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一种光测量分析装置、储藏库、电磁波发生装置以及光测量分析方法。提供一种能效率良好地对分析对象物的大致整个面照射光并使分析的精度得以提高的光测量分析装置。本实施方式的光测量分析装置包括容器、光源、光照射部、光接收部、分光部、以及对由分光部得到...
该专利属于夏普株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过夏普株式会社授权不得商用。

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