硅片清洗机喷淋用水加热设备制造技术

技术编号:7838536 阅读:156 留言:0更新日期:2012-10-12 04:15
本发明专利技术公开了一种硅片清洗机喷淋用水加热设备,包括喷淋用水水箱和电加热管,所述喷淋用水水箱内设有电加热管;所述电加热管包括金属管、电阻丝和氧化镁粉,所述金属管内设置有电阻丝,金属管内空隙部分填充有氧化镁粉。通过使用本发明专利技术产品后,水温达到了工艺要求,保持在40℃左右,杜绝了多晶硅片脏片和花片现象,提高了产品的合格率,降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种多晶硅片生产设备,具体涉及一种硅片清洗机喷淋用水加热设备
技术介绍
硅片清洗机中使用的喷淋用水水温需保持在40°C,现有的硅片清洗机中没有加热设备,常因水温不足引起多晶硅片的脏片和花片现象,远远达不到生产工艺的要求。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服现有技术的不足,提供一种硅片清洗机喷淋用水加热设备,解决了因水温不足所引起的多晶硅片的脏片和花片现象。本专利技术采用的技术方案是一种硅片清洗机喷淋用水加热设备,包括喷淋用水水箱和电加热管,所述喷淋用水水箱内设有电加热管; 所述电加热管包括金属管、电阻丝和氧化镁粉,所述金属管内设置有电阻丝,金属管内 空隙部分填充有氧化镁粉。工作原理本专利技术在耐高温不锈钢无缝管内均匀地分布高温电阻丝,在空隙部分致密地填入导热性能和绝缘性能均良好的结晶氧化镁粉,当高温电阻丝中有电流通过时,产生的热通过结晶氧化镁粉向金属管表面扩散,再传递到喷淋用水中去,达到加热的目的,再供硅片清洗机使用。有益效果通过使用本专利技术产品后,水温达到了工艺要求,保持在40°C左右,杜绝了多晶硅片脏片和花片现象,提高了产品的合格率,降低了生产成本。附图说明附图为本专利技术的结构示意图。具体实施例方式下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步说明 如附图所示一种硅片清洗机喷淋用水加热设备,包括喷淋用水水箱I和电加热管2,所述喷淋用水水箱I内设有电加热管2 ; 所述电加热管2包括金属管、电阻丝和氧化镁粉,所述金属管内设置有电阻丝,金属管内空隙部分填充有氧化镁粉。

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1. 一种硅片清洗机喷淋用水加热设备,其特征在于包括喷淋用水水箱(I)和电加热管(2),所述喷淋用水水箱(I)内设有电加...

【专利技术属性】
技术研发人员:姚兴平
申请(专利权)人:江苏新潮光伏能源发展有限公司
类型:发明
国别省市:

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