【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术提供一种射频磁控溅射装置，包括靶座，所述靶座包括靶座主体。所述靶座主体的上方设置有冷却盘，所述冷却盘的上方顺次设置有屏蔽罩和靶支撑体，所述靶座主体的中空内部设置有永磁体支撑件、磁体罩和绝缘罩。将该靶材安装在射频磁控溅射装置内，利用该射频磁控溅射装置通过放电等离子烧结的方法，可以将纳米陶瓷粉末烧结成陶瓷靶材，进而实现高质量陶瓷薄膜的磁控溅射。本技术的射频磁控溅射装置具有生产成本低廉、工艺控制简单、成膜质量优异等优点。【专利说明】一种射频磁控溅射装置
本技术属于涂层制备
，具体涉及一种射频磁控溅射装置。
技术介绍
高价值及利润丰厚产品制造行业(如:钟表、首饰、通讯及电子相关产品)对纯白色应用于金属底材的高功能、高素质及合理成本陶瓷涂层有着强大的需求，主要的欧美、韩国和日本制造商利用反应溅射制造奢侈品牌金属上的陶瓷涂层，但是，上述方法存在陶瓷涂层的化学成分不容易被控制、与金属的粘结性弱和工艺参数上的控制复杂等问题，容易造成不一致的表面颜色，而且生产成本昂贵，使相关生产商难以接受。因此，市场迫切需要确保其装饰及功能要求的新型陶瓷涂层材料的生产设备，以生产满足需求的陶瓷涂层，以进入及开拓利润丰厚的奢侈品市场。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种射频磁控溅射装置，可以满足生产白色陶瓷涂层的生产需求。本技术提供一种射频磁控溅射装置，包括靶座，所述靶座包括靶座主体，所述靶座主体的上方设置有冷却盘，所述冷却盘的上方顺次设置有屏蔽罩和靶支撑体，所述靶座主体的中空内部设置有永磁体支撑件和磁体罩，所述磁体罩设置于永磁体支撑件的外部。所述磁体...
【技术保护点】
一种射频磁控溅射装置，其特征在于，包括靶座，所述靶座包括靶座主体，所述靶座主体的上方设置有冷却盘，所述冷却盘的上方顺次设置有屏蔽罩和靶支撑体，所述靶座主体的中空内部设置有永磁体支撑件和磁体罩，所述磁体罩设置于永磁体支撑件的外部。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：卢伟贤，游文仁，张忠祥，易敏龙，刘耀鸿，
申请(专利权)人：香港生产力促进局，
类型：实用新型
国别省市：
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