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晶圆载具制造技术

技术编号:7607952 阅读:324 留言:0更新日期:2012-07-22 16:12
本发明专利技术涉及一种晶圆载具,包括:一对侧板,所述一对侧板具有在其顶端形成的吊孔和插入孔;侧支撑杆,所述侧支撑杆固定在所述侧板的两侧,以使侧板相隔预定的距离,并且具有在内侧沿着长度方向由固定突出部形成的插槽;底部支撑杆,所述底部支撑杆固定在所述侧板的底部,以使侧板相隔预定的距离,并且具有在顶部沿着长度方向由固定突出部形成的插槽;及屏蔽杆,所述屏蔽杆可拆卸地插入所述插入孔中,并且具有在所述屏蔽杆的底部沿着长度方向由固定突出部形成的插槽;其中,形成所述插槽,以使所述插槽的中部低于在所述插槽的底表面的宽度方向上的两端。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种晶圆载具,尤其涉及一种可以防止容纳于晶圆载具中的大量的晶圆移动,通过固定突出部自然导向所容纳的晶圆,并且防止所述容纳的晶圆被损坏的晶圆载具。
技术介绍
通常,制造半导体器件是通过选择性地进行例如曝光、刻蚀、扩散、沉积等工艺的一系列过程来实现的,其中,所述扩散和沉积工艺是通过在高温环境下注入工艺气体并且使工艺气体在硅片上进行反应来实现的。用于进行这种工艺的半导体制造设备主要使用管 (tube)式炉(furnace)装置。通常,这种管式炉或类似装置使用一次装载大量的晶圆并且在其上进行工艺的分批(batch)方式,并且在制造半导体器件的工艺中用作形成薄膜或扩散杂质离子的装置。主要使用这类装置中的立式熔炉(vertical type furnace)。所述立式熔炉是化学气相沉积装置,其使用的工艺是在高温真空环境下,若将工艺气体注入工艺室,工艺气体相互反应,以形成反应物质,同时在低气压的空间内扩散反应物质,以在晶圆的表面上叠薄膜。作为用于容纳和传送大量晶圆的装置,载具已经被使用。在根据现有技术的常用载具中,在将板安装在载具的左右两侧的状态下,沿着板的周围表面固定多个座杆,使载具的顶部是敞开的,以在载具中容纳晶圆,并且将固定杆固定在敞开的顶部,以固定所容纳的晶圆并且保持晶圆在载具中安置的状态。此外,在所述座杆和固定杆的外周表面以预定的距离设置有多个固定突出部,从而可以将晶圆插入固定突出部之间。但是,在固定突出部之间插入晶圆时,因晶圆和固定突出部之间的接触而产生摩擦,因此,会发生在与固定突出部接触的表面上生成斑点的问题。
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题本专利技术是为了解决上述问题而提出的,本专利技术的目的在于提供一种可以防止容纳于晶圆载具中的大量的晶圆移动,通过固定突出部自然地导向所容纳的晶圆,并且防止所容纳的晶圆被损坏的晶圆载具。解决技术问题的技术手段为了实现本专利技术的上述目的,本专利技术具有下列配置。根据本专利技术的实施方式,晶圆载具包括一对侧板,所述一对侧板具有在其顶端形成的吊孔和插入孔;侧支撑杆,所述侧支撑杆固定在所述侧板的两侧,以使侧板相隔预定的距离,并且具有在其内侧沿着长度方向由固定突出部形成的插槽;底部支撑杆,所述底部支撑杆固定在所述侧板的底部,以使侧板相隔预定的距离,并且具有在其顶部沿着长度方向由固定突出部形成的插槽;及屏蔽杆,所述屏蔽杆可拆卸地插入所述插入孔中,并且具有在其底部沿着长度方向由固定突出部形成的插槽;其中,所述插槽形成为使所述插槽的中部低于在所述插槽的底表面的宽度方向上的两端。此外,优选地,所述插槽的底表面可以以选自曲线和倾斜面中的任意一种形成的。而且,优选地,所述固定突出部的截面形状可以具有所述固定突出部的宽度从底端向顶端逐渐变窄的形状。此外,优选地,所述固定突出部可以具有弯曲形状。而且,优选地,所述固定突出部可以具有其侧面的倾斜面在顶端相互接触的形状。此外,所述固定突出部的底端还可以设置有角形体。而且,所述角形体可以具有竖直形成的侧面或具有与所述固定突出部的倾斜面相比相对小的倾斜角。有益效果本专利技术具有如下效果防止容纳于晶圆载具中的大量的晶圆移动,通过固定突出部自然地导向所容纳的晶圆,并且防止晶圆被损坏。本专利技术还具有如下效果通过使容纳于插槽中的晶圆位于所述插槽的中心,防止晶圆因固定突出部而被损坏。