用于真空镀膜的磁导向装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种用于真空镀膜的磁导向装置，包括磁导轨座、传送构件及传送座，所述磁导轨座安装在真空镀膜箱的顶板上，所述传送构件一端朝向所述磁导轨座并与所述磁导轨座有一距离，另一端与所述传送座相连，所述传送座用于驱动传送构件运动，其特征在于，所述磁导轨座朝向传送构件的一端设置有第一磁导向单元，所述传送构件朝向所述磁导轨座的一端设置有一第二磁导向单元，所述第一磁导向单元与所述第二磁导向单元相对的侧面极性相反。本实用新型专利技术用于真空镀膜的磁导向装置的优点在于：避免了粉尘以及颗粒的产生，减轻了传送构件作用在传动座上的重量，从而减轻了传送构件对传动座的磨损。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术提供一种用于真空镀膜的磁导向装置，包括磁导轨座、传送构件及传送座，所述磁导轨座安装在真空镀膜箱的顶板上，所述传送构件一端朝向所述磁导轨座并与所述磁导轨座有一距离，另一端与所述传送座相连，所述传送座用于驱动传送构件运动，其特征在于，所述磁导轨座朝向传送构件的一端设置有第一磁导向单元，所述传送构件朝向所述磁导轨座的一端设置有一第二磁导向单元，所述第一磁导向单元与所述第二磁导向单元相对的侧面极性相反。本技术用于真空镀膜的磁导向装置的优点在于：避免了粉尘以及颗粒的产生，减轻了传送构件作用在传动座上的重量，从而减轻了传送构件对传动座的磨损。【专利说明】用于真空镀膜的磁导向装置
本技术涉及机械制造
，尤其涉及一种用于真空镀膜生产线的传送工件装置的磁导向装置。
技术介绍
现在真空镀膜技术蓬勃发展，所有镀膜过程都是在一个相对密闭的空间(箱体内真空压力远远低于大气压力)完成。由于真空获得设备的技术限制，真空空间的尺寸会相对狭小(一般空间的缝隙也就在20公分左右)，这样才能达到真空获得设备的最理想抽气空间，从而获得真空镀膜工艺要求的真空度。要获得高的生产效率，传送工件的装置要做得较高(一般高度都在1.6米以上)，这样对传送工件的装置的控制和导向就显得非常重要。对真空密闭空间的工件的传动就要求传动平稳、可靠，又要求尺寸不能做得很大。而目前的传动制导一般有如下三种模式获得:(I)传统的齿轮、齿条模式，此模式传动不平稳，且齿轮、齿条易磨损，已逐渐被淘汰。(2)倾斜6-10°角，再配滚动轴承传动模式，此模式比较新颖，但一方面制造成本高，结构复杂，另一方面在真空室中，轴承没有润滑易损坏，隐患多。(3)磁导向与滑动摩擦配合的模式，这种模式结构简单，传动也较平稳，为目前大多数ITO厂家采用。第三种模式利用磁铁的相互作用力，在磁导轨座的两侧及传送构件上都装上磁铁，利用磁铁同性相斥的原理，控制传送工件装置在磁导轨座内传动，从而达到控制传送工件装置方向的目的。图1所示为现有技术中用于真空镀膜的传动制导装置的结构示意图，图2所示为图1中A部位的放大结构示意图。参见图1及图2，所述传动制导装置100包括真空镀膜箱101、磁导轨座102、传送构件103、传送座104。磁导轨座102开口向下安装在所述真空镀膜箱101顶板上。在所述磁导轨座102两侧壁上，沿所述磁导轨座102轴线方向直线排列各设有多组第一磁导向单兀105,所述磁导轨102两侧壁相对应的第一磁导向单兀105极性相对，即一侧壁的第一磁导向单元105的极性为S极，则另一侧壁对应的第一磁导向单元的极性为N极。所述传送构件103的顶端设置有一沿所述磁导轨座102轴向方向直线排列的第二磁导向单元106，所述传送构件103的顶端插装在磁导轨座102内的第一磁导向单元105之间,所述第二磁导向单兀106的N极、S极与所述第一磁导向单兀的N极和S极分别相对应，即所述第二磁导向单元106的N极与磁导轨座102的一侧壁的第二磁导向单元105的N极对应，第二磁导向单元106的S极与磁导轨座102的另一侧壁的第二磁导向单兀105的S极对应，以利用同性相斥的原理控制传送构件103的方向。所述传送座104设置在传送构件103的底端，为传送构件103提供一滑动摩擦力，以使得传送构件103运动。由于传送构件103的顶端插入磁导轨座102中，使得传送构件103在磁导轨座103里运动，且传送构件103在加热过程中存在变形，不可避免的会和磁导轨座102摩擦，会产生许多微小的粉尘和颗粒，这些粉尘和颗粒会坠入到真空箱体里或吸附在玻璃基板上，影响基板的膜层质量。