本发明专利技术提供一种薄膜沉积系统，用以形成至少一材料层在至少一基板上的系统，该系统包括一载台，载台沿着一载台轴进行旋转，至少一承座齿轮设置在载台上，承座齿轮与载台一起沿着载台轴进行旋转，至少两相邻的承座齿轮的齿纹将会有至少部分重叠且未相互接触，一中央齿轮啮合至承座齿轮，当各承座齿轮沿着载台轴进行旋转时，中央齿轮带动各承座齿轮沿着其各自对应的承座轴进行旋转。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种薄膜沉积装置，尤其涉及一种在基板上沉积薄膜材料的旋转系统。
技术介绍
薄膜沉积已经广泛使用在各种物件的表面处理之上，例如首饰、餐具、工具、模具、及/或半导体装置。通常，在金属、合金、陶器及/或半导体的表面上是形成同质或非同质的薄膜组成物，以增进构造表面的耐磨、耐热及/或耐蚀等特性。薄膜沉积技术主要分成两种，其中一种为物理气相沉积(PhysicalVapor Deposition ;PVD),另一种为化学气相沉积(chemical vapor deposition ；CVD)。、随着沉积技术及沉积处理参数的差异，所沉积的薄膜结构可能为一单晶、一多晶或非结晶的结构。单晶及/或多晶薄膜往往也可用以形成外延层，该外延层对于半导体集成电路的工艺而言十分重要。例如外延层可制作为半导体层，且也可在特定条件(例如真空条件)之下进行掺质的分布而掺杂形成该外延层，藉以抑制氧及/或碳杂质的污染。一种化学气相沉积(CVD)处理形式称之为有机金属化学气相沉积(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition ；MOCVD)。在有机金属化学气相沉积(MOCVD)方面，将会有至少一载流气体来载运至少一气相试剂及/或反应源进入一反应腔(例如一真空腔)，反应腔包含至少一基板(例如半导体基板(晶圆))。基板的背面往往通过射频(RF)感应或电阻加热元件进行加热以提升基板的温度。在高温时，气相试剂及/或反应源也可发生至少一化学反应以转换出至少一固态产物，且沉积在基板的表面上。某些过程中，有机金属化学气相沉积(MOCVD)所形成的外延层将使用于制作发光二极管(Light Emitting Diodes ；LEDs)上。再者，利用有机金属化学气相沉积(MOCVD)所制作出的发光二极管，其品质将会因为各种因素而受到影响，例如在反应腔中流量的稳定度或均匀度、在基板表面上流量的均匀度、温度控制的精确度及/或其他因素。上述因素将会影响到有机金属化学气相沉积(MOCVD)所形成的外延层，进而影响到及其制作出的发光二极管的品质。在此，本专利技术将提出一种利用有机金属化学气相沉积(MOCVD)进行外延成形的改善技术的系统及其方法，尤指一种可在外延层的沉积期间改善在真空腔中及基板表面上的流体均匀度的系统及其方法。
技术实现思路
本专利技术一实施例中，提出一种用以形成至少一材料层在至少一基板上的薄膜沉积系统，系统包括一载台，载台绕一载台轴旋转；至少一承座齿轮设置在载台上，各承座齿轮与载台一起绕载台轴旋转，其中至少两相邻的承座齿轮的齿纹至少部分重叠且未相互接触；一中央齿轮啮合各承座齿轮，当各承座齿轮沿着载台轴旋转时，中央齿轮带动各承座齿轮绕其各自对应的承座轴旋转。本专利技术又一实施例中，提出一种用以形成至少一材料层在至少一基板上的薄膜沉积方法，方法包括使至少一基板绕一载台轴旋转，至少一基板是设在至少一承座齿轮上，且至少一承座齿轮设置在一载台上；当承座齿轮绕载台轴旋转时，以一中央齿轮使各承座齿轮绕其各自对应的承座轴进行旋转，其中至少两相邻的承座齿轮的齿纹啮合中央齿轮的齿纹以及至少两相邻的承座齿轮的齿纹将至少部分重叠且未相互接触；当至少一基板绕载台轴及各承座轴旋转时，至少一材料层形成在基板上。 本专利技术又一实施例中，各相邻的承座齿轮的齿纹将至少部分重叠且未相互接触，以致各相邻的承座齿轮被中央齿轮带动旋转时彼此之间不会相互干扰。本专利技术又一实施例中，各相邻的承座齿轮的齿纹将至少部分重叠，且在各相邻的承座齿轮中的其中一承座齿轮的齿纹位于另一承座齿轮的齿纹上方。本专利技术又一实施例中，至少两相邻的承座齿轮包括齿纹，至少两相邻的承座齿轮的齿纹啮合中央齿轮的齿纹。本专利技术又一实施例中，中央齿轮的齿纹厚度超过至少两相邻的承座齿轮的齿纹厚度。本专利技术又一实施例中，至少一材料层利用化学气相沉积方式形成在至少一基板上。以下结合附图和具体实施例对本专利技术进行详细描述，但不作为对本专利技术的限定。