【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光学测量领域，特别涉及。
技术介绍
多层膜系统中的光能分布是了解器件中的光损耗，优化器件中的光传输的重要依据。多层膜系统光能分布研究包括各层膜中的光吸收研究和各界面对光能分布影响研究两个重要方面，是光电
中极为重要的研究课题，在太阳能光伏电池、光电探测器和光发射二极管(简称LED)等领域有着极其重要的应用价值。现代光学技术中常采用光谱椭偏仪测量薄膜材料光学常数，采用分光光度计测量多层膜系统的反射率、透射率和吸收率，采用等效界面技术计算多层膜系统的反射、透射和吸收率。但是，光谱椭偏仪无法测量多层膜系统反射、透射和吸收率，分光光度计和等效界 面技术无法测量或计算各层膜中的光吸收及各界面对光能分布的影响。这在很大程度上制约了器件中光传输和光损耗的研究，给器件结构研究和性能优化研究带来一定的难度。
技术实现思路
本专利技术的目的是解决多层膜系统中无法有效测量各层膜中的光吸收及各界面对光能分布的影响，而提出一种多层膜系统光能分布的测量方法。本专利技术解决了现代光学手段无法测量多层膜系统中光能分布的问题，为研究入射光在多层膜系统中的分布及各界面对光能分布的影...
【技术保护点】
一种多层膜系统光能分布测量方法，用于测量多层膜系统中各界面及各层膜对光能分布的影响，其特征在于，所述方法包括步骤：(1)分别测量入射介质、各层膜及基底的光学常数和薄膜厚度；(2)对每一界面，测量入射光无限接近该界面时的反射率、透射率和吸收率；(3)对每一界面，测量入射光刚刚跨过该界面时的反射率、透射率和吸收率；(4)按照从顶膜表面到膜基界面的顺序排列获得的光能分布信息，比较相邻两个测量结果，得到各界面及各层膜对光能分布的影响结果。
【技术特征摘要】
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