一种提高靶室晶片传输效率的方法技术

本发明专利技术公开了一种提高靶室晶片传输效率的方法，包括：主机械手(1)，副机械手(2)，定向台(3)和靶台(4)四大功能模块，主机械手(1)下又有送回到片库(5)、送到定向台(6)、从片库取片(7)、从靶台取片(8)、状态出错(17)和任务结束(19)几个子模块，副机械手(2)下又有送片到靶台(9)和定向台取片(10)2个子模块，定向台下又有等待副机械手取片(11)、等待主机械手送片(12)和定向(13)3个子模块，靶台下又有注入(14)、等待副机械手送片(15)和等待主机械手取片(16)3个子模块，而每个大模块中都有运动出错(18)这个模块。其特征在于：其中所述主机械手(1)、副机械手(2)、定向台(3)和靶台(4)之间执行自己内部的事件，统一由上层模块来协调调配，避免程序内部和流程上的混乱现象，使程序和流程更简洁、更明朗。本发明专利技术可以使靶室内同时传送3片，最大化的提高机械手的利用率，缩短空闲时间，提高传输效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种半导体器件制造控制系统，尤其涉及一种控制离子注入机靶室晶片传输效率的方法。
技术介绍
离子注入机是一种通过引导杂质注入半导体晶片，从而改变晶片的传导率的设备，其中靶室晶片传输系统直接关乎设备的生产效率以及企业的效益。我们不能盲目的追求效率而忽略设备的稳定，因此稳定又高效的传输效率是当代离子注入机设备中的重要一环。因此，如何开发一套高效的靶室晶片传输系统，是离子注入机控制系统需要解决·的问题。
技术实现思路
本专利技术是针对现有技术中靶室晶片传输效率比较低，进而导致生产效率和效益低下，难于适用于大规模生产线，而开发的一套靶室晶片传输系统。本专利技术通过以下技术方案实现采用有限状态机的编程思想，把复杂繁琐的靶室晶片传输控制分解为有限个子状态机，每个状态机独自处理自己本身的事务，把每个事务在处理过程中的状态通过一个观察者的变量，反馈给上层状态机，可以理解为由点到面的处理过程。各个子状态机根据当前的状态决定是否执行接受到的命令，子状态机之间互不干扰，统一由上层状态机调配，避免了子状态之间的时序混乱，提高了系统的稳定性。本专利技术具有如下显著优点I.系统比较稳定，任何一个状态有本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种提高靶室晶片传输效率的方法，，包括：主机械手(1)，副机械手(2)，定向台(3)和靶台(4)四大功能模块，主机械手(1)下又有送回到片库(5)、送到定向台(6)、从片库取片(7)、从靶台取片(8)、状态出错(17)和任务结束(19)几个子模块，副机械手(2)下又有送片到靶台(9)和定向台取片(10)2个子模块，定向台下又有等待副机械手取片(11)、等待主机械手送片(12)和定向(13)3个子模块，靶台下又有注入(14)、等待副机械手送片(15)和等待主机械手取片(16)3个子模块，而每个大模块中都有运动出错(18)这个模块。其特征在于：其中所述主机械手(1)、副机械手(2)、定向台(3)和...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨亚兵，伍三忠，谢均宇，
申请(专利权)人：北京中科信电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：