一种纳米缝隙金属聚焦透镜的制备方法技术

本发明专利技术提供一种纳米缝隙金属聚焦透镜的制备方法，首先确定入射波长，选取合适的透光基底材料，基底上再蒸镀一层金属膜，让入射光垂直于金属膜表面入射；利用纳米加工技术在金属膜上加工等宽度的狭缝或者环形缝阵列；对于预定焦点位置的光聚焦，计算光在焦点位置聚焦时光波在不同位置排布的狭缝或者环形缝的位相延迟分布，通过聚焦离子束引导沉积特定厚度的介质满足光波在不同位置排布狭缝或者环形缝的位相延迟要求，使金属聚焦透镜实现对入射光在预定焦点位置的聚焦。本发明专利技术根据预定的焦点位置来改变金属聚焦透镜的狭缝或者环形缝内介质厚度沉积以实现近场或者远场光聚焦，同时其透镜结构简单，可很方便的用于光路系统集成，具有广阔的应用前景。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及金属膜上加工狭缝或者环形缝的聚焦装置的
，特别涉及ー种纳米缝隙金属聚焦透镜的制备方法，该纳米缝隙金属聚焦透镜具体为纳米狭缝介质沉积调制相位的纳米金属聚焦透镜。
技术介绍
近年来，基于表面等离子体位相调制的金属结构纳光子器件设计引起人们的极大关注。通过表面等离子体在金属狭缝的反对称色散特性，表面等离子体在金属狭缝的传播常数由缝隙宽度和缝隙材料的介电常数决定。现有金属结构纳光子器件设计的位相调制都是通过调节金属膜上狭缝宽度，从而实现亚波长尺度下的位相调制。然而，改变金属缝隙宽度调节位相的能力非常有限。为了实现周期范围(O到2π )范围内的位相变化，通常要求金属狭缝的宽度小于20纳米，金属膜厚度大于200纳米。现有纳米加工技术手段加工高深 宽比(>10 1)的金属狭缝具有非常大的难度。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是克服现有技术的不足，利用表面等离子体的传播特性提出ー种纳米缝隙金属聚焦透镜及制备方法，方便用于光路系统集成的包含纳米级缝隙的金属透镜。本专利技术解决其技术所采用的技术方案ー种纳米缝隙金属聚焦透镜的制备方法，其特征在于步骤如下步骤(I)、选择入本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纳米缝隙金属聚焦透镜的制备方法，其特征在于包括下列步骤：步骤（1）、选择入射光的工作波长λ，根据其波长选择可以透光的基底材料；步骤（2）、在基底表面蒸镀厚度为d的金属膜，入射光垂直于金属膜上表面入射；步骤（3）、取垂直穿过金属膜的中心为中轴，假设中轴与金属膜上表面相交位置为坐标原点，在金属膜上表面取过原点的某方向为x轴方向，确定x轴正方向，利用纳米加工技术在金属膜上加工宽度w的多组狭缝或者多组同心环形缝；步骤（4）、对于预定焦点位置f的光聚焦，利用聚焦离子束在狭缝或者环形缝内引导沉积满足等光程要求的不同介质厚度，加工出一种纳米缝隙金属聚焦透镜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：罗先刚，赵泽宇，王长涛，王彦钦，黄成，陶兴，杨欢，刘利芹，杨磊磊，蒲明薄，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：