基板处理设备和基板处理方法技术

提供一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：索引部，所述索引部包括端口和索引机械手，在所述端口上放置有容纳基板的容器；用于处理所述基板的处理部；和缓冲单元，所述缓冲单元设置于所述处理部和所述索引部之间以允许在所述处理部和所述索引部之间传送的基板在所述缓冲单元中临时停留。所述处理部包括胶移除处理模块、基板冷却处理模块、热处理模块和功能水处理模块，它们沿用于传送基板的传送通道设置。

【技术实现步骤摘要】
相关申请的交叉参考根据35U. S. C. § 119，此美国非临时专利申请要求享有2011年5月31日提出的、韩国专利申请号为10-2011-0052381和2011年9月I日提出的、韩国专利申请号为10-2011-0088465的优先权，它们的全部内容以引用方式并入本文中。
技术介绍
在此揭露的本专利技术涉及一种基板处理设备，尤其涉及一种可在基板上执行湿法清洗和干法清洗的基板处理设备，以及一种基板处理方法。光罩在光刻处理中使用，用于将预定光刻胶图案传送至晶圆以及曝光装置上。此光罩包括在其整个表面上的预定光阻挡层图案或相移层图案。光罩是通过将覆盖光阻挡层图案或相移层图案的薄膜附着于遮罩基板上而制成，用以保护光阻挡层图案或相移层图 案。还对光罩执行清洗工艺以移除由于各种因素而出现的污染。此清洗工艺分为使用H2SO4的湿法清洗工艺和使用紫外线或热的干法清洗工艺。在执行光罩修复工艺后，可必要的执行该清洗工艺。然而，为执行现有的光罩清洗工艺，应单独提供用于湿法清洗的设备和用于干法清洗的设备。因而，会花费相对长的工艺处理时间，并且也可能因为光罩的外部曝光而出现背部污染。
技术实现思路
本专利技术提供一种基板处理设备和方法，能够通过减小光罩的外部曝光而防止出现光罩背部污染。本专利技术还提供一种能选择性地执行干法清洗和湿法清洗工艺的基板处理设备和方法。本专利技术的目的不限于前面所述内容，本领域技术人员由下面的说明将清楚地理解其他本文中未描述的目的。本专利技术实施例提供的基板处理设备包括索引部，所述索引部包括端口和索引机械手(robot)，在所述端口上放置有容纳基板的容器；用于处理所述基板的处理部；和缓冲单元，所述缓冲单元设置于所述处理部和所述索引部之间以允许在所述处理部和所述索引部之间传送的基板在所述缓冲单元中临时停留，其中所述处理部包括胶移除处理模块、基板冷却处理模块、热处理模块和功能水处理模块，它们沿用于传送基板的传送通道设置。在一些实施例中，所述处理部可包括在基板上执行湿法清洗工艺的第一处理部；以及堆叠在所述第一处理部上以在基板上执行干法清洗和功能水清洗工艺的第二处理部。在其他实施例中，所述第一处理部可包括第一传送通道，所述第一传送通道包括用于传送基板的第一传送机械手，并且所述胶移除处理模块和所述基板冷却处理模块可在所述第一传送通道的一侧上沿所述第一传送通道设置。在其他实施例中，所述胶移除处理模块可包括高温含硫单元(HSU，high tempsulfuric unit)和胶移除高温含硫单兀(GSU, glue removal high temp sulfuric unit),所述高温含硫单元(HSU)对整个基板应用硫酸过氧化氢混合(SPM, sulfuric peroxidemixture)溶液以移除胶，所述胶移除高温含硫单元(GSU)对所述基板的边缘应用SPM溶液以移除胶。在其他实施例中，所述第二处理部可包括第二传送通道，所述第二传送通道包括用于传送基板的第二传送机械手，并且所述热处理模块和所述功能水处理模块可在所述第二传送通道的一侧上沿所述第二传送通道设置。在其他实施例中，所述热处理模块可包括用以执行烘焙工艺的烘焙板和用以执行UV照射工艺的UV灯，其中所述烘焙工艺和所述UV照射工艺可分别执行或同时执行。在进一步实施例中，所述功能水处理模块可选择性地使用功能水来移除微粒，且所述功能水可包括含CO2的去离子水、含H2的去离子水、含O3的去离子水。 在进一步实施例中，电离器(ionizer)可设置在传送通道中。在进一步实施例中，缓冲单元可包括上面放置有基板的第一缓冲器；用于翻转所述第一缓冲器的驱动部；以及框架，所述框架具有中心区域，开口的前和后表面以及驱动部区域，所述第一缓冲器设置在所述中心区域上，所述驱动部设置在所述驱动部区域上且设置在所述中心区域的两侧。