当进行挡板(21)的位置检测时，从检测器(光传感器)(24)例如照射激光(L)。照射的激光(L)经由腔室(1)的窗(25)到达挡板(21)。然后，由挡板(21)的表面反射并再次射入检测器(24)。检测器(24)检测从该激光(L)的射出到反射光的射入的时间。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及，详细而言，涉及高精度地检测挡板的保持位置的偏移的技术。
技术介绍
例如，在基板的被成膜面上形成薄膜的真空成膜装置，为了使作为成膜材料的靶表面洁净化并使成膜特性稳定化，在对成膜目标的基板进行成膜(溅射)的正式工序之前， 一般会对伪基板(以下也称为挡板)进行成膜(伪溅射)(例如，参照专利文献1)。当实施这种伪溅射时，在用于放置被成膜物的工作台上放置挡板并进行溅射。当在该工作台上放置挡板时，使具备保持挡板的臂的挡板机构动作，并使臂转动到与工作台重叠的位置。然后，在工作台上放置挡板。如此，由于工作台被挡板覆盖，因此能够防止在伪溅射时对工作台进行成膜。专利文献1 特开2003-158175号公报但是，如果挡板从预先设定的保持基准位置偏移的状态下保持于臂，则当放置在工作台上时，工作台的一部分有可能从该挡板伸出并暴露。如果工作台的一部分从挡板伸出，则当实施伪溅射时，就会存在工作台的暴露部分被成膜，成膜的薄膜飞散等，变为在对目标基板等进行成膜时的杂质等的问题。挡板从臂的保持基准位置偏移的原因，例如可以举出以下原因臂整体因重力向前端倾斜，或者因挡板的端部跃上形成于臂的限制挡板的保持位置的限制部件而挡板整体倾斜等。
技术实现思路
本专利技术的一方面的目的在于提供一种真空成膜装置，所述装置能够准确地检测伪溅射所使用的挡板的位置偏移，并将挡板放置于工作台上的规定的位置。另外，本专利技术的一方面的目的在于提供一种真空成膜装置的挡板位置检测方法， 所述方法能够准确地检测伪溅射所使用的挡板在保持该挡板的臂上是否位于保持基准位置。本专利技术的一方面所涉及的真空成膜装置的特征在于，具备腔室，内部保持真空； 工作台，在该腔室内形成，用于放置挡板；靶，与该工作台相对而配置；挡板机构，在所述工作台和所述靶之间插脱自如地形成，并具有用于保持所述挡板的臂；以及检测器，在所述挡板被所述臂保持的状态下，检测所述挡板从保持基准位置的偏移。所述检测器可以是检测向所述挡板照射的光由所述挡板反射的反射光的光传感O另外，所述检测器可以是使用固体摄像器件检测所述反射光的强度分布的光传感O优选地，所述检测器配置在所述腔室的外部。优选地，所述检测器配置在形成于所述臂且与所述挡板抵接而支撑的导销的附近。优选地，所述挡板具有两个以上的厚度不同的部位。另外，优选地，所述挡板的周缘部的厚度比中心部厚。此外，本专利技术的一方面所涉及的真空成膜装置的挡板位置检测方法的特征在于， 所述真空成膜装置具备腔室，内部保持真空；工作台，在该腔室内形成，用于放置挡板； 靶，与该工作台相对而配置；挡板机构，在所述工作台和所述靶之间插脱自如地形成，并具有用于保持所述挡板的臂；以及检测器，在所述挡板被所述臂保持的状态下，检测所述挡板从保持基准位置的偏移，其中，在至少一个以上的位置上测定所述检测器与所述挡板的距离，并检测所述挡板的保持位置的偏移。根据本专利技术的一个方面所涉及的真空成膜装置，当进行挡板的位置检测时，从检测器例如照射激光。所照射的激光经由腔室的窗到达挡板。然后，由挡板的表面反射并再次射入检测器。检测器检测从该激光的射出到反射光的射入的时间。例如，在挡板因往复移动等造成偏移，端部从导销偏离时，挡板相对于水平方向变为倾斜的状态。如果在该状态下从检测器射出激光，则激光再次射入检测器的时间被延长。检测器通过参照挡板预先位于保持基准位置时的时间，并与测定时的时间进行比较，从而能够确实地检测出挡板偏移到从导销偏离的位置。而且，通过从腔室外部经由观察窗等进行这样的挡板的位置偏移检测，无需对检测器附加与真空环境下等对应的特别的结构，就能够从常压的外部容易且确实地进行检测。