附图说明图IA及图IB :为描述一用以形成至少一材料在至少一基板上的旋转系统的一具体实施例；图2A:为描述旋转系统的一中央齿轮哨合各承座齿轮的一具体实施例；图2B :为描述旋转系统的一基板承座、一承座齿轮及一承座环处在一配置状态的一具体实施例；图3 :为描述一用以形成至少一材料在至少一基板上的旋转系统呈现其一基板承座的旋转部分的一具体实施例；图4 :为描述一用以形成至少一材料在至少一基板上的旋转系统呈现其一基板承座的旋转部分的又一具体实施例；图5A及图5B :为描述一反应系统的一具体实施例，反应系统包括一用以形成至少一材料在至少一基板上的旋转系统；图6 :为描述一旋转系统的一具体实施例的一俯视图，旋转系统包括一具有多个承座齿轮的载台，各承座齿轮是相互分离且围绕一中央齿轮；图7 :为描述一旋转系统的又一具体实施例的一俯视图,旋转系统包括一具有多个承座齿轮的载台，各承座齿轮围绕着一中央齿轮且相邻的各承座齿轮将至少部分重叠；图8 :为描述各承座齿轮的齿纹之间将会有至少部分重叠区域的一具体实施例的一侧视图。其中，附图标记100 旋转系统100’旋转系统110 载台1100反应系统1101入口1102 入口1103入口1104 入口1110喷气头组件1112表面1114表面1124加热装置1126承座轴1128载台轴1140出口1150 中央组件 1160反应腔112 旋转壳体114内齿轮116 外齿轮118马达120 中央齿轮130基板承座132 承座齿轮132A承座齿轮132B承座齿轮134承座环140 基板150间隔160 椭圆形162A齿纹162B 齿纹310承座轴320 滚珠轴承410承座轴420 滚珠轴承430内环具体实施例方式下面结合附图对本专利技术的结构原理和工作原理作具体的描述在本专利技术的内容中，“耦接”一词是指直接连接或间接连接(例如至少一介于中间的连接)在至少一物件或组件之中。请参阅图IA及图1B，为描述本专利技术旋转系统100的一具体实施例，本专利技术旋转系统100可将至少一材料形成在至少一基板上。某些实施例中，旋转系统100包括至少一载台110，至少一旋转壳体112、至少一内齿轮114、至少一外齿轮116及至少一马达118。一些实施例中，旋转系统100还包括至少一中央齿轮120。某些实施例中，旋转系统100还包括至少一基板承座130、至少一承座齿轮132及至少一承座环134。某些实施例中，基板承座130用以支撑基板140 (例如至少一晶圆(圆片))。一些实施例中，内齿轮114及外齿轮116形成一驱动配件，该驱动配件还可包括马达118。虽然上述旋转系统100是使用一选定的群组构件，然，本领域技术人员也可清楚明白该群组的各个构件也可轻易进行替代、更换或变化。例如一些组件可扩充及/或合并，其他构件可插入于那些扩充及/或合并的构件之中。再者，根据上述的实施例，各个构件的配置位置可与其他构件进行相互替换。某些实施例中，旋转壳体112的底部固定内齿轮114，而顶部直接或间接支撑载台110。一些实施例中，旋转壳体112的顶部固定载台110。本专利技术又一实施例中，内齿轮114啮合外齿轮116。另一实施例中，外齿轮116通过马达118驱动旋转，以致内齿轮114跟着旋转。根据于一实施例，内齿本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
2011.06.16 US 13/162,431;2011.10.26 US 13/282,1611.一种薄膜沉积系统，用以形成至少一材料层在至少一基板上，其特征在于，该薄膜沉积系统包括 一载台，绕一载台轴旋转； 至少一承座齿轮，设置在该载台之上，其中各承座齿轮与该载台一起绕该载台轴旋转，其中至少两相邻的该承座齿轮的齿纹至少部分重叠且未相互接触；及 一中央齿轮，啮合该承座齿轮，其中当该承座齿轮沿着该载台轴旋转时，该中央齿轮带动该承座齿轮绕其各自对应的承座轴旋转。2.根据权利要求I所述的薄膜沉积系统，其特征在于，各相邻的承座齿轮的齿纹将至少部分重叠且未相互接触，以致各相邻的承座齿轮被中央齿轮带动旋转时彼此之间不会相互干扰。3.根据权利要求I或2所述的薄膜沉积系统，其特征在于，各相邻的承座齿轮的齿纹将至少部分重叠，且在各相邻的承座齿轮中的其中一该承座齿轮的齿纹位于另一该承座齿轮的齿纹上方。4.根据权利要求I所述的薄膜沉积系统，其特征在于，该至少两相邻的承座齿轮包括啮合于该中央齿轮的齿纹。5.根据权利要求I或4所述的薄膜沉积系统，其特征在于，该中央齿轮的齿纹厚度超过该至少两相邻的承座齿轮的齿纹厚度。6.根据权利要求I所述的薄膜沉积系统，其特征在于，该载台轴不同于该承座轴。7.根据权利要求I所述的薄膜沉积系统，其特征在于，该中央齿轮位在该载台轴的中心。8.根据权利要求I所述的薄膜沉积系统，其特征在于，该至少一承座齿轮用以支撑至少一基板。9.根据权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨成傑，
申请(专利权)人：绿种子科技潍坊有限公司，
类型：发明
国别省市：
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