在进一步实施例中，所述第一缓冲器可包括用于支撑所述基板的一表面的第一支撑部，和朝向所述第一支撑部的第二支撑部，所述第二支撑部支撑放置在所述第一支撑部上的基板的另一表面，其中所述驱动部可包括用于旋转所述第一和第二支撑部的旋转模块；和用于提升所述第二支撑部使得基板被夹持在所述第一和第二支撑部上的提升模块。在进一步实施例中，所述第一缓冲器的旋转轴可从基板的夹持位置的中心偏心，使得在基板被翻转后，基板的装载位置与基板的卸载位置相同。在进一步实施例中，热处理模块可包括烘焙板，基板被装载在所述烘焙板上；主体，所述烘焙板被设置在所述主体上，所述主体具有开口的预面和侧面，在所述侧面上限定了用于送入或送出基板的入口 ；用于开启或关闭主体的开口的顶面的盖；设置在盖中以照射基板上的UV层的UV灯。在进一步实施例中，基板处理设备还可包括用于支撑基板送入或送出入口孔的左栓(pins);第一提升驱动部，用于提升由所述顶栓(lift pin)支撑在烘焙板和UV灯之间的基板；和第二提升驱动部，用于提升所述烘焙板，其中所述第一提升驱动部可在以下位置提升所述基板把基板送入或送出入口孔的装载/卸载位置；烘焙位置，所述烘焙位置低于所述装载/卸载位置且基板坐落在烘焙板的所述烘焙位置处以在所述基板上执行烘焙工艺；以及在高于装载/卸载位置的UV照射位置，且所述基板在所述UV照射位置处靠近所述UV灯以在基板上执行UV照射工艺，并且所述第二提升驱动部可提升所述烘焙板至靠近所述UV灯的UV照射位置以在所述基板上执行UV照射工艺。在进一步实施例中，所述基板冷却处理模块可包括室；和设置在所述室的内部空间中的冷却单元，其中所述冷却单元可包括互相隔开的第一和第二支撑框架；设置在所述第一和第二支撑框架内的冷却板，所述基板放置在所述冷却板上；设置在所述冷却板下的顶栓；和设置在所述第一和第二支撑框架外以上下举起所述顶栓的驱动部。在进一步实施例中，所述冷却单元还可包括空间隔离盖，所述空间隔离盖覆盖所述第一和第二支撑框架的外表面使得在其中设置有所述驱动部的驱动部空间与所述室的内部空间隔离。在进一步实施例中，第一和第二传送机械手中的每一者可包括基底；包括口袋部的至少一只手柄，所述至少一只手柄被从限定在基底之上的原位置移动至拾起基板的拾起位置；对齐部，用于在所述至少一只手柄从拾起位置返回至原位置时将基板在位置上对齐；以及与基底的顶面隔开的支撑架(gantry)，所述对齐部设置在所述支撑架上。在本专利技术的其他实施例中，基板处理方法包括提供容纳在容器中的基板至索引部中；将所述基板从所述索引部传送至在其中执行清洗工艺的处理部；在清洗部中在所述基板上执行清洗工艺，其中所述清洗工艺包括从基板上移除胶；以及移除被移除了胶的基板的表面上的微粒。 在一些实施例中，所述清洗工艺还可包括在所述胶移除工艺和所述微粒移除工艺之间烘焙所述基板及照射基板上的UV层；以及冷却所述基板。在其他实施例中，基板可在其中临时停留的缓冲单元被设置在所述索引部和所述处理部之间，以在基板停留在所述缓冲单元中时翻转在所述索引部和所述处理部之间传送的基板。在其他实施例中，所述移除胶可包括使用硫酸过氧化氢混合物(SPM)溶液处理基板表面；使用热去离子水处理基板表面；使用RCA标准清洗溶液(标准清洗液I(SC-I))处理基板表面；使用漂洗(rinsing)溶液处理基板表面；及干燥基板表面，其中，所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理设备，包括：索引部，所述索引部包括端口和索引机械手，在所述端口上放置有容纳基板的容器；用于处理所述基板的处理部；和缓冲单元，所述缓冲单元设置于所述处理部和所述索引部之间以允许在所述处理部和所述索引部之间传送的所述基板在所述缓冲单元中临时停留，其中所述处理部包括胶移除处理模块、基板冷却处理模块、热处理模块和功能水处理模块，它们沿用于传送基板的传送通道设置。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：姜丙喆，姜秉万，张东赫，金性洙，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：