另外，根据本专利技术的一个方面所涉及的真空成膜装置的挡板位置检测方法，通过在至少一个以上的位置上测定检测器与挡板的距离，并检测挡板的保持位置的偏移，从而能够容易地检测出挡板的位置偏移方向，且还能够高精度地检测出偏移量。附图说明图1是表示本专利技术的真空成膜装置的侧面剖视图。图2是表示本专利技术的真空成膜装置的俯视剖视图。图3是表示本专利技术的真空成膜装置的作用的主要部分放大剖视图。图4是表示本专利技术的真空成膜装置的其他实施方式的剖视图。图5是表示本专利技术的真空成膜装置的其他实施方式的俯视图。图6是表示本专利技术的真空成膜装置的其他实施方式的主要部分立体图。图7是表示本专利技术的真空成膜装置的其他实施方式的剖视图。图8是表示本专利技术的真空成膜装置的其他实施方式的俯视图。具体实施例方式下面，基于附图对本专利技术所涉及的真空成膜装置进行说明。此外，本实施方式是为了更好地理解专利技术宗旨而举出一例进行说明，只要没有特别指定，并不限定本专利技术。另外， 在以下说明所使用的附图中，为了易于理解本专利技术的特征，有时为了方便而放大显示主要4部分，各结构要素的尺寸比率等并不限于与实际相同。图1是表示本专利技术所涉及的真空成膜装置的一个结构例的(图2的b_b向)侧面剖视图，图2是图1中的a-a向俯视剖视图。真空成膜装置S具备限定成膜室的腔室1，与相邻于左方的传送室2经由闸阀3连接。在腔室1的上部固定有阴极组件4，在该阴极组件4的下部固定有作为成膜材料的靶 T，例如钛靶。靶T具有公知的结构，其保持部经由嵌合附着于腔室的上盖5的开口的安装部件5a被安装于上盖5。在成膜腔室1内隔开规定的距离而与靶T相对，作为阳极的基板电极组件6固定在成膜腔室1的底壁部。该基板电极组件6例如构成圆形，在其中央部以突起的状态一体形成有工作台6。另外，在该工作台6a的中央部，例如形成有四个沿上下方向延伸的贯通孔 6b，并形成有分别插通于这些贯通孔并可上下移动的四根支撑杆7a。这些支撑杆7a的下端部竖立设置于圆板7的上表面。圆板7的下表面的中央部固定在驱动轴14a，且向下方插通真空波纹管15并与上下驱动致动器10的驱动轴14连接。 在致动器10的上表面一体固定有驱动部安装板11，在该驱动部安装板11上固定有轴16a、 16b的下方部。在轴16a、16b的上部滑动自如地插通有固定在与安装板11并列设置在上方的引导安装板12上的一对轴向引导部件13a、13b。据此，引导安装板12能够准确地沿上下方向移动。即，将致动器10的驱动轴14的上下方向的移动力准确地传递以作为位于其上方部的支撑杆7a的上下方向的移动力。另外，在成膜腔室1内，在与平面形状构成为长方形的闸阀3相对的部分形成有具有缺口的箱型防附着部件8a。另外，覆盖防附着部件8a的缺口部的板状的防附着部件8c 设置在成膜腔室1内。另一方面，防附着部件8c如点划线所示上下移动，在图示的实线的位置进行成膜。另外，在将应成膜的基板从传送室2搬入成膜腔室1内，且向传送室2搬出成膜后的基板时，防附着部件8c移动到点划线所示的下方位置。这样的真空成膜装置S在对目标基板进行成膜之前，以靶T的表面的洁净化等为目的，进行被称为所谓的伪溅射的事先溅射。设置有挡板机构18，在该伪溅射时，相对于靶 T覆盖工作台6a的表面(上表面)，以防止在工作台6a上形成薄膜。挡板机构18具备相对于靶T覆盖工作台6a的挡板21以及形成有在一个面上保持挡板21的挡板保持部9a的臂％。另外，挡板机构18具备垂直固定于该臂9b的下端部的驱动轴9c以及驱动该驱动轴9c的致动器9d。进而，在挡板保持部9a上形成有从背面侧支撑本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：藤井佳词，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：
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