本发明专利技术公开了一种配向膜、彩膜基板、阵列基板、液晶显示装置及制造方法。该配向膜包括：配向膜中间部分和配向膜周边部分，所述配向膜中间部分形成于显示区域，所述配向膜周边部分间隔形成于所述显示区域周边的周边区域。本发明专利技术中，配向膜周边部分具有镂空结构，使得封框胶可形成于彩膜基板配向膜和阵列基板配向膜之间，并填充于镂空结构中，使封框胶部分与彩膜基板结构和/或阵列基板结构接触，在满足粘接力的前提下减小了封框胶与显示区域之间的距离，从而减小了封框胶涂布区域的宽度。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及液晶显示领域，特别涉及一种。
技术介绍
液晶显示器是目前常用的平板显示器，其中薄膜晶体管液晶显示器(Thin FilmTransistor Liquid Crystal Display,简称TFT-IXD)是液晶显示器中的主流产品。 TFT-IXD是由多个构件组成的一个精密而复杂的器件。图13为现有技术中液晶显示装置的结构示意图，如图13所示，该液晶显示装置包括相对设置的彩膜基板和阵列基板，彩膜基板和阵列基板之间填充有液晶层10，彩膜基板和阵列基板之间还形成有隔垫物12，该隔垫物12用于支撑相对设置的彩膜基板和阵列基板。其中，该彩膜基板包括彩膜基板结构4和形成于彩膜基板结构4之上的彩膜基板配向膜18，彩膜基板配向膜18位于液晶显示装置的显示区域(Active Area)和周边区域(Peripheral Area);该阵列基板包括阵列基板结构7和形成于阵列基板结构7之上的阵列基板配向膜19，阵列基板配向膜19位于液晶显示装置的显示区域和周边区域。在周边区域中，彩膜基板配向膜18和阵列基板配向膜19之间还形成有封框胶11。在液晶显示
中，周边区域为显示区域与液晶显示装置边缘之间的区域，而将从显示区域到液晶显示装置边缘之间的距离称为封框胶涂布区域(SealingArea)。例如上述液晶显示装置可以为扭曲向列(Twisted Nematic,以下简称TN)型液晶显示装置或者高级超维场转换(Advanced Super DimensionSwitch,以下简称ADS)型液晶显示装置。以液晶显示装置为TN型液晶显示装置为例，彩膜基板结构具体可包括彩膜衬底基板、彩色矩阵、黑矩阵和公共电极，彩色矩阵和黑矩阵以矩阵形式形成于彩膜衬底基板上，且彩色矩阵设置于黑矩阵之间，公共电极形成于彩色矩阵和黑矩阵之上并覆盖彩膜衬底基板。其中，彩色矩阵形成于显示区域，黑矩阵形成于显示区域和周边区域，公共电极形成于显示区域和周边区域，则在周边区域中，彩膜基板配向膜18的下方形成有公共电极。换言之，彩膜基板结构可以包括彩膜基板中除彩膜基板配向膜18之外的其它所有组成结构。其中，阵列基板结构具体可包括阵列衬底基板、栅线和数据线，栅线和数据线限定出像素区域，像素区域内部形成有像素电极，其中，栅线和数据线之间形成有绝缘层，数据线上方形成有钝化层，绝缘层和钝化层均覆盖整个阵列衬底基板，钝化层上形成有过孔，像素电极填充于过孔中以将数据线和像素电极电连接。其中，像素电极形成于显示区域，其余组成结构均形成于显示区域和周边区域，则在周边区域中，阵列基板配向膜19的下方形成有钝化层。换言之，阵列基板结构可以包括阵列基板中除阵列基板配向膜之外的其它所有组成结构。窄边框(Nairow Bezel)是以后液晶显示装置的发展趋势，特别是对于小尺寸的平板电脑和手机用的液晶屏，对窄边框的要求越来越高，但是由于液晶显示装置周边制作工艺的限制，目前窄边框产品的设计状况还有很大的改进和提升空间。而窄边框设计的关键就是减小封框胶涂布区域的大小，目前TFT-LCD行业减小封框胶涂布区域主要是通过减小周边区域中配向膜的宽度、减小封框胶自身的胶宽、让封框胶与彩膜基板上的ITO(图中未示出)重叠一部分或者全部重叠、或者让封框胶与配向膜部分重叠等方法实现。周边区域的配向膜尺寸由于受到TFT-LCD产线エ艺精度的限制，必须要大于一定的值以保证配向膜的制成质量，这就给通过减小配向膜的宽度来减小封框胶涂布区域造成一定的困难。因此，现有技术中通常通过让封框胶与配向膜部分重叠的方式来减小封框胶涂布区域的宽度。图14为现有技术中封框胶与配向膜部分重叠的示意图，如图14所示，在该液晶显示装置中，封框胶11的一部分与彩膜基板配向膜18和阵列基板配向膜19重叠，另一部分与彩膜基板结构4和阵列基板结构7重叠。由于封 框胶与配向膜之间的粘接カ较弱，因此为了达到粘接力的要求，现有技术中仅能采取封框胶11部分与配向膜接触、部分与配向膜外侧的彩膜基板结构和阵列基板结构接触的方案，这极大的限制了封框胶与显示区域之间距离的减小，从而造成封框胶涂布区域的宽度较大。
