本实用新型专利技术创造涉及化学气相沉积法涂层装置。采用的技术方案是：包括反应炉，反应炉内设有支撑筒，支撑筒上端设有排气帽，反应炉和支撑筒之间为尾气通道，支撑筒内从上到下依次为沉积区、气体分配区和预热区；沉积区内：设有若干托盘），托盘上设有若干通气孔Ⅰ；气体分配区内：支架Ⅰ固定挡板，挡板上端安装至少三层隔板，支架Ⅱ固定隔板，隔板上设有若干通气孔Ⅱ；预热区内：安装若干层预热板，进气管的出口端与气体分配区相通，支撑筒在预热区部位的下端设有尾气入口，预热区的下端设有尾气出口。还设有加热炉，反应炉置于加热炉内。采用本实用新型专利技术创造的涂层装置，涂层均匀度高，具有较高的附着力，提高了产品的耐磨损性和耐缺损性。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本专利技术创造涉及一种给模具或刀片涂层的装置，具体地涉及一种采用化学气相沉积法对模具或刀片或金属零件的表面均勻涂层的装置。
技术介绍
在机加工企业，大量使用钢质模具，硬质合金模具，硬质合金刀片及金属零部件， 现有产品，大都是直接采用钢材或合金加工后，即使用，由于表面无涂层，其耐磨损性能差， 使用寿命短，给企业造成生产成本提高，也有对钢质模具，硬质合金模具，硬质合金刀片及金属零部件等表面进行涂层的，但大都采用物理法，涂层不均勻，附着力低，因此同样影响使用寿命。
技术实现思路
为了解决以上问题，本专利技术创造提供一种采用化学气相沉积原理的涂层装置，采用本专利技术创造的涂层装置，基体涂层均勻度高，涂层具有较高的附着力，提高了产品的耐磨损性和耐缺损性。本专利技术创造采用的技术方案是化学气相沉积法涂层装置，包括反应炉，反应炉内设有支撑筒，支撑筒上端设有排气帽，支撑筒内从上到下依次为沉积区、气体分配区和预热区；沉积区内设有若干托盘，托盘上设有若干通气孔I ；气体分配区内支架I固定挡板， 挡板上端安装至少三层隔板，支架II固定隔板，隔板上设有若干通气孔II ；预热区内安装若干层预热板，进气管的出口端与气体分配区相通，支撑筒在预热区部位的下端设有尾气入口，预热区的下端设有尾气出口。上述的化学气相沉积法涂层装置在气体分配区内不同层隔板上的通气孔II的孔径相同或不同。上述的化学气相沉积法涂层装置在气体分配区内从最下层隔板向最上层隔板，不同层隔板上的通气孔II的孔径依次增加。上述的化学气相沉积法涂层装置设有加热炉，反应炉置于加热炉内。上述的化学气相沉积法涂层装置加热炉分成若干段加热区，每段加热区由接线柱、加热装置和热电偶组成。上述的化学气相沉积法涂层装置加热炉内从内到外依次设有绝缘隔离层、保温层I和保温层II。本专利技术创造的有益效果是化学气相沉积法(CVD)是将各种混合气体充入高温的反应管内，以化学方式，使基体表面生成超硬颗粒物质的技术工程。是从气体状态，不经过液体，直接过渡为固体状态的生长方式，形成几微米到十几微米厚度的膜。本专利技术的优点是①由于在气体分配区采用独特的结构，使混合气体在上升过程中，经挡板和隔板的两次分散，不仅降低了流速，而且使气体以更加均勻分布的状态进入沉积区，进而对托盘内的基体进行均勻的涂层。②本专利技术创造采用化学气相沉积法的原理，采用常压热CVD法，对基体表面进行TiC，TiCN, TiN的CVD涂层。由气态直接在基体表面涂层，涂层均勻度高，以基体为硬质合金为例，附着力可达100N以上，提高了产品的耐磨性和耐腐蚀性，降低了高温时化学粘着磨损，从而延长了产品的使用寿命，为企业节约了生产成本。③本专利技术创造适用于对硬质合金刀片、拉丝模、喷嘴、模具、金属成型模具和挤压模具表面的涂层。即可以对基体表面涂单层，也可以根据需要涂多层。④反应主要在沉积区进行，反应温度经常达到900 2000°C，由于本专利技术创造对加热炉采用分段式加热，可以根据不同区域的温度，控制不同分段的温度，使沉积区的温度高，而对于气体分配区和预热区的温度可以降低加热炉相对应分段的温度，节约了能源。⑤充分利用尾气的余热，反应后的尾气经反应炉和支撑筒之间的尾气通道和尾气入口导入预热区，进一步预热混合气体，充分利用了能源，进一步节约了能源。附图说明图1是本专利技术创造实施例1的结构示意图。图2是托盘的结构示意图。