基板处理装置以及基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够防止由于排出头以及保持该排出头的喷嘴臂而引起的污染的基板处理装置以及基板处理方法。通过旋转驱动部（63）使保持排出头的喷嘴臂（62）在基板W的上方的处理位置与包围基板W的处理罩的外侧的待机位置之间移动。在对基板W进行了清洗处理的喷嘴臂（62）位于待机位置时，从喷淋喷嘴（71）向斜下方的喷嘴臂（62）喷出清洗液。通过使3个喷嘴臂（62）升降以使3个喷嘴臂（62）穿过向斜下方喷出的清洗液的液流，来依次清洗3个喷嘴臂（62）。然后，从干燥气体喷嘴（76）向喷嘴臂（62）吹送氮气，来使附着于喷嘴臂的清洗液干燥。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及将排出头以及喷嘴臂维持得洁净的，其中，所述排出头向半导体晶片、液晶显示装置用玻璃基板等薄板状的精密电子基板(下面简称为“基板”)供给处理液，所述喷嘴臂用于保持该排出头。
技术介绍
以往，在基板的制造工序中使用如下的基板处理装置，S卩，在进行利用药液的药液处理以及利用纯水的冲洗处理等基板的表面处理之后，进行干燥处理。作为这样的基板处理装置，使用逐张地处理基板的单张式装置和多张基板统一处理的批量式装置。单张式的基板处理装置通常在进行了向旋转的基板表面供给药液的药液处理、供给纯水的纯水冲洗处理之后，使基板高速旋转来进行甩出干燥。例如专利文献1、2公开了这样的单张式的基板处理装置。·专利文献1、2公开的基板处理装置具有将基板保持为大致以水平姿势并使该基板旋转的旋转卡盘；向被旋转卡盘保持的基板的上表面供给处理液的喷嘴(排出头)；包围旋转卡盘的周围来挡住从基板飞散的处理液的罩。专利文献2公开的装置还具有用于容置这些结构构件的处理室；在罩的周围上下隔开处理室内的间隔板。在专利文献1、2公开的装置中，在处理中从旋转的基板以及旋转卡盘飞散的处理液可能附着于排出头。如果对这样附着的处理液本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于，具有：基板保持单元，将基板保持为大致水平姿势并使上述基板旋转，罩，包围上述基板保持单元的周围，喷嘴臂，在前端具有用于向被上述基板保持单元保持的基板排出处理液的排出头，旋转驱动部，使上述喷嘴臂旋转，以使上述排出头在位于被上述基板保持单元保持的基板的上方的处理位置与位于上述罩的外侧的待机位置之间移动，喷嘴臂清洗单元，至少清洗上述喷嘴臂的特定部位，该特定部位是指，在上述排出头移动到上述处理位置时与被上述基板保持单元保持的基板相向的部位。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：长田直之，杉本健太郎，
申请(专利权)人：大日本网屏制造株式会社，
类型：发明
国别省市：