光测量分析装置、储藏库、电磁波发生装置以及光测量分析方法制造方法及图纸

技术编号:8190092 阅读:262 留言:0更新日期:2013-01-10 01:16
一种光测量分析装置、储藏库、电磁波发生装置以及光测量分析方法。提供一种能效率良好地对分析对象物的大致整个面照射光并使分析的精度得以提高的光测量分析装置。本实施方式的光测量分析装置包括容器、光源、光照射部、光接收部、分光部、以及对由分光部得到的光的频谱进行分析的分析部。容器的内壁构成为对从分析对象物反射的光和透射后的光进行反射。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光测量分析装置、光测量分析方法、将光测量分析装置作为构成部件的具有冷却功能的储藏库以及电磁波发生装置。
技术介绍
现有技术中,作为通过非破坏来对检查对象物进行分析的分析方法,有如下方法分析对检查对象物照射光而得到的透射光或者反射光的光谱,使用多变量解析等解析手法来取得特性的信息。该分析方法利用了如下原理物质对特定的波长的光给出吸收、散射、以及反射这样的变化。具体而言,利用了根据物质而变化的光的波长、以及此时的光的吸光度、反射率这样的光的性质与该物质的构成成分、该物质的粒子的大小、构成成分的浓度、以及含有杂质的种类等这样的物质的特性相关。该吸光度以及反射率能对透射光或反射光的频谱实施简单的计算式而求取。因此,若分析对检查对象物照射光而得到的光的吸光度 或反射率等,则能取得检查对象物的特性的信息。为了进行上述的光测量分析,提出了各种装置。例如,图9示出了特开2001-133401号公报所公开的光学测量装置。光学测量装置包括对果蔬等被测量物H投光的投光器904、以及接受已透射了被测量物H的光的光接收器905。光学测量装置基于由光接收器905接收的光的强度,来测量被测量物H的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光测量分析装置,具备:能收纳分析对象物的容器;光源;光照射部,其构成为将所述光源的光导入所述容器内;光接收部,其构成为对透射过所述分析对象物的透射光或者反射后的反射光进行接收;分光部,其构成为对由所述光接收部接收的光进行分光;和分析部,其构成为对通过所述分光部得到的光的频谱进行分析,所述容器的内壁构成为对所述透射光或者所述反射光进行反射。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:松田京子奥村敏之
申请(专利权)人:夏普株式会社
类型:发明
国别省市:

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