【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及热辅助磁记录介质和使用了该介质的磁存储装置。
技术介绍
对介质照射近场光等,局部地加热表面,使介质的矫顽力降低来进行写入的热辅助记录,作为能够实现约ITbit/英寸2或其以上的面记录密度的下一代记录方式受到关注。在使用热辅助记录的情况下,即使是在室温下的矫顽力为数十kOe的记录介质,也可以通过现有磁头的记录磁场容易地进行写入。因此,记录层可使用具有106J/m3程度的高的晶体磁各向异性Ku的材料,可以在维持热稳定性的状态下将磁性粒径微细化到6nm以下。作为这样的高Ku材料,已知具有Lltl型晶体结构的FePt合金(Ku 乂 7X 106J/m3)和CoPt合金 (Ku ^ 5X106J/m3)等。在磁性层使用具有Lltl型晶体结构的FePt合金的情况下,该FePt层需要取得(001)取向。因此,优选基底层使用进行了(100)取向的MgO。MgO的(100)面与LI。型FePt的(001)面晶格匹配性良好,因此通过在(100)取向了的MgO基底层上形成LI。型FePt磁性层,可以使该磁性层取得(001)取向。另一方面,在热辅助磁记录介质中,为了降低介 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:神边哲也,桥本笃志,福岛隆之,
申请(专利权)人:昭和电工株式会社,
类型:
国别省市:
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