本专利技术还具有如下效果通过使结合部件具有各种形状,提高载具内的附着力,从而防止晶圆水平移动,并且可以防止晶圆因在湿法或干法工艺中发生的温度变化或化学反应而被扭曲。附图说明图1是示意性地示出本专利技术的实施方式的晶圆载具的透视图;图2是示出图1所示的屏蔽杆的部分透视图;图3是示出图2所示的屏蔽杆的操作状态的部分截面图;图4和图5是示出根据本专利技术的实施方式的插槽的形状的部分截面图;图6至图9是示出容纳根据本专利技术的实施方式的晶圆的固定突出部的形状的部分截面图;图10至图12是示出本专利技术的实施方式的晶圆载具的操作状态的示意图。 具体实施例方式下文,将参照附图更详细地描述本专利技术的示例性实施例。可以以各种形式对本专利技术的示例性实施例进行变型,并且本专利技术的范围不应解释为受限于下文描述的示例性实施例。本专利技术的示例性实施例是为了给本领域的技术人员更详细地传达本专利技术的构思而提供的。因此,为了阐明本专利技术的描述,附图中示出的各组件的形状可能被放大。图1是示意性示出本专利技术的实施方式的晶圆载具的透视图,图2是示出图1所示的屏蔽杆的部分透视图。图3是示出图2所示的屏蔽杆的操作状态的部分截面图,图4和图5是示出根据本专利技术的实施方式的插槽的形状的部分截面图,图6至图9是示出容纳根据本专利技术的实施方式的晶圆的固定突出部的形状的部分截面图,以及图10至图12是示出本专利技术的实施方式的晶圆载具的操作状态的示意图。现在,将参照附图详细描述本专利技术的示例性实施例。参照图1和图2,晶圆载具10配置成包括侧板110、侧支撑杆120、底部支撑杆120a及屏蔽杆130。所述侧板110的顶部的两侧设置有环形吊孔112,插入孔114形成在所述吊孔112 之间,并且所述侧板Iio的一侧设置有与所述插入孔114连接的支撑面119。而且,在所述插入孔114的下方形成比所述插入孔114更扩大的弧形座孔116,并且沿着所述座孔116的表面形成结合孔118。即,形成一对侧板110,并且在侧板的彼此面对的位置设置有支撑面 119,以使下文描述的支撑板131可以结合在所述支撑面上。所述侧支撑杆120与所述侧板110的两侧连接,以保持侧板间的间隔恒定,并且在所述侧支撑杆120的内侧设置有插槽123,所述插槽123由固定突出部122在纵向方向上以预定的间隔形成。所述底部支撑杆120a设置在侧板的底端,以保持侧板间的间隔恒定。如同所述侧支撑杆120,在所述底部支撑杆120a的顶部设置有插槽123a,所述插槽123a由固定突出部 12 在纵向方向上形成。所述屏蔽杆130可拆卸地插入所述插入孔114,插入插槽中的晶圆可以被固定在晶圆载具上,并且在所述屏蔽杆130的底部可以设置有插槽133,所述插槽133由固定突出部132在纵向方向上形成。此外,屏蔽杆130的两端设置有固定在支撑面119上的支撑板 131,并且设置有从所述支撑板131延伸的结合部件134和从所述结合部件134延伸的板形把手136。此外,在所述结合部件134上设置有沿着其外周表面突出的阶梯件135。S卩,在晶圆载具中,在使侧板110彼此相隔恒定距离的状态下,形成有插槽123和 123a的侧支撑杆120和底部支撑杆120a固定所述侧板之间,并且在晶圆载具的顶部形成可以设置晶圆的空间,以将屏蔽杆130插入插入孔,并使晶圆固定地在载具的内部移动。在这种配置中,在弧形结合部件134中形成的阶梯件135被插入座孔116中的结合孔118的状态下,固定所述屏蔽杆130,从而通过阶梯件和结合孔防止所述屏蔽杆横向移动。例如,如图3所示,在将屏蔽杆130设置在侧板110的顶部的状态下,将晶圆W插入侧板之间,以固定在插槽上。此后,将安装在屏蔽杆130的两端的结合部件134插入所述插入孔114,并且在被插入的结合部件134安置在座孔116中的状态下,将阶梯件135插入结合孔118。在这种状态下,利用把手136旋转结合部件,以使结合部件本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:林钟显郑领哲刘泳钟金永均崔铉喆
申请(专利权)人:EMP有限公司
类型:发明
国别省市:

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