图3是隔板的结构示意图。图4是本专利技术创造实施例2的结构示意图。具体实施方式实施例1如图1 图3所示，化学气相沉积法涂层装置包括反应炉(1)，反应炉(1)内设有支撑筒(3)，支撑筒(3)上端设有排气帽(2)，反应炉(1)和支撑筒(3)之间的空隙为尾气通道，支撑筒(3)内从上到下依次为沉积区(4)、气体分配区(5)和预热区(6);沉积区(4)内 设有若干托盘(41)，托盘(41)上设有若干通气孔I (42);气体分配区(5)内支架I (54) 固定挡板(53)，挡板(53)上端安装至少三层隔板(51)(本实施例安装四层隔板)，支架II (52)固定隔板(51)，隔板(51)上设有若干通气孔II (55)；预热区(6)内安装若干层预热板(63)，进气管(61)的出口端与气体分配区(5)相通，支撑筒(3)在预热区部位的下端设有尾气入口(62)，预热区(6)的下端设有尾气出口(64)。在气体分配区(5)内从最下层隔板向最上层隔板，不同层隔板(51)上的通气孔 II (55)的孔径依次增加。即最下层隔板上的通气孔的孔径最小，向上依次增加，最上层隔板上的通气孔的孔径最大。实施例2如图4所示，一种化学气相沉积法涂层装置在实施例1的基础上，还设有加热炉 (7)，反应炉(1)置于加热炉(7)内。加热炉(7)分成若干段加热区(本实施例设置5段加热区)，每段加热区由接线柱 (71)、加热装置(73)和热电偶(72)组成。加热炉(7)内从内壁到外壁依次设有绝缘隔离层(74)、保温层I (75)和保温层II (76)。保温层I (75)采用耐火材料制成，保温层II (76)采用石棉材料。本专利技术创造的工作原理是以在基体上涂TiC层为例，将加热炉罩在反应炉外，利用加热炉对反应炉加热。将气态的TiCl4和CH4混合后，通入进气管，在预热区预热后，进入气体分配区，首先经挡板分散，混合气体经挡板四周向上流动，经隔板，穿插通过通气孔 II，由于通气孔II的孔径从下向上，依次增加，混合气体在上升过程中，降低了流速，以均勻的分布进入沉积区。沉积区的温度可达900 2000°C，混合气体(即反应气体)向基体表面扩散，吸附于基体的表面，在基体表面发生化学反应，在基体表面留下不挥发的固体反应产物——即TiC薄膜，而在基体表面产生的气相副产物，即HCl气体脱离基体表面，经排气帽流入支撑筒和反应炉之间的尾气通道，向下运动，经尾气入口进入预热区，利用HCl气体的余热对进入的混合气体进一步预热，然后经尾气出口排出。权利要求1.化学气相沉积法涂层装置，包括反应炉(1)，其特征在于反应炉(1)内设有支撑筒 (3)，支撑筒(3)上端设有排气帽(2)，支撑筒(3)内从上到下依次为沉积区(4)、气体分配区 (5)和预热区(6);沉积区(4)内设有若干托盘(41)，托盘(41)上设有若干通气孔I (42); 气体分配区(5)内支架I (54)固定挡板(53)，挡板(53)上端安装至少三层隔板(51)，支架II (52)固定隔板(51)，隔板(51)上设有若干通气孔II (55)；预热区(6)内安装若干层预热板(63)，进气管(61)的出口端与气体分配区(5)相通，支撑筒(3)在预热区部位的下端设有尾气入口( 62 )，预热区(6 )的下端设有尾气出口( 64 )。2.如权利要求1所述的化学气相沉积法涂层装置，其特征在于在气体分配区(5)内 不同层隔板(51)上的通气孔II (55)的孔径相同或不同。3.如权利要求2所述的化学气相沉积法涂层装置，其特征在于在气体分配区(5)内 从最下层隔板向最上层隔板，不同层隔板(51)上的通气孔II (55)的孔径依次增加。4.如权利要求1、2或3所述的化学气相沉积法涂层装置，其特征在于设有加热炉 (7)，反应炉(1)置于加热炉(7)内。5.如权利要求4所述的化学气相沉积法涂层装置，其特征在本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：朴万成，黄宇哲，李成哲，金哲男，金上万，李权星，王宏刚，
申请(专利权)人：沈阳金研机床工具有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。