中送料腔室上设置进出料口,送料腔室与工艺腔室连接,送料腔室与工艺腔室之间设置活动密封机构,送料装置位于送料腔室和工艺腔室内,送料腔室及工艺腔室上均设置真空机构。2.根据权利要求1所述的双腔室真空制膜设备,其特征在于所述活动密封机构包括门板与密封圈,其中门板固定在送料装置上,门板所在平面与送料腔室截面平行,密封圈固定在送料腔室与工艺腔室结合处。3.根据权利要求1或2所述的双腔室真空制膜设备,其特征在于所述送料装置包括主传动轴与送料平台。【文档编号】C23C16/26GK103498131SQ201310453429【公开日】2014年1月8日 申请日期:2013年9月29日 优先权日:2013年9月29日 【专利技术者】崔慧敏, 张海林, 刘国霞, 滕玉朋 申请人:青岛赛瑞达电子装备股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双腔室真空制膜设备,其特征在于它包括送料腔室、活动密封机构、工艺腔室、送料装置,其中送料腔室上设置进出料口,送料腔室与工艺腔室连接,送料腔室与工艺腔室之间设置活动密封机构,送料装置位于送料腔室和工艺腔室内,送料腔室及工艺腔室上均设置真空机构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:崔慧敏张海林刘国霞滕玉朋
申请(专利权)人:青岛赛瑞达电子装备股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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