技术实现思路
本专利技术提供一种，用以减小封框胶涂布区域的宽度。为实现上述目的，本专利技术提供了一种配向膜，包括配向膜中间部分和配向膜周边部分，所述配向膜中间部分形成于显示区域，所述配向膜周边部分形成于所述显示区域周边的周边区域，所述配向膜周边部分具有镂空结构。可选地，所述配向膜周边部分包括多个环形结构，所述镂空结构为相邻所述环形结构之间的间隔。可选地，所述环形结构之间间隔的宽度大于0. 05mm且小于0. 3mm。可选地，与所述配向膜中间部分相连接的配向膜周边部分的宽度大于或等于0. Imm0为实现上述目的，本专利技术提供了一种彩膜基板，包括彩膜基板结构和形成于所述彩膜基板结构之上的彩膜基板配向膜，所述彩膜基板配向膜采用上述配向膜。为实现上述目的，本专利技术提供了一种阵列基板，包括阵列基板结构和形成于所述阵列基板结构之上的阵列基板配向膜，所述阵列基板配向膜采用上述配向。为实现上述目的，本专利技术提供了ー种液晶显示装置，包括彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和所述阵列基板相对设置，所述彩膜基板和所述阵列基板之间填充有液晶层，所述彩膜基板和所述阵列基板之间还形成有封框胶，所述彩膜基板采用如上述彩膜基板，和/或所述阵列基板采用如上述阵列基板。可选地，所述封框胶的内侧边缘与显示区域边缘的距离大于或等于0. 1_。为实现上述目的，本专利技术提供了一种彩膜基板的制造方法，包括形成彩膜基板结构；在所述彩膜基板结构上形成彩膜基板配向膜，所述彩膜基板配向膜包括配向膜中间部分和配向膜周边部分，所述配向膜中间部分形成于显示区域，所述配向膜周边部分形成于所述显示区域周边的周边区域，所述配向膜周边部分具有镂空结构。可选地，所述在所述彩膜基板结构上形成彩膜基板配向膜包括在所述彩膜基板结构上形成彩膜配向膜液态材料；将干涉板放置于所述彩膜基板结构上，所述干涉板包括基底和设置于所述基底上的间隔探针，所述间隔探针与所述彩膜基板结构接触并位于所述周边区域中，所述间隔探针用于使所述配向膜周边部分具有镂空结构；对所述彩膜配向膜液态材料进行加热处理，形成所述彩膜基板配向膜；将所述干涉板和所述彩膜基板结构分离。可选地，所述间隔探针为环形探针。可选地，所述干涉板的材料包括多晶硅、非多晶硅和氮化硅中之一或其任意组合。 可选地，所述间隔探针的表面具有疏水性。为实现上述目的，本专利技术提供了一种阵列基板的制造方法，包括形成阵列基板结构；在所述阵列基板结构上形成阵列基板配向膜，所述阵列基板配向膜包括配向膜中间部分和配向膜周边部分，所述配向膜中间部分形成于显示区域，所述配向膜周边部分形成于所述显示区域周边的周边区域，所述配向膜周边部分具有镂空结构。可选地，所述在所述阵列基板结构上形成阵列基板配向膜包括在所述阵列基板结构上形成阵列配向膜液态材料；将干涉板放置于所述阵列基板结构上，所述干涉板包括基底和设置于所述基底上的间隔探针，所述间隔探针与所述阵列基板结构接触并与所述周边区域的位置对应，所述间隔探针用于使所述配向膜周边部分具有镂空结构；对所述阵列配向膜液态材料进行加热处理，形成所述阵列基板配向膜；将所述干涉板和所述阵列本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种配向膜，包括：配向膜中间部分和配向膜周边部分，所述配向膜中间部分形成于显示区域，所述配向膜周边部分形成于所述显示区域周边的周边区域，其特征在于，所述配向膜周边部分具有镂空结构。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王辉，郭磊，王春，叶訢，秦锋，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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