【技术实现步骤摘要】
本技术主要涉及一种化学气相沉积法中，用于尾气排放的装置，具体涉及一种尾气吸收塔。
技术介绍
化学气相沉积（CVD）是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，是在相当高的温度下，混合气体与基体表面相互作用，使混合气体中的某些成分分解，并在基体上形成一种金属或化合物的固态薄膜或镀层。近年来，为了提高金属切削工具及金属材料的耐磨性，也采用CVD 技术进行表面薄膜或镀层。在CVD方法中，基本组成包含初始气源，而初始起源包括惰性气体（如氮或氩），还原气体（如氢气）以及各种反应气体（如甲烷、二氧化碳、水蒸气、氨）。大量混合气体进入反应室，CVD的反应温度通常为900～2000℃，因此，高温下，产生大量的酸性气体，如果将这些尾气直接排入大气中，势必对环境造成很大的破坏。
技术实现思路
为了解决以上问题，本技术提供一种净化尾气，减少对环境造成危害的尾气吸收塔。本技术是通过如下技术方案实现的：尾气吸收塔，包括塔体，塔体上、下两端分别设有尾气入口和尾气出口，其特征在于：塔体下端设有吸收液出口，点火装置安装在尾气入口的下端，在塔体内尾气入口的上端安装伞形挡板，伞形挡板上端安装喷淋装置Ⅰ，尾气出口通过管路与引风机连接。上述的尾气吸收塔，为了进一步净化进入大气中的尾气，在塔体内还设有喷淋装置Ⅱ，喷淋装置Ⅱ安装在尾气出口的下端。本技术的有益效果是：本技术由于设置了点火装置，CVD反应产生的尾气经管道进入点火装置，点火后产生的烟气，在引风机的作用下，从尾气入口进入塔体内。由于设有喷淋装置，由喷淋装置喷淋碱性中和液，...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.尾气吸收塔，包括塔体（3），塔体（3）上、下两端分别设有尾气入口（6）和尾气出口（1），其特征在于：塔体（3）下端设有吸收液出口（9），点火装置（8）安装在尾气入口（6）的下端，在塔体（3）内尾气入口（6）的上端安装伞形...
【专利技术属性】
技术研发人员：朴万成，黄宇哲，李成哲，金哲男，金上万，李权星，王宏刚，王树才，申光哲，梁旭光，
申请(专利权)人：沈阳金研机床工具有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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