同时由于磁导轨座102两侧壁的磁导向单元102的极性相反，则两边的磁力相互抵消，因此传送构件103的所有重量均压在下端的传动座104上，加重了传动座104的磨损。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是，提供一种用于真空镀膜的磁导向装置，其能够避免磁导轨座与传送构件摩擦，提高镀膜质量，而且还能够减轻传动座的磨损。为了解决上述问题，本技术提供了一种用于真空镀膜的磁导向装置，包括磁导轨座、传送构件及传送座，所述磁导轨座安装在真空镀膜箱的顶板上，所述传送构件一端朝向所述磁导轨座并与所述磁导轨座有一距离，另一端与所述传送座相连，所述传送座用于驱动传送构件运动，所述磁导轨座朝向传送构件的一端设置有第一磁导向单元，所述传送构件朝向所述磁导轨座的一端设置有一第二磁导向单元，所述第一磁导向单元与所述第二磁导向单元相对的侧面极性相反。进一步，所述磁导轨座通过一磁导轨座固定装置与所述真空镀膜箱的顶板相连。进一步，所述磁导轨座轴向中心与所述传送构件的轴向中心在同一平面内。进一步，所述第一磁导向单元通过一压条固定在所述磁导轨座内。进一步，所述第二磁导向单元通过一压条固定在所述传送构件内。进一步,所述传送构件通过一滚轮与所述传送座相连,所述传送座施加给传送构件一滑动摩擦力。本技术用于真空镀膜的磁导向装置的优点在于:(I)利用磁铁异性相吸的原理，在磁导轨座以及传送构件上均装有磁导向单元，且两者极性应相对，这样两者之间就会产生一个吸力，从而保证传送构件装置不倾倒。在传动座给它一个摩擦力的作用下，控制传送构件沿着磁导轨座轴向方向运动，从而达到传送的目的。(2)由于磁导轨座与传送构件之间存在一定的距离，两者之间没有直接接触，这样就不会造成两者之间的摩擦，避免了粉尘以及颗粒的产生。(3)在磁导轨座以及传送构件上均装有磁导向单元，且两者极性应相对，这样两者之间就会产生一个吸力，传送构件被一个向上的吸力吸住，减轻了传送构件作用在传动座上的重量，从而减轻了传送构件对传动座的磨损。【专利附图】【附图说明】图1所示为现有技术中用于真空镀膜的传动制导装置的结构示意图；图2所示为图1中A部位的放大结构示意图；图3所示为本技术用于真空镀膜的磁导向装置的结构示意图；图4所示为图3中B部位的放大示意图；图5所示为磁导轨座固定装置的结构示意图。【具体实施方式】下面结合附图对本技术提供的用于真空镀膜的磁导向装置的【具体实施方式】做详细说明。图3所示为本技术用于真空镀膜的磁导向装置的结构示意图，图4所示为图3中B部位的放大示意图。所述磁导向装置200包括磁导轨座201、传送构件203及传送座204。所述磁导轨座201安装在真空镀膜箱205的顶板上。进一步，在本【具体实施方式】中，所述磁导轨座201通过一磁导轨座固定装置206固定在所述真空镀膜箱205的顶板上，以保证磁导轨座201不倾斜。图5所示为磁导轨座固定装置206的结构示意图,所述磁导轨座固定装置206包括一真空镀膜箱205的顶板固定的连接部207及一与用于固定所述磁导轨座201的吊块208，所述吊块208通过一吊杆209与所述连接部207连接。所述连接部207通过螺母固定在真空镀膜箱205的顶板上。所述磁导轨座201朝向传送构件203的一端设置有第一磁导向单元202。所述第一磁导向单兀202沿所述磁导轨座201轴向分布。在本【具体实施方式】中，所述第一磁导向单兀202为磁铁,所述磁铁的一极朝向磁导轨座201的开口方向，即磁铁的S极或N极朝向磁导轨座201的开口方向。在本【具体实施方式】中，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于真空镀膜的磁导向装置，包括磁导轨座、传送构件及传送座，所述磁导轨座安装在真空镀膜箱的顶板上，所述传送构件一端朝向所述磁导轨座并与所述磁导轨座有一距离，另一端与所述传送座相连，所述传送座用于驱动传送构件运动，其特征在于，所述磁导轨座朝向传送构件的一端设置有第一磁导向单元，所述传送构件朝向所述磁导轨座的一端设置有一第二磁导向单元，所述第一磁导向单元与所述第二磁导向单元相对的侧面极性相反。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：汪奇，陶道昌，
申请(专利权)人：安徽今上显示玻璃有限公司，
类型：实用新型
国别省市：