【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及铁电晶体畴，特别是一种实时检测铁电晶体畴反转的装置。
技术介绍
随着周期畴反转的制备技术日益成熟，铁电畴的检测与分析手段也日趋多样和先进。选择性化学刻蚀法观察铁电晶体畴结构，快速、操作相对简单，但具有破坏性。光学显维镜或扫描电子显微镜观察法可以观察到小于O. I μ m的畴结构，但不能实时观察畴反转的过程。光学观察法无接触、无破坏，可以实时观察畴结构的形成过程，但不能定量给出铁电晶体中反转畴结构的深度等重要信息。数字全息干涉测量术利用CCD摄像机等光电探测器代替普通全息记录介质全息图，通过计算机数值计算取代光学衍射再现所记录的物场，可同时获得物场的振幅信息和相位信息，能够对激光诱导畴反转区域进行三维测量。 本专利技术无接触、无破坏且具有较高分辨率，既可以准实时监测和定量分析畴结构的动态变化，又可以检测畴结构对外电场的静态响应，通过获取反转畴结构的二维和三维信息，有利于定量研究畴反转静、动力学机制。有利于实现实时化测量，具备其他技术所无法比拟的优势。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述现有技术不足，提供一种实时检测铁电晶体畴反转的装置。该装置可对...
【技术保护点】
一种实时检测铁电晶体畴反转的装置，其特征在于该装置包括：氦氖激光器（1）、滤波器（2）、平行光管（3）、第一全反镜（4）、第二全反镜（5）、分光棱镜（7）、成像透镜（8）、CCD耦合器（9）和计算机（10），上述元部件的位置关系如下：氦氖激光器（1）输出的633nm光束经过滤波器（2）滤波、平行光管（3）准直后，被分光棱镜（7）分成反射光束和透射光束，该反射光束为探测光束，透射光束为参考光束，探测光束经待测的铁电晶体样品（6）形成物光波，该物光波经过第一全反镜（4）反射后，再经过铁电晶体样品（6）在所述的分光棱镜上与经过第二全反镜（5）反射的参考光束耦合干涉，经成像透镜（8...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：侯培培，职亚楠，孙建锋，刘立人，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：
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