【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种基于倒置工艺的双臂梁MEMS器件的形成方法,其特征在于,包括以下步骤:提供衬底;在所述衬底之上形成过渡层;在所述过渡层之上形成底层电极;在所述底层电极之上形成层间介质层,其中,所述层间介质层覆盖所述底层电极;在所述层间介质层上形成上层电极层;刻蚀所述上层电极层和所述层间介质层以形成开口,露出所述底层电极的一部分,并且将所述上层电极层形成第一上层电极与第二上层电极;在所述第一上层电极与第二上层电极之上形成二维材料薄膜,其中,所述二维材料薄膜跨过所述开口;以及分别在所述二维材料薄膜两端上方形成第一金属接触和第二金属接触,其中,所述第一金属接触与所述第一上层电极的至少一部分相连,所述第二金属接触与所述第二上层电极的至少一部分相连。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:伍晓明,肖柯,吕宏鸣,钱鹤,吴华强,
申请(专利权)人:清华大学,
类型:发明
